一种瓷砖淋釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出来一种瓷砖淋釉装置，主要用于瓷砖施釉工作，包括用于储存釉料的釉料筒、用于淋釉的淋釉机构，淋釉机构设置在传送装置的上方，淋釉装置包括钟罩式釉料展盘和设置在釉料展盘上方的淋釉漏斗，在釉料筒内设有釉料泵并通过进料管连接至淋釉漏斗；釉料展盘之上设有用于调节施釉面积的调节器，包括第一阻挡板、第二阻挡板和将上述两条阻挡板连接的收缩部。本实用新型专利技术的有益效果是:该淋釉装置能够十分便利的调节施釉面积，有效的提高了生产力。

【技术实现步骤摘要】
一种瓷砖淋釉装置
本技术涉及瓷砖加工设备领域，具体是一种瓷砖淋釉装置。
技术介绍
釉面砖在制作过程中，施釉是其中最重要的步骤之一，施釉的工艺质量能够最终决定瓷砖的成品质量。目前普遍应用的施釉方法有三种：喷釉、浸釉和淋釉。由于喷釉容易施釉不均，浸釉又容易导致釉层过厚，因此淋釉是普遍优选的实施方式。但目前的瓷砖淋釉产线，一般一条只能适应一种尺寸的瓷砖的施釉，当面对不同尺寸的瓷砖施釉时需要暂停产线，更换不同尺寸的施釉盘，使之适应不同尺寸瓷砖的施釉，降低了生产线的生产效率。且在淋釉过程中釉料的喷淋及回收效率较低，造成釉料的浪费严重。
技术实现思路
针对上述不足，本技术提出来一种瓷砖淋釉装置，该淋釉装置能够十分便利的调节施釉面积，有效的提高了生产力，且釉料回收便利。为了实现上述技术目的，本技术是通过如下技术方案来实现的：一种瓷砖淋釉装置，包括用于储存釉料的釉料筒、用于淋釉的淋釉机构，淋釉机构设置在传送装置的上方；所述淋釉机构包括钟罩式釉料展盘和设置在釉料展盘上方的淋釉漏斗，在所述釉料筒内设有釉料泵并通过进料管连接至所述淋釉漏斗；所述釉料展盘之上设有用于调节施釉面积的调节器，所述调节器包括收缩部和设置在所述收缩部两端的第一阻挡板、第二阻挡板。上述技术方案中，所述釉料展盘由铁质材料制成，所述第一阻挡板、第二阻挡板内部分别设有磁铁。上述技术方案中，所述釉料展盘顶部凸起形成圆台，所述淋釉漏斗设置在所述圆台的上方，所述收缩部将所述圆台部分包围。上述技术方案中，在所述传送装置的下方与釉料展盘相对的位置设有回收盘，在回收盘的最低点设有回流口并通过回收管连接至所述釉料筒内。上述技术方案中，所述釉料筒上方设置有搅拌电机，电机轴穿入釉料筒内部并设有叶轮。本技术的有益效果是：釉料展盘上设置调节器，通过调节第一阻挡板与第二阻挡板之间的夹角，进而调节施釉面积，调节十分便利，有效的提高了生产力；且釉料回收便利，不易造成釉料浪费。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为本技术的结构示意图。图3为本技术釉料展盘和调节器的结构示意图。具体实施方式下面结合附图与实施例来对本技术做出进一步详细描述。结合图1-3，一种瓷砖淋釉装置，包括用于储存釉料的釉料筒1、用于淋釉的淋釉机构2，淋釉机构2设置在传送装置3的上方，包括钟罩式釉料展盘20和设置在釉料展盘20上方的淋釉漏斗21，在釉料筒1内设有釉料泵10并通过进料管11连接至淋釉漏斗21。如此设置，釉料筒1内的釉料经过釉料泵10、进料管11源源不断的输送至淋釉漏斗21内，釉料自然向下流出并在釉料展盘20表面形成釉帘，以此完成淋釉操作。但目前的瓷砖淋釉产线，一般一条只能适应一种尺寸的瓷砖的施釉，当面对不同尺寸的瓷砖施釉时需要暂停产线，更换不同尺寸的施釉盘，使之适应不同尺寸瓷砖的施釉，降低了生产线的生产效率。本实施例当中，釉料展盘20之上设有用于调节施釉面积的调节器4，包括收缩部42和设置在收缩部两侧的第一阻挡板40、第二阻挡板41。进一步的，釉料展盘20由铁质材料制成，第一阻挡板40、第二阻挡板41内部分别设有磁铁43。再进一步的，釉料展盘20顶部凸起形成圆台00，淋釉漏斗21设置在圆台00的上方，收缩部42将圆台00部分包围。上述调节器4的操作过程是：在淋釉工作开始之前，调节第一阻挡板40、第二阻挡板41之间的夹角，通过第一阻挡板40、第二阻挡板41内的磁铁43吸附在釉料展盘20表面，保证施釉面积大于瓷砖边长，以此完成调节工作。在本实施例当中，在传送装置3的下方与釉料展盘20相对的位置设有回收盘5，在回收盘5的最低点设有回流口50并通过回收管51连接至釉料筒1内，能够十分便利的回收釉料，避免釉料浪费。在本实施例当中，釉料筒1上方设置有搅拌电机12，电机轴穿入釉料筒1内部并设有叶轮13，通过搅拌电机12带动叶轮13旋转，能够十分便利的对釉料进行搅拌，保证釉料均匀，保证釉料品质。本文中所描述的具体实施例仅仅是对本技术精神作举例说明。本技术所述
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本技术的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种瓷砖淋釉装置，其特征在于：包括用于储存釉料的釉料筒(1)、用于淋釉的淋釉机构(2)，淋釉机构(2)设置在传送装置(3)的上方；所述淋釉机构(2)包括钟罩式釉料展盘(20)和设置在釉料展盘(20)上方的淋釉漏斗(21)，在所述釉料筒(1)内设有釉料泵(10)并通过进料管(11)连接至所述淋釉漏斗(21)；所述釉料展盘(20)之上设有用于调节施釉面积的调节器(4)，所述调节器包括收缩部(42)和设置在所述收缩部(42)两端的第一阻挡板(40)、第二阻挡板(41)。/n

【技术特征摘要】
1.一种瓷砖淋釉装置，其特征在于：包括用于储存釉料的釉料筒(1)、用于淋釉的淋釉机构(2)，淋釉机构(2)设置在传送装置(3)的上方；所述淋釉机构(2)包括钟罩式釉料展盘(20)和设置在釉料展盘(20)上方的淋釉漏斗(21)，在所述釉料筒(1)内设有釉料泵(10)并通过进料管(11)连接至所述淋釉漏斗(21)；所述釉料展盘(20)之上设有用于调节施釉面积的调节器(4)，所述调节器包括收缩部(42)和设置在所述收缩部(42)两端的第一阻挡板(40)、第二阻挡板(41)。


2.根据权利要求1所述的一种瓷砖淋釉装置，其特征在于：所述釉料展盘(20)由铁质材料制成，所述第一阻挡板(40)、第二阻挡板(41)内部分别设有磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷涛，贾金根，
申请(专利权)人：江西金泰源陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36