透光性材料及灯以及气体处理装置及气体处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制污染物质附着于表面并且在附着有污染物质的情况下也能够容易地除去的透光性材料及具备由该透光性材料构成的发光管的灯以及利用了该透光性材料的气体处理装置及气体处理方法。本发明专利技术的透光性材料是在玻璃基体的表面形成纳米二氧化硅粒子的表层而成的。本发明专利技术的灯具备由上述透光性材料构成的发光管，上述表层形成于发光管的外表面。本发明专利技术的气体处理装置具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室及以至少发光管的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线灯，在紫外线灯中的发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透光性材料及灯以及气体处理装置及气体处理方法
本专利技术涉及透光性材料及具备由该透光性材料构成的发光管的灯以及利用紫外线对包含有害物质的气体进行处理的气体处理装置及气体处理方法。
技术介绍
以往，作为处理包含有害物质的气体的方法，已知利用紫外线的方法。例如，在专利文献1中公开了在供被处理气体流通的外壳内配置放射波长200nm以下的真空紫外线的紫外线灯而构成的气体处理装置。在该气体处理装置中，通过对被处理气体中所包含的氧照射真空紫外线来产生臭氧、氧自由基等活性种，并利用该活性种分解被处理气体中所包含的有害物质。此外，在专利文献2中公开了在供被处理气体流通的容器内配置光催化剂部和紫外线灯而构成的气体处理装置。在该气体处理装置中，通过对光催化剂部照射紫外线来使光催化剂活性化，并由活性化了的光催化剂分解被处理气体中所包含的有害物质。然而，在这样的气体处理装置中，由于被处理气体与紫外线灯的发光管的外表面接触，因此被处理气体中所包含的尘埃、水溶性或油溶性的有机物质、由紫外线或光催化剂产生的分解生成物等污染物质附着于该发光管的外表面。特别是在紫外线灯为放射波长200nm以下的真空紫外线的紫外线灯的情况下，由于被照射真空紫外线，发光管的外表面的亲水性越来越强，因此上述的倾向显著发生。其结果，从紫外线灯放射的紫外线在发光管的外表面被遮蔽，由此，存在对被处理气体、光催化剂照射的紫外线的照度降低的问题。此外，当这样的污染物质附着于发光管的外表面时，不容易除去该污染物质，存在紫外线灯的维护非常繁杂的问题。此外，在专利文献3中公开了具有供被处理气体流通的壳体、设置于该壳体内的筒状的紫外线透过窗部件及收容于该紫外线透过窗部件的紫外线灯的气体处理装置。在该气体处理装置中，通过紫外线透过窗部件将紫外线灯从被处理气体的流路隔离，因此被处理气体不会与紫外线灯的发光管的外表面接触，因此避免了污染物质附着于紫外线灯的发光管的外表面的问题。然而，由于被处理气体与紫外线透过窗部件的外表面接触，因此污染物质等附着于该外表面，结果，存在对被处理气体、光催化剂照射的紫外线的照度降低的问题。而且，不限于使用于气体处理装置的紫外线灯，在尘埃、污染物质容易附着的环境下使用的灯中，存在由于污染物质附着于发光管的外表面而光的照度降低的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-207536号公报专利文献2：日本特开2011-147874号公报专利文献3：日本特开2001-170453号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的第一目的在于提供能够抑制污染物质附着于表面并且即使在附着有污染物质的情况下也能够容易地除去的透光性材料。本专利技术的第二目的在于提供能够抑制污染物质附着于发光管的表面并且即使在该发光管的外表面附着有污染物质的情况下也能够容易地除去的灯。本专利技术的第三目的在于提供能够抑制由于污染物质附着于紫外线灯的发光管的外表面、紫外线透过窗部件的表面而发生的紫外线的照度的降低并且即使在附着有污染物质的情况下也能够容易地除去的气体处理装置及气体处理方法。用于解决课题的方案本专利技术的透光性材料的特征在于，所述透光性材料是在玻璃基体的表面形成纳米二氧化硅粒子的表层而构成的。在本专利技术的透光性材料中，优选上述纳米二氧化硅粒子的平均粒径小于100nm。此外，优选上述玻璃基体具有紫外线透过性。此外，优选上述玻璃基体由二氧化硅玻璃构成。在这样的透光性材料中，优选上述纳米二氧化硅粒子的平均粒径为50nm以下。本专利技术的灯的特征在于，具备由上述的透光性材料构成的发光管，上述表层形成于上述发光管的外表面。在本专利技术的灯中，优选该灯放射紫外线。此外，优选构成为放射波长200nm以下的真空紫外线的准分子放电灯。本专利技术的气体处理装置具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室及以至少发光管的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线灯而构成，其特征在于，在上述紫外线灯中的上述发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。在这样的气体处理装置中，优选上述发光管由石英玻璃构成。此外，本专利技术的气体处理装置具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室、以至少表面的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线透过窗部件及经由该紫外线透过窗部件向上述处理室内照射紫外线的紫外线灯而构成，其特征在于，在上述紫外线透过窗部件中的露出于上述处理室的表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。在这样的气体处理装置中，优选上述紫外线透过窗部件由石英玻璃构成。在本专利技术的气体处理装置中，优选上述纳米二氧化硅粒子的平均粒径小于100nm。此外，优选上述紫外线灯为准分子灯。此外，本专利技术的气体处理装置也可以对包含挥发性有机化合物的被处理气体进行处理。本专利技术的气体处理方法利用以至少发光管的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线灯对在处理室流通的被处理气体照射紫外线，其特征在于，在上述紫外线灯中的上述发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。此外，本专利技术的气体处理方法，经由以至少表面的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线透过窗部件对在处理室流通的被处理气体照射紫外线，其特征在于，在上述紫外线透过窗部件中的露出于上述处理室的表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。此外，本专利技术的气体处理方法从以至少发光管的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线灯对配置于供被处理气体流通的处理室内的光催化剂照射紫外线，其特征在于，在上述紫外线灯中的上述发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。此外，本专利技术的气体处理方法经由以至少表面的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线透过窗部件对配置于供被处理气体流通的处理室内的光催化剂照射紫外线，其特征在于，在上述紫外线透过窗部件中的露出于上述处理室的表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。在本专利技术的气体处理方法中，上述被处理气体也可以包含挥发性有机化合物。专利技术效果根据本专利技术的透光性材料，由于在表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层，因此能够抑制污染物质附着于表面，并且即使在附着有污染物质的情况下也能够容易地除去。此外，根据本专利技术的灯，由于在发光管的表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层，因此能够抑制污染物质附着于该发光管的表面，并且即使在该发光管的外表面附着有污染物质的情况下也能够容易地除去。根据本专利技术的气体处理装置及气体处理方法，通过在露出于供被处理气体流通的处理室的紫外线灯的发光管的外表面或紫外线透过窗部件的表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层，抑制污染物质附着于该表面。因此，能够抑制因污染物质附着于发光管的外表面或紫外线透过窗部件的表面而发生的紫外线的照度的降低，并且即使在发光管的外表面或紫外线透过窗部件的表面附着有污染物质的情况下也能够容易地除去。附图说明图1是示出本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透光性材料，其特征在于，/n所述透光性材料是在玻璃基体的表面形成纳米二氧化硅粒子的表层而构成的。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180522 JP 2018-097745;20180604 JP 2018-1067011.一种透光性材料，其特征在于，
所述透光性材料是在玻璃基体的表面形成纳米二氧化硅粒子的表层而构成的。


2.根据权利要求1所述的透光性材料，其特征在于，
所述纳米二氧化硅粒子的平均粒径小于100nm。


3.根据权利要求1或2所述的透光性材料，其特征在于，
所述玻璃基体具有紫外线透过性。


4.根据权利要求3所述的透光性材料，其特征在于，
所述玻璃基体由二氧化硅玻璃构成。


5.根据权利要求4所述的透光性材料，其特征在于，
所述纳米二氧化硅粒子的平均粒径为50nm以下。


6.一种灯，其特征在于，
具备由权利要求1～5中任一项所述的透光性材料构成的发光管，所述表层形成于所述发光管的外表面。


7.根据权利要求6所述的灯，其特征在于，
所述灯放射紫外线。


8.根据权利要求7所述的灯，其特征在于，
构成为放射波长200nm以下的真空紫外线的准分子放电灯。


9.一种气体处理装置，具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室及以至少发光管的一部分露出于所述处理室的方式配置的紫外线灯而构成，其特征在于，
在所述紫外线灯中的所述发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。


10.根据权利要求9所述的气体处理装置，其特征在于，
所述发光管由石英玻璃构成。


11.一种气体处理装置，具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室、以至少表面的一部分露出于所述处理室的方式配置的紫外线透过窗部件及经由该紫外线透过窗部件向所述处理室内照射紫外线的紫外线灯而构成，其特征在于，
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【专利技术属性】
技术研发人员：内藤敬祐，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP