【技术实现步骤摘要】
射频开关相关申请的交叉引用本申请是于2019年7月17日提交的美国申请第16/514,174号的继续申请,其要求于2019年5月8日提交的美国临时专利申请第62/844,878号的权益,这些申请的全部内容以引用方式并入本文。
本公开涉及射频(RF)器件,并且更具体地涉及可在RF调谐应用中使用的RF开关。
技术介绍
RF开关是用于无线系统的前端部(诸如手持机或基站)的重要部件。具体地,RF开关可用于阻抗(即,馈电点)调谐(即,匹配),以在功率放大器和天线之间进行最大功率传输。另外,RF开关可用于孔径调谐(即,匹配),以在天线与其操作环境之间进行最大功率传输。例如,可主动地控制多个RF开关的导通/关断,以将多种阻抗组合耦接/解耦到前端,以响应于变化的操作条件来优化前端性能。许多无线应用需要RF开关在物理上较小,以处理高功率并且具有低的功率耗散(即,损耗)。因此,低的插入损耗、高的隔离度和高的击穿电压是RF开关的重要要求。然而,满足所有这些要求可能很困难,尤其是在无线系统移动到较高频率时。因此,需要新的RF开关电路和方法来满足无线系统的要求,尤其是在高频下。
技术实现思路
在至少一个方面,本公开描述了一种射频(RF)开关。该RF开关包括第一III-V晶体管,该第一III-V晶体管耦接在RF开关的输入与旁路连接节点之间。第一III-V晶体管可由施加至第一III-V晶体管的栅极的第一控制信号控制。该RF开关还包括第二III-V晶体管,该第二III-V晶体管耦接在旁路连接节点与RF开关 ...
【技术保护点】
1.一种射频(RF)开关,所述射频开关包括:/n第一III-V晶体管,所述第一III-V晶体管耦接在所述RF开关的输入与旁路连接节点之间,所述第一III-V晶体管能够由施加至所述第一III-V晶体管的栅极的第一控制信号控制;/n第二III-V晶体管,所述第二III-V晶体管耦接在所述旁路连接节点与所述RF开关的输出之间,所述第二III-V晶体管能够由施加至所述第二III-V晶体管的栅极的所述第一控制信号控制;和/n至少一个绝缘体上硅(SOI)晶体管,所述至少一个SOI晶体管耦接在所述旁路连接节点与接地之间,所述至少一个SOI晶体管能够由施加至所述至少一个SOI晶体管的栅极的第二控制信号控制。/n
【技术特征摘要】
20190508 US 62/844,878;20190717 US 16/514,1741.一种射频(RF)开关,所述射频开关包括:
第一III-V晶体管,所述第一III-V晶体管耦接在所述RF开关的输入与旁路连接节点之间,所述第一III-V晶体管能够由施加至所述第一III-V晶体管的栅极的第一控制信号控制;
第二III-V晶体管,所述第二III-V晶体管耦接在所述旁路连接节点与所述RF开关的输出之间,所述第二III-V晶体管能够由施加至所述第二III-V晶体管的栅极的所述第一控制信号控制;和
至少一个绝缘体上硅(SOI)晶体管,所述至少一个SOI晶体管耦接在所述旁路连接节点与接地之间,所述至少一个SOI晶体管能够由施加至所述至少一个SOI晶体管的栅极的第二控制信号控制。
2.根据权利要求1所述的RF开关,其中所述第一III-V晶体管和所述第二III-V晶体管为砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)或氮化镓(GaN)。
3.根据权利要求1所述的RF开关,其中所述第一控制信号和所述第二控制信号为将所述RF开关控制为处于导通状态或关断状态的互补的导通/关断信号;
其中在所述导通状态下,所述第一III-V晶体管和所述第二III-V晶体管为导通以在所述RF开关的所述输入和所述输出之间产生低阻抗路径,并且所述至少一个SOI晶体管为关断以将接地与所述低阻抗路径隔离;并且
其中在所述关断状态下,所述第一III-V晶体管和所述第二III-V晶体管为关断以在所述输入和所述输出之间产生高阻抗路径,并且所述至少一个SOI晶体管为导通以将所述高阻抗路径短路至接地。
4.根据权利要求1所述的RF开关,其中所述第一III-V晶体管和所述第二III-V晶体管的击穿电压高于所述至少一个SOI晶体管的击穿电压;并且
其中所述至少一个SOI晶体管耦接至的电压低于耦接至所述第一III-V晶体管或所述第二III-V晶体管的电压。
5.根据权利要求1所述的RF开关,其中所述至少一个SOI晶体管为串联连接的一组SOI晶体管;并且
其中所述一组SOI晶体管中的SOI晶体管的数量对应于所述第一III-V晶体管或所述第二III-V晶体管的击穿电压。...
【专利技术属性】
技术研发人员:G·P·威尔,
申请(专利权)人:半导体元件工业有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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