柔性OLED装置及其制造方法以及支承基板制造方法及图纸

根据本公开的柔性OLED装置的制造方法，准备层叠结构体(100)的工序，层叠结构体(100)包括基座(10)、包括TFT层以及OLED层的功能层区域(20)、位于基座和功能层区域之间且支承功能层区域的柔性膜(30)以及位于柔性膜和功能层区域的电介质多层膜镜(36)；以及用透射基座的剥离光(216)照射柔性膜并从基座剥离柔性膜的工序。

Flexible OLED device, manufacturing method and supporting substrate thereof

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】柔性OLED装置及其制造方法以及支承基板
本公开涉及一种柔性OLED装置及其制造方法。此外，本专利技术还涉及一种柔性OLED装置的制造方法中所使用的支承基板。
技术介绍
柔性显示装置的典型示例包括由聚酰亚胺等合成树脂形成的膜(以下称为“树脂膜”)、由树脂膜支承的TFT(ThinFilmTransistor)以及OLED(OrganicLightEmittingDiode)等元件。树脂膜作为柔性基板起作用。由于构成OLED的有机半导体层容易因水蒸气而劣化，因此柔性显示装置通过阻气膜(密封膜)密封。柔性显示装置的制造能使用上面形成有树脂膜的玻璃基板进行。玻璃基板在制造工序中作为将树脂膜的形状维持为平面状的支承体(载体)起作用。通过在树脂膜上形成TFT和OLED等元件以及阻气膜等，在由玻璃基座支承状态下实现柔性OLED装置的结构。之后，将柔性OLED装置从玻璃基板上剥离以获得柔软性。配置有TFT以及OLED等元件的部分作为整体称为“功能层区域”。专利文献1公开了一种方法，该方法用紫外激光(剥离光)照射柔性基板和玻璃基板的界面，以从玻璃基板上剥离安装有OLED装置的柔性基板。在专利文献1公开的方法中，在柔性基板与玻璃基板之间配置有非晶硅层。紫外激光的照射从非晶硅层产生氢，并从玻璃基板剥离柔性基板。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2009/037797号
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题以往，由于用于柔性基板的树脂膜吸收紫外线，因此，尚未特别研究剥离光照射对TFT元件和OLED元件造成的影响。根据本专利技术人的研究，发现在剥离工序中使用的紫外激光可能会使TFT元件和OLED元件劣化。本公开提供了可以解决上述问题的柔性OLED装置及其制造方法以及支承基板。用于解决技术问题的技术方案本公开的柔性OLED装置的制造方法，在例示的实施方式中，所述制造方法包括如下工序：准备层叠结构体的工序，所述层叠结构体包括基座、包括TFT层以及OLED层的功能层区域、位于所述基座和所述功能层区域之间且用于支承所述功能层区域的柔性膜以及位于所述柔性膜和所述功能层区域之间的电介质多层膜镜；用透射所述基座的紫外激光照射所述柔性膜并从所述基座剥离所述柔性膜的工序。在某一实施方式中，准备所述层叠结构体的工序包括：在所述柔性膜上形成所述电介质多层膜镜的工序；在所述电介质多层膜镜上形成阻气膜的工序；在所述阻气膜上形成半导体层的工序；用激光照射所述半导体层而改性所述半导体层的工序，其中所述激光具有与所述紫外激光所具有的第一波长不同的第二波长，与在所述第一波长的所述电介质多层膜镜的反射率相比，在所述第二波长的所述电介质多层膜镜的反射率相对低。在某一实施方式中，具有所述第一波长的所述紫外激光透射所述基座以及所述柔性膜之后入射至所述电介质多层膜镜，具有所述第二波长的所述激光透射所述半导体层之后入射至所述电介质多层膜镜。在某一实施方式中，准备所述层叠结构体的工序是在所述柔性膜上形成所述电介质多层膜镜工序，包括：形成具有第一折射率的高折射率层以及形成具有第二折射率的低折射率层，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。在某一实施方式中，所述电介质多层膜镜所包括的所述高折射率层的总厚度为100nm以上。在某一实施方式中，所述阻气膜的厚度为200nm以下。在某一实施方式中，所述高折射率层由选自由Si3N4、SiNx、Al2O3、HfO2、Sc2O3、Y2O3、ZrO2、Ta2O5、TiO2和Nb2O5组成的组中的至少一种材料形成，所述低折射率层由选自由SiO2、MgF2、CaF2、AlF3、YF3、LiF和NaF组成的组中的至少一种材料形成。在某一实施方式中，所述柔性膜的厚度为5μm以上且20μm以下。本公开的柔性OLED装置在例示的实施方式中，功能层区域，其包括TFT层以及OLED层；柔性膜，其用于支承所述功能层区域；电介质多层膜镜，其位于所述柔性膜以及所述功能层区域之间。在某一实施方式中，所述电介质多层膜镜包括：每一层具有第一折射率的三层以上的高折射率层；每一层具有第二折射率，且位于所述三层以上的高折射率层之间的两层以上的低折射率层，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。本公开的支承基板在例示的实施方式中，其是柔性OLED装置的支基板，所述支承基板包括：基座，其由透射紫外线的材料制成；柔性膜，其由所述基座支承；电介质多层膜镜，其由所述柔性膜支承。在某一实施方式中，所述电介质多层膜镜包括：每一层具有第一折射率的三层以上的高折射率层；每一层具有第二折射率，且位于所述三层以上的高折射率层之间的两层以上的低折射率层，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。有益效果根据本专利技术的实施方式，提供一种解决上述问题的柔性OLED装置的新的制造方法以及支承基板。附图说明图1A是示出本公开的柔性OLED装置的制造方法所使用的层叠结构体的构成示例的俯视图。图1B是图1A所示的层叠结构体的B-B线剖视图。图2A是示出本公开的实施方式中的支承基板的制造方法的工序剖视图。图2B是示出本公开的实施方式中的支承基板的制造方法的工序剖视图。图2C是示出本公开的实施方式中的支承基板的制造方法的工序剖视图。图3A是示出本公开的实施方式中的柔性OLED装置的制造方法的工序剖视图。图3B是示出本公开的实施方式中的柔性OLED装置的制造方法的工序剖视图。图3C是示出本公开的实施方式中的柔性OLED装置的制造方法的工序剖视图。图3D是示出本公开的实施方式中的柔性OLED装置的制造方法的工序剖视图。图4是柔性OLED装置中的一个子像素的等效电路图。图5是制造工序中的中途阶段中的层叠结构体的立体图。图6A是示意性地示出层叠结构体的分割位置的剖视图。图6B是示意性地示出层叠结构体的分割位置的俯视图。图7A是示意性地示出平台支承层叠结构体之前的状态的图。图7B是示意性地示出平台支承层叠结构体的状态的图。图7C是示意性地示出通过成形为线状的激光(剥离光)照射层叠结构体的基座和树脂膜的界面的状态的图。图7D是示意性地示出本公开的实施方式中由电介质多层膜镜反射剥离光的剖视图。图8A是示意性地示出用从剥离装置的线束光源发射的线束照射层叠结构体的样子的立体图。图8B示意性地示出开始照射剥离光时的平台的位置。图8C示意性地示出结束照射剥离光时的平台的位置。图9A是示意性地示出剥离光照射之后层叠结构体分离成第一部分和第二部分前的状态的剖视图。图9B是示意性地示出层叠结构体分离成第一部分和第二部分的状态的剖视图。图10是表示本公开的实施方式中的柔性OLED装置的剖视图。具体实施方式以往，柔性基板可以由以聚酰亚胺为代表的树脂材料形成。由于这种树脂材料吸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性OLED装置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括如下工序：/n准备层叠结构体的工序，所述层叠结构体包括基座、包括TFT层以及OLED层的功能层区域、位于所述基座和所述功能层区域之间且用于支承所述功能层区域的柔性膜以及位于所述柔性膜和所述功能层区域之间的电介质多层膜镜；以及/n用透射所述基座的紫外激光照射所述柔性膜并从所述基座剥离所述柔性膜的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种柔性OLED装置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括如下工序：
准备层叠结构体的工序，所述层叠结构体包括基座、包括TFT层以及OLED层的功能层区域、位于所述基座和所述功能层区域之间且用于支承所述功能层区域的柔性膜以及位于所述柔性膜和所述功能层区域之间的电介质多层膜镜；以及
用透射所述基座的紫外激光照射所述柔性膜并从所述基座剥离所述柔性膜的工序。


2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，准备所述层叠结构体的工序包括：
在所述柔性膜上形成所述电介质多层膜镜的工序；
在所述电介质多层膜镜上形成阻气膜的工序；
在所述阻气膜上形成半导体层的工序；以及
用激光照射所述半导体层而改性所述半导体层的工序，其中，所述激光具有与所述紫外激光所具有的第一波长不同的第二波长，
与在所述第一波长的所述电介质多层膜镜的反射率相比，在所述第二波长的所述电介质多层膜镜的反射率相对低。


3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，
具有所述第一波长的所述紫外激光透射所述基座以及所述柔性膜之后入射至所述电介质多层膜镜，
具有所述第二波长的所述激光透射所述半导体层之后入射至所述电介质多层膜镜。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于，
准备所述层叠结构体的工序是在所述柔性膜上形成所述电介质多层膜镜工序，
并且准备所述层叠结构体的工序包括：形成具有第一折射率的高折射率层的工序；以及形成具有第二折射率的低折射率层的工序，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。


5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述电介质多层膜镜所包括的所述高折射率层的总厚度为100nm以上。


6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：岸本克彦，
申请(专利权)人：堺显示器制品株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP