一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，涉及芯片技术领域，具体为一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，包括以下步骤：S1、扩散前处理；S2、氧化；S3、光刻；S4、双面开管磷沉积；S5、开管扩磷；S6、蚀刻沟槽；S7、电泳钝化；S8、完成芯片制造。该低压低漏流高效保护芯片制造工艺通过芯片表面高浓度N+层有助于提升抗浪涌能力，沟道扩散有助于降低漏电，电泳的致密性薄层提升可靠性；芯片采取台面工艺，增加N型区耗尽层结构，改变了N型扩散区的浓度结构曲线，利用N型扩散区耗尽层宽度的附加耐压，增加了P+区宽度；增宽了高导电率区域，增强了P+区对P基区发射电子的能力。

【技术实现步骤摘要】
一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺
本专利技术涉及芯片
，具体为一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺。
技术介绍
芯片，又称微电路、微芯片或集成电路。芯片是指内含集成电路的硅片，体积很小，常常是计算机或其他电子设备的一部分。晶体管专利技术并大量生产之后，各式固态半导体组件如二极管、晶体管等大量使用，取代了真空管在电路中的功能与角色。到了20世纪中后期半导体制造技术进步，使得集成电路成为可能。相对于手工组装电路使用个别的分立电子组件，集成电路可以把很大数量的微晶体管集成到一个小芯片，是一个巨大的进步。集成电路的规模生产能力，可靠性，电路设计的模块化方法确保了快速采用标准化IC代替了设计使用离散晶体管。现有的芯片在使用过程中，低压电路容易受到外部干扰，影响低压电路运行的稳定性，以及低压电路产生漏电现象，影响芯片的抗干扰的性能的缺点。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，解决了上述
技术介绍
中提出现有的芯片在使用过程中，低压电路容易受到外部干扰，影响低压电路运行的稳定性，以及低压电路产生漏电现象，影响芯片的抗干扰的性能的问题。为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，所述包括以下步骤：S1、扩散前处理；S2、氧化；S3、光刻；S4、双面开管磷沉积；S5、开管扩磷；S6、蚀刻沟槽；S7、电泳钝化；S8、完成芯片制造。可选的，所述步骤S1、扩散前处理中，采用P型单晶硅片，通过酸、晟驰2#清洗等工序，对硅片表面进行化学处理。可选的，所述步骤S2、氧化中，把经过扩散前处理的硅片在1100～1200℃的氧化炉中长一层氧化层。可选的，所述步骤S3、光刻中，把氧化后的硅片进行涂胶、曝光、显影、去氧化层等工序，双向在双面刻出一次扩散图形。可选的，所述步骤S4、双面开管磷沉积中，采用的双面开管磷源沉积工艺，在合适的温度时，沉积250分钟左右，可得到合适的高浓度沉积层，借助后道扩磷流程，将N+深度推到本产品所需的合适深度，形成宽N+层区。可选的，所述步骤S5、开管扩磷中，将硅片表面用100％HF腐蚀干净，再次扩磷使其形成高浓度的N+层，以及使用高温推结将基区结深推到合适的深度，使其能达到目标耐压。可选的，所述步骤S6、蚀刻沟槽中，扩散后的硅片采用台面工艺蚀刻沟槽，露出P/N结。可选的，所述步骤S7、电泳钝化中，采取电泳钝化保护，烧结温度650～900℃。可选的，所述步骤S8、完成芯片制造中，后续通过光刻孔与蒸发金属及划片的方式完成芯片制造。本专利技术提供了一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，具备以下有益效果：P型使用沟道扩散降低漏流，使用台面降低芯片电容，使用电泳钝化提升可靠性；表面高浓度N+层有助于提升抗浪涌能力，沟道扩散有助于降低漏电，电泳的致密性薄层提升可靠性；芯片采取台面工艺，增加N型区耗尽层结构，改变了N型扩散区的浓度结构曲线，利用N型扩散区耗尽层宽度的附加耐压，增加了P+区宽度；增宽了高导电率区域，增强了P+区对P基区发射电子的能力。附图说明图1为本专利技术工艺流程示意图；图2为本专利技术芯片结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。请参阅图1至图2，本专利技术提供一种技术方案：一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，包括以下步骤：S1、扩散前处理；S2、氧化；S3、光刻；S4、双面开管磷沉积；S5、开管扩磷；S6、蚀刻沟槽；S7、电泳钝化；S8、完成芯片制造。步骤S1、扩散前处理中，采用P型单晶硅片，通过酸、晟驰2#清洗等工序，对硅片表面进行化学处理。步骤S2、氧化中，把经过扩散前处理的硅片在1100～1200℃的氧化炉中长一层氧化层。步骤S3、光刻中，把氧化后的硅片进行涂胶、曝光、显影、去氧化层等工序，双向在双面刻出一次扩散图形。步骤S4、双面开管磷沉积中，采用的双面开管磷源沉积工艺，在合适的温度时，沉积250分钟左右，可得到合适的高浓度沉积层，借助后道扩磷流程，将N+深度推到本产品所需的合适深度，形成宽N+层区。步骤S5、开管扩磷中，将硅片表面用100％HF腐蚀干净，再次扩磷使其形成高浓度的N+层，以及使用高温推结将基区结深推到合适的深度，使其能达到目标耐压。步骤S6、蚀刻沟槽中，扩散后的硅片采用台面工艺蚀刻沟槽，露出P/N结。步骤S7、电泳钝化中，采取电泳钝化保护，烧结温度650～900℃。步骤S8、完成芯片制造中，后续通过光刻孔与蒸发金属及划片的方式完成芯片制造。以上，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于，所述包括以下步骤：/nS1、扩散前处理；/nS2、氧化；/nS3、光刻；/nS4、双面开管磷沉积；/nS5、开管扩磷；/nS6、蚀刻沟槽；/nS7、电泳钝化；/nS8、完成芯片制造。/n

【技术特征摘要】
1.一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于，所述包括以下步骤：
S1、扩散前处理；
S2、氧化；
S3、光刻；
S4、双面开管磷沉积；
S5、开管扩磷；
S6、蚀刻沟槽；
S7、电泳钝化；
S8、完成芯片制造。


2.根据权利要求1所述的一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于：所述步骤S1、扩散前处理中，采用P型单晶硅片，通过酸、晟驰2#清洗等工序，对硅片表面进行化学处理。


3.根据权利要求1所述的一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于：所述步骤S2、氧化中，把经过扩散前处理的硅片在1100～1200℃的氧化炉中长一层氧化层。


4.根据权利要求1所述的一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于：所述步骤S3、光刻中，把氧化后的硅片进行涂胶、曝光、显影、去氧化层等工序，双向在双面刻出一次扩散图形。


5.根据权利要求1所述的一种低压低漏流高效保护芯片制造工艺，其特征在于：所述步...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔文荣，
申请(专利权)人：江苏晟驰微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32