适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。本发明专利技术适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，可以提高扩散器的吹扫工作效率，并可以提高安全性和稳定性。

【技术实现步骤摘要】
适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备
本专利技术属于CVD设备
，具体地说，本专利技术涉及一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备。
技术介绍
CVD(ChemicalVaporDeposition)成膜工艺是整个IC产业和面板产业的基础，直接决定半导体器件的性能和可靠性。在高温下，将腔体抽至真空状态(1torr)时，通入制程气体，将高频电源加在上电极板DIFF形成电场，形成等离子(整体呈电中性)，下部电极及加热基座(又名Susceptor)提供温度，等离子体通过吸附结合作用，在玻璃基板上形成薄膜。沉积在玻璃上的膜质是工艺重点管控的项目，影响因素居多，主要困扰膜的致密性及组分的是参数是基板温度和气体流量及分布。体流量及分布浓度是由DIFF来调控的。在化学汽相沉积装置中，特别是扩散器(Diffuser)，具有将气体均匀扩散在玻璃面板上的扩散作用，同时还起到等离子体电极作用。扩散器的外形基本像板状长方体(长宽比1.1左右)，上面均匀分布大量的孔结构，类似于蜂槽结构。以宽度方向中心为基准面，两侧具有同心锥形孔，整个结构表面上沉积有阳极氧化膜，在CVD镀膜工序中，等离子气氛苛刻，阳极膜可以有效的抵御环境对基体的刻蚀和腐蚀，避免电荷放电现象等。目前，国内外有多家企业在对传统面板的CVD装置的扩散器进行再生，扩散器在阳极再生做完后，还需要进行高压清洗、吹干、烘干等后道工序。其中清洗完之后的吹干，目前大多数工厂是人工手动吹扫，工作人员必须集中注意力，手持气枪与扩散器保持一定距离(15-20mm)对准蜂槽孔进行吹扫。由于离扩散器较近，气枪有反作用力，工作人员容易疲劳，而且大概率会造成扩散器的刮伤，同时生产效率不高。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提供一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，目的是提高扩散器的吹扫工作效率。为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。所述位置调节装置包括用于带动所述喷嘴沿Z轴方向进行移动的Z轴执行机构、与Z轴执行机构连接且用于带动Z轴执行机构沿Y轴方向进行移动的Y轴执行机构和与Y轴执行机构连接且用于带动Y轴执行机构沿X轴方向进行移动的X轴执行机构，喷嘴设置于Z轴执行机构上，X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。所述X轴执行机构包括X轴执行器、X轴滑轨、与所述Y轴执行机构连接且设置于X轴滑轨上的X轴齿条和与X轴执行器连接且与X轴齿条相啮合的X轴齿轮，X轴齿条的长度方向与X轴方向相平行。所述Y轴执行机构包括与所述X轴齿条连接的Y轴滑轨、Y轴执行器、与所述Z轴执行机构连接且设置于Y轴滑轨上的Y轴齿条和与Y轴执行器连接且与Y轴齿条相啮合的Y轴齿轮，Y轴齿条的长度方向与Y轴方向相平行。所述Y轴方向为竖直方向，所述Y轴执行器为伺服电机且Y轴执行器具有自锁功能。所述位置调节装置还包括X轴负限位块、X轴正限位块和X轴零位感应开关，X轴负限位块、X轴正限位块和X轴零位感应开关处于与X轴方向相平行的同一直线上，所述Y轴滑轨位于X轴负限位块和X轴零位感应开关之间。所述位置调节装置Y轴负限位块、Y轴正限位块和Y轴零位感应开关，Y轴负限位块、Y轴正限位块和Y轴零位感应开关处于与Y轴方向相平行的同一直线上，所述X轴滑轨位于Y轴负限位块和Y轴零位感应开关之间。所述Z轴执行机构包括与所述喷嘴连接的Z轴执行器，Z轴执行器为气缸，Z轴执行器设置于所述Y轴齿条上。所述扩散器放置在挂具上，挂具位于所述两个吹扫机器人之间，所述吹扫机器人还包括用于对挂具施加压力的压紧机构，挂具由两个吹扫机器人的压紧机构夹紧，使扩散器处于竖直状态。所述压紧机构包括夹紧座、设置于夹紧座上且用于与所述挂具接触的夹紧杆和与夹紧座连接且用于控制夹紧座沿Z轴方向进行移动的对夹气缸。本专利技术适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，可以提高扩散器的吹扫工作效率，并可以提高安全性和稳定性，可以实现自动吹扫，节省大量劳动力，降低成本，而且相比手动吹扫更加均匀、快速。附图说明本说明书包括以下附图，所示内容分别是：图1是本专利技术适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备的主视图；图2是本专利技术适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备的结构示意图；图3是吹扫机器人的主视图；图4是吹扫机器人的左视图；图5是吹扫机器人的右视图；图6是吹扫机器人的俯视图；图中标记为：1、扩散器；2、安全门；3、导轨；4、安全栅栏；5、操作箱；6、斜撑；7、立柱；8、X轴齿条；9、X轴滑轨；10、X轴执行器；11、X轴拖链；12、X轴负限位块；13、X轴正限位块；14、X轴零位感应开关；15、Y轴齿条；16、Y轴滑轨；17、Y轴执行器；18、喷嘴；19、Y轴负限位块；20、Y轴零位感应开关；21、Y轴正限位块；22、Y轴拖链；23、在席检光电开关；24、对夹气缸；25、夹紧杆；26、感应开关；27、Z轴执行器；28、夹紧座；29、机架。具体实施方式下面对照附图，通过对实施例的描述，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本专利技术的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施。如图1至图6所示，本专利技术提供了一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴18和用于控制喷嘴18进行移动的位置调节装置。具体地说，如图1至图6所示，吹扫机器人还包括竖直设置的机架29，位置调节装置设置于机架29上，位置调节装置控制喷嘴18进行移动，使喷嘴18能够对扩散器进行吹扫，而且喷嘴18与扩散器之间的距离容易控制，喷嘴18与扩散器之间的距离可以调节，降低出现刮伤扩散器的风险。如图1至图6所示，位置调节装置包括用于带动喷嘴18沿Z轴方向进行移动的Z轴执行机构、与Z轴执行机构连接且用于带动Z轴执行机构沿Y轴方向进行移动的Y轴执行机构和与Y轴执行机构连接且用于带动Y轴执行机构沿X轴方向进行移动的X轴执行机构，喷嘴18设置于Z轴执行机构上，X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。X轴方向与Z轴方向均为水平方向且X轴方向与Z轴方向相垂直，Y轴方向为竖直方向且Y轴方向与X轴方向和Z轴方向相垂直。通过X轴执行机构、Y轴执行机构和Z轴执行机构的相配合，实现喷嘴18沿X轴方向、Y轴方向和Z轴方向的移动，自由度高，位置移动范围广。如图1至图6所示，X轴执行机构包括X轴执行器10、X轴滑轨9、与Y轴执行机构连接且设置于X轴滑轨9上的X轴齿条8和与X轴执行器10连接且与X轴齿条8相啮合的X轴齿轮，X轴滑轨9和X轴齿条8的长度方向与X轴方向相平行，X轴齿条8与X轴滑轨9为滑动连接，X轴齿轮与X轴齿条8构成齿轮齿条机构。X轴滑轨9与机架29固定连接，X轴执行器10固定设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。/n

【技术特征摘要】
1.适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。


2.根据权利要求1所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述位置调节装置包括用于带动所述喷嘴沿Z轴方向进行移动的Z轴执行机构、与Z轴执行机构连接且用于带动Z轴执行机构沿Y轴方向进行移动的Y轴执行机构和与Y轴执行机构连接且用于带动Y轴执行机构沿X轴方向进行移动的X轴执行机构，喷嘴设置于Z轴执行机构上，X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。


3.根据权利要求2所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述X轴执行机构包括X轴执行器、X轴滑轨、与所述Y轴执行机构连接且设置于X轴滑轨上的X轴齿条和与X轴执行器连接且与X轴齿条相啮合的X轴齿轮，X轴齿条的长度方向与X轴方向相平行。


4.根据权利要求3所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述Y轴执行机构包括与所述X轴齿条连接的Y轴滑轨、Y轴执行器、与所述Z轴执行机构连接且设置于Y轴滑轨上的Y轴齿条和与Y轴执行器连接且与Y轴齿条相啮合的Y轴齿轮，Y轴齿条的长度方向与Y轴方向相平行。


5.根据权利要求4所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述Y轴方向为竖直方向，所述Y轴执行器为伺服电机且Y轴执行器具有自锁功能。
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【专利技术属性】
技术研发人员：金卫明，朱传兵，亓露，宋微，张翔，
申请(专利权)人：芜湖通潮精密机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34