一种偏光片用高性能离型膜制造技术

本实用新型专利技术提供了一种偏光片用高性能离型膜，包括基材层，于基材层的至少一面设有电晕层，于电晕层的上表面设有修复层，于修复层的上表面设有硅油层，于硅油层的上表面设有平流层。本申请的偏光片用高性能离型膜，位于最外层的平流层表面光滑平整，经过多个导辊，大大减少离型膜上出现的划伤或擦花点。电晕层是基材层经过电火花处理而形成的极性表面层，使得基材层表面粗糙，附着力增强，提高修复层与基材层的紧密结合。修复层具有良好的自修复性能，当薄膜经过导辊刮伤后，破坏了硅油层，产生裂缝，修复层会自动流出，填充裂缝处，使离型膜表面平整；硅油层具有剥离的作用，使离型膜与PSA胶贴合时不会粘紧。

【技术实现步骤摘要】
一种偏光片用高性能离型膜
本技术涉及离型膜
，更具体的涉及一种偏光片用高性能离型膜。
技术介绍
偏光片依次由TAC膜、PVA膜、PSA及离型膜等多层膜贴合而成。其广泛应用于平板显示器中以提升显示质量。随着国内液晶产业的快速发展壮大，国内液晶上的偏光片产业也随之高速发展起来。为了降低偏光片的制造成本，打破日本企业垄断的保护膜和离型膜等功能薄膜的供应瓶颈，国内生产专用于偏光片上的功能薄膜替代日韩产品已有迫切需求，促使国内功能薄膜的制造商投入重金和技术力量进行研发。离型膜是指表面具有分离性的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。离型膜又称剥离膜、隔离膜、分离膜、阻胶膜、离形膜、薄膜、塑料薄膜、掩孔膜、硅油膜、硅油纸、防粘膜、型纸、打滑膜、天那纸或离型纸等。PSA为一种溶剂型压敏胶，它无需通过热和紫外光或溶剂等手段，只需要施加轻微的力即可发挥其粘合的性能与PVA膜紧密粘合，用于偏振光的压敏胶主要是丙烯酸脂类溶剂型压敏胶。偏光片用离型膜用于各种液晶显示器，不仅需要保持高透性能，还需要偏光片不能存在点缺陷，如凹凸点，划伤等。但在生产离型膜的过程中，离型膜经过多个导辊时，与导辊接触摩擦往往会出现划伤或擦花点，导致离型膜在贴合保护PSA(丙烯酸脂类溶剂型压敏胶)时，因离型膜上存在划伤或擦花点等缺陷，使PSA也会出现划伤痕和凹凸点，特别是在使用偏光片时，撕开作为保护层的离型膜，由于离型膜上有划伤或擦花点的缺陷处无剥离功能，导致PSA会撕拉带起形变，破坏PSA层的结构，故解决离型膜上局部出现的划伤或擦花点等点缺陷是离型膜行业一直探讨的难题。中国专利：201711498984.0公开了一种具有自修复防油污功能的防护膜。自修复防油污涂层，主要由以下重量份的原料制得：多元醇10～80份、异氰酸酯1～50份、助剂1～10份、紫外线吸收剂0.1～10份、抗静电剂0.01～10份和溶剂1～50份。防护膜，依次包括：第一离型膜、自修复防油污涂层、薄膜基材、紫外阻隔压敏胶层和第二离型膜。虽然其防护膜具有更加优异的自修复功能、防油污功能以及耐候性能，且可以在短时间内常温自修复，保护效果更佳。但其并非用于离型膜本身结构上，其自修复防油污涂层单独形成一涂层结构，也不能解决离型膜划伤有裂纹的自修复问题。因此，有必要提供一种偏光片用高性能离型膜来解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种偏光片用高性能离型膜，表面光滑平整，避免导辊对其进行擦花和划伤，解决离型膜上局部出现的划伤或擦花点，当离型膜有出现擦花以及划伤或裂纹时，离型膜内部具有自修复性能，可以修复缺陷。为实现上述目的，本技术提供了一种偏光片用高性能离型膜，包括基材层，于所述基材层的至少一面设有电晕层，于所述电晕层的上表面设有修复层，于所述修复层的上表面设有硅油层，于所述硅油层的上表面设有平流层。与现有技术相比，本申请的偏光片用高性能离型膜，在基材层的至少一面依次设有电晕层、修复层、硅油层和平流层，位于最外层的平流层表面光滑平整，经过多个导辊，大大减少了离型膜上出现的划伤或擦花点。电晕层是基材层经过电火花处理而形成的极性表面层，使得基材层表面粗糙，附着力增强，提高修复层与基材层的紧密结合。修复层具有良好的自修复性能，当薄膜经过导辊刮伤后，破坏了硅油层，产生裂缝，修复层会自动流出，填充裂缝处，使离型膜表面平整；硅油层具有剥离的作用，使离型膜与PSA胶贴合时不会粘紧。较佳的，所述基材层选自PET、BOPET、PVC、PE中的任意一种。较佳的，所述硅油层的厚度小于所述电晕层的厚度。较佳的，所述基材层的厚度为10-100um。较佳的，所述电晕层的厚度为5-8um。较佳的，所述修复层的厚度为3-10um。较佳的，所述修复层的制备材料为环氧乙烯酯或乙烯基丙烯酸聚氨酯中的一种或两种。较佳的，所述硅油层的厚度为2-4um。较佳的，所述硅油层的制备材料为聚二甲基硅氧烷或乙基硅氧烷中的一种或两种。较佳的，所述平流层的厚度为3-10um。较佳的，所述平流层的制备材料为低粘性聚乙烯蜡、中粘性聚乙烯蜡或氧化蜡中的一种。附图说明图1为本申请偏光片用高性能离型膜一实施例的结构示意图。图2为本申请偏光片用高性能离型膜另一实施例的结构示意图。元件标号说明偏光片用高性能离型膜100，基材层10，电晕层20，修复层30，硅油层40，平流层50。具体实施方式现在参考附图描述本技术的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。请参考图1，本申请的偏光片用高性能离型膜100，包括基材层10，于基材层10的至少一面设有电晕层20，于电晕层20的上表面设有修复层30，于修复层30的上表面设有硅油层40，于硅油层40的上表面设有平流层50。基材层10选自PET、BOPET、PVC、PE中的任意一种。优选地，基材层10选自PET薄膜或PVC薄膜。基材层10的厚度为10-100um，比如基材层10的厚度为10um、30um、50um、70um、100um。电晕层20是基材层10经过电火花处理而形成的极性表面层，使得基材层10表面粗糙，附着力增强，提高修复层30与基材层10的紧密结合。电晕层20的厚度为5-8um，比如电晕层20的厚度为5um、7um、8um。修复层30的制备材料为环氧乙烯酯或乙烯基丙烯酸聚氨酯中的一种或两种。修复层30的厚度为3-10um，比如，修复层30的厚度为3um、5um、7um、10um。硅油层40的制备材料为聚二甲基硅氧烷或乙基硅氧烷中的一种或两种。硅油层40的厚度小于电晕层20的厚度。硅油层40的厚度为2-4um。比如，硅油层40的厚度为2um、3um、4um。平流层50的制备材料为低粘性聚乙烯蜡、中粘性聚乙烯蜡或氧化蜡中的一种。平流层50的厚度为3-10um，平流层50的厚度为3um、5um、7um、9um、10um。请参考图1，在一个具体的实施例中，偏光片用高性能离型膜100包括基材层10，在基材层10的上表面依次设有电晕层20、修复层30、硅油层40和平流层50。其中，基材层10选自PVC薄膜，其厚度为38um；电晕层20的厚度为8um；修复层30的制备材料为乙烯基丙烯酸聚氨酯，厚度为7um；硅油层40的制备材料为乙基硅氧烷，厚度为2um；平流层50的制备材料为中粘性聚乙烯蜡，厚度为9um。请参考图2，偏光片用高性能离型膜100包括基材层10，在基材层10的上表面和下表面均依次设有电晕层20、修复层30、硅油层40和平流层50。在另一个具体的实施例中，基材层10选自PET薄膜，其厚度为75um；电晕层20的厚度为6um；修复层30的制备材料为环氧乙烯酯，厚度为5um；硅油层40的制备材料为聚二甲基硅氧烷，厚度为4um；平流层50的制备材料为低粘性聚乙烯蜡，厚度为5um。与现有技术相比，本申请的偏光片用高性能离型膜100，在基材层10的至少一面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏光片用高性能离型膜，其特征在于，包括基材层，于所述基材层的至少一面设有电晕层，于所述电晕层的上表面设有修复层，于所述修复层的上表面设有硅油层，于所述硅油层的上表面设有平流层。/n

【技术特征摘要】
1.一种偏光片用高性能离型膜，其特征在于，包括基材层，于所述基材层的至少一面设有电晕层，于所述电晕层的上表面设有修复层，于所述修复层的上表面设有硅油层，于所述硅油层的上表面设有平流层。


2.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述硅油层的厚度小于所述电晕层的厚度。


3.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述基材层的厚度为10-100um。


4.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述电晕...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾长均，邓浩鹏，
申请(专利权)人：东莞市鼎力薄膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44