从半导体及印刷电路板加工的废水流中监测及除铜制造技术

使用荧光计（４４）利用荧光抑制反应检测半导体或印刷电路板生产废水流（１８）的铜。将聚合物沉淀剂加入反应槽（１４），其中所述反应槽含有一传感器（３４）用来检测未反应聚合物的数量。所述废水流通过分离器（３６）去除固体物质。提纯的水流（４６）流经荧光计（４４）。荧光计（４４）的信号可以用于控制回流阀（４５），聚合物传感器（３４）的信号可以用于控制聚合物加料泵（２８）。在另一实施例中，荧光计同离子交换净化器联合使用。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及从废水流中监测及去除金属的技术，特别是涉及从半导体及印刷电路板加工的废水中监测及去除铜。用于本申请的目的是，印刷电路板，也就是印制线板被定义为“安装了电子元件如半导体和电容器的物理结构”。与半导体工业相反，通常在印刷电路板工业的废水中都能找到铜，然而，监测和去除印刷电路板工业废水中铜的方法至今并不是十分完善的。以下的参考资料描述了用于监测铜的分析方法美国专利第5,132,096号要求一种在水流运行中的分析仪，它能判断加入主体水中的处理剂的浓度，并且判断不论是否存在处理剂，可能存在的非补偿应力金属的存在。并描述该分析仪未消耗的、过渡金属示踪物的用途。美国专利第5,278,074号要求一种能在工业水系统中控制水中芳香吡咯腐蚀抑制剂浓度的方法。美国专利第5,411,889号要求一种能调整工业流体系统中水处理剂浓度的方法，它包括向工业流体系统中加入惰性示踪物，这种示踪物按所知的比例加入靶标中，该靶标再加到上述的工业流体系统中，其中靶标系统消耗的量受水处理剂的影响；从上述的工业流体系统中取流体样本；通过分析上述样本来监视靶标以确定至少一种与上述靶标在系统中浓度有关的特性；通过分析上述样本来监视示踪物以它在系统中的浓度；通过测量靶标和惰性示踪物在系统中的浓度来确定靶标系统消耗；基于靶标的系统消耗调节流体系统中水处理剂在该系统中的浓度。实施例3(31-32列)描述了利用代方法监测到一系列合成的工业水溶液中的二价铜元素(Cu2+)。美国专利第3,877,878号公开了能监测天然水中重金属的分析仪和方法。美国专利第3,898,042号公开了能连续测定水流中铜元素总量的一种方法和装置。美国专利第4,908,676号公开了能监测水中的铜等溶解物质的传感器。美国专利第4,400,243号公开了用电极系统监测银、镉、铅、铜等重金属离子的监视方法。美国专利第5,292,423号公开一种能分析包括铜等微量金属的仪器和方法。美国专利第5,578,829号公开一种监视含污染物的物质流量的方法。德国专利第19512908号公开一种分析工业电镀锌的废水方法。另外一些描述铜的监测法的参考资料如下Ionics公司，设备部“阳离子汽提伏安法水质监控手册”(IonicsInc.Instrument Division，“Water Quality Monitoring Guide for AnodicStripping Voltammetry”)；James W.Patterson编辑的“工业废水处理技术”第二版(“Industrial Wastewater Treatment Technology”，2ndEdition，James W.Patterson1985 by Butterworth-Heinemann，“Chapter 7-Copper，pp.91-109)；Auyong发表的题为“Lawrence Livermore实验室中废水有毒物质的即时监测”，(“On-Line Monitoring of Toxic Materials inSewage at the Lawrence Livermore Laboratory”，U.S.EnvironmentalProtection Agency，issue EPA-600/9-81-018，1981)；Kubiak and Wang等人发表的题为“阳离子汽提伏安法监控凝胶柱”(Kubiak and Wang，“Algae Columns with Anodic Stripping Voaltammetric Detection”，Anal.Chem.，vol.61，no.5，March 1，1989，pp.468-471)；Glass等人发表的题为“极板废水流监控用的电化学分析感应器”(Glass et al.，“Electrochemical Array Sensors For Plating Waste Stream Monitoring”，Proc.AESF Annu.Tech.Conf.，vol.79，pp.83-102(1992))；Bratin等人发表的题为“废水和冲洗水流的即时电化学监控法”(Bratin et al.，“On-Line Electrochemical Monitoring of Waste and Rinse Water Streams”，Proc.AESF.Annu.Tech.Conf.，vol.82，pp.75 5-764(1995)；Vanhumbeek发表的题为“电镀工厂废水中铜的自动监测方法”(Vanhumbeek，“Automatic Monitoring of Copper in Waste Water From Plating Shops”，Wat.Sci.Tech.，Vol.13，pp.539-544(1981))；Connolly等人发表的题为“采用X线荧光对亚PPB级金属即时检测方法”(Connolly et al.，“On-line Measurement of Sub-PPB Levels of Metals Using X-RayFluorescence”，Ultrapure Water，vol.5，pp.53-58(1998))；Schlager发表的题为“利用光电二级管排列光谱测定法即时光谱测定监控环境空间使用的金属离子”(Schlager，“On-Line Spectroscopic Monitoring ofMetal Ions For Environmental and Space Applications Using PhotodiodeArray Spectrometry”)；Beauchemin等人发表的题为“利用即时前浓缩技术经诱导结合等离子质谱法测定水中微量金属的方法”(Beauchemin et al.，“Determination of Trace Metals in Reference WaterStandards by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry withOn-Line Preconcentration”，Anal.Chem.，vol.61pp.187-1862(1989))；Cnobloch发表的“工业废水重金属连续检测方法”(Cnobloch，“Continuous Monitoring of Heavy Metals In Industrial Waste Waters”，Analytica Chemica Acta，vol.114，pp.303-310(1980))；环境技术集团公司产品文献报道的“ETG metalyzererTM5000(商品名)”(ProductLiterature from Environmental Technologies Group，Inc.about“ETGMETALYZERTM 5000”)；Ng等人发表的题为“涂复功能化的聚噻吩Langmuir-Blodgett薄膜的石英晶体微平衡感应器及其在重金属离子分析方面的应用(Ng et al.，“Quartz Cryst本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在半导体生产过程中从废水中监测及去除铜的系统，它包括： ａ）一个荧光计； ｂ）一种反应物，将其加入到废水中能与任何以正二价铜离子形式存在的铜反应，抑制所述反应物的荧光； ｃ）一种聚合物，将其加入到废水流中能导致任何以正二价铜离子形态的存在的铜沉淀； ｄ）聚合物的分布和反应部分包括： ｉ）向废水中加入聚合物的装置， ｉｉ）调节加入废水中聚合物流量的控制器， ｉｉｉ）至少两个反应槽； ｅ）至少一个检测未反应聚合物的感应器； ｆ）将沉淀物从废水流中分离的装置； ｇ）在与聚合物接触之前，可选择使用一种能调节废水ｐＨ值的试剂； ｈ）在调节ｐＨ值的同时，可选择使用至少一个盛放废水的反应槽； ｉ）在调节ｐＨ值之前，可选择使用至少一个盛放废水的反应槽，同时进行平衡。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：KS萨尔曼，AS科瓦尔斯基，BV因金斯，JE霍茨，
申请(专利权)人：纳尔科化学公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]