有机发光显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了有机发光显示面板及制作方法、显示装置。方法包括：在基板上形成阳极材料层，在阳极材料层远离基板的一侧形成掩膜，基于掩膜对阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；形成覆盖掩膜和基板的像素界定层，像素界定层在多个阳极之间具有凹槽，对像素界定层和掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，像素界定结构覆盖基板位于相邻两个阳极之间的部分，并覆盖阳极的部分表面，构成掩膜的材料与构成像素界定层的材料相同，像素界定结构包括由掩膜构成的第一部，和由像素界定层构成的第二部，凹槽位于第二部中。由此，可缓解阳极边缘缺失或翘起的缺陷，提升有机发光显示面板的显示质量，并且缩短生产周期，提升产能，降低成本。

【技术实现步骤摘要】
有机发光显示面板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，具体地，涉及有机发光显示面板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机发光显示面板(OLED)是利用有机发光二极管制成的显示面板，具有自发光、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板等优点。其中，有机发光二极管包括依次层叠设置的阳极、有机发光层和阴极，在给有机发光二极管通电后，可使有机发光二极管发光。然而，目前的有机发光显示面板及其制作方法、显示装置仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术是基于专利技术人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：专利技术人发现，目前的有机发光显示面板存在显示质量差以及生产周期长的问题。这主要是由于目前制作有机发光显示面板的方法存在缺陷导致的。具体的，目前在制作有机发光显示面板的过程中，对阳极材料层进行刻蚀之后，需要剥离阳极材料层上的光刻胶掩膜，以获得阳极，然而，在剥离光刻胶掩膜的过程中阳极会裸露出来，且会用到高压水冲洗，容易引起阳极边缘位置的缺失或者阳极边缘被吹起而出现卷曲，并且在剥离光刻胶掩膜后，设置像素界定层之前，还会进行高压水冲洗，此时，阳极的边缘更容易出现翘起或缺失。由于有机发光层的厚度较薄，阳极边缘翘起后，翘起的部分很容易穿透有机发光层与阴极直接接触而发生短路，引起暗点不良，阳极边缘缺失后，会造成像素显示亮度不够，从而影响有机发光显示面板的显示质量，且上述过程工序较多，生产周期较长，影响产能。本专利技术旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。r>在本专利技术的一个方面，本专利技术提出了一种制作有机发光显示面板的方法。所述方法包括：在基板上形成阳极材料层，在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜，基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层，所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽，对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，并覆盖所述阳极的部分表面，其中，构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同，所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部，以及由所述像素界定层构成的第二部，所述凹槽位于所述第二部中。由此，可省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缓解阳极边缘缺失或翘起的缺陷，提升有机发光显示面板的显示质量，并且缩短生产周期，提升产能，降低成本。根据本专利技术的实施例，形成所述阳极包括：在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜材料层，对所述掩膜材料层进行曝光显影形成所述掩膜；基于所述掩膜对所述阳极材料层进行刻蚀，形成所述阳极。由此，可采用现有的产线和设备制作掩膜，无需增加新的产线和设备，且可以省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缩短生产周期，降低成本。根据本专利技术的实施例，形成所述像素界定结构包括：对所述像素界定层和所述掩膜进行曝光显影，以形成所述像素界定结构。由此，可利用现有制作像素界定结构的产线和设备进行制作，工艺简单且能实现对掩膜和像素界定层的同步图案化。根据本专利技术的实施例，所述掩膜的厚度为由此，掩膜具有合适的厚度，在后续形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可以对阳极起到良好的保护作用，以缓解阳极边缘在高压水冲洗过程中发生缺失或者翘起，由于掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，具有上述厚度的掩膜不会显著增加整个有机发光显示面板的厚度。根据本专利技术的实施例，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极材料层设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。由此，像素电路层可用于控制后续形成的有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。在本专利技术的另一方面，本专利技术提出了一种有机发光显示面板。所述有机发光显示面板包括：基板；多个阳极，所述阳极设置在所述基板上；像素界定结构，所述像素界定结构包括第一部和第二部，所述第一部覆盖所述阳极的部分表面，所述第二部覆盖所述第一部以及所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，构成所述第一部的材料和构成所述第二部的材料相同。由此，在制作有机发光显示面板的过程中，可省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缩短生产周期，提升产能，降低成本，同时获得平整且完整的阳极，以改善有机发光显示面板出现暗点或者亮度不够等不良，提升有机发光显示面板的显示质量。根据本专利技术的实施例，所述第一部的厚度为即在制作有机发光显示面板的过程中，掩膜的厚度为由此，在形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可对阳极起到良好的保护作用，缓解阳极边缘缺失或者翘起，提高有机发光显示面板的显示质量。根据本专利技术的实施例，所述第二部覆盖所述第一部的部分，与所述第二部覆盖所述基板的部分构成凹槽，所述凹槽的深度大于由于在制作有机发光显示面板的过程中，未剥离掩膜，且该掩膜与后续的像素界定层同步图案化后共同构成像素界定结构，从而使得像素界定结构由两部分构成，且第一部的厚度较厚，使得第二部形成凹槽。根据本专利技术的实施例，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。由此，像素电路层可用于控制有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。在本专利技术的另一方面，本专利技术提出了一种显示装置。所述显示装置包括前面所述的有机发光显示面板。由此，该显示装置具有前面所述的有机发光显示面板的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该显示装置具有显示质量高、生产周期短、产能高、成本低等优点。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1显示了根据本专利技术一个实施例的制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；图2显示了传统制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；图3显示了根据本专利技术一个实施例的制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；图4显示了根据本专利技术一个实施例的有机发光显示面板的结构示意图。附图标记说明：100：基板；200：阳极；210：阳极材料层；300：光刻胶掩膜；400：像素界定结构；410：像素界定层；500：掩膜；10：第一部；20：第二部；30：凹槽。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。本专利技术是基于专利技术人的以下发现而完成的：目前制作有机发光显示面板的方法如下：参考图2，首先，在基板100上形成阳极材料层210(参考图2中的(a))。随后，在阳极材料层210远离基板100的一侧形成光刻胶掩膜300，多个光刻胶掩膜300间隔设置(参考图2中的(b))。随后，基于光刻胶掩膜300对阳极材料层210进行刻蚀，去掉阳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作有机发光显示面板的方法，其特征在于，包括：/n在基板上形成阳极材料层，在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜，基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；/n形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层，所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽，对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，并覆盖所述阳极的部分表面，/n其中，构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同，所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部，以及由所述像素界定层构成的第二部，所述凹槽位于所述第二部中。/n

【技术特征摘要】
1.一种制作有机发光显示面板的方法，其特征在于，包括：
在基板上形成阳极材料层，在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜，基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；
形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层，所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽，对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，并覆盖所述阳极的部分表面，
其中，构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同，所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部，以及由所述像素界定层构成的第二部，所述凹槽位于所述第二部中。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述阳极包括：
在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜材料层，对所述掩膜材料层进行曝光显影形成所述掩膜；
基于所述掩膜对所述阳极材料层进行刻蚀，形成所述阳极。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述像素界定结构包括：
对所述像素界定层和所述掩膜进行曝光显影，以形成所述像素界定结构。


4.根据权利要求1所述的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭利满，刘亮亮，白妮妮，唐亮，郭强，吴岩，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11