利用皮秒激光器的纳米材料制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及纳米材料的制备技术领域，特别涉及一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置。包括水平设置的皮秒激光器，皮秒激光器的输出端设置有引导通道，引导通道的末端出口竖直向下且于末端下方架设有透镜；透镜的下方设置有冷却烧杯，冷却烧杯内填充有冷却液，冷却烧杯内套设有反应烧杯，反应烧杯悬浮于冷却液内；反应烧杯内设置反应溶液和/或靶块材料；透镜架设于调节机构上，冷却烧杯下方设置有升降支座。结构简单；能够将激光的能量聚集到靶块材料或反应液中使得制备出相应的纳米材料。

【技术实现步骤摘要】
利用皮秒激光器的纳米材料制备装置
本技术涉及纳米材料的制备
，特别涉及一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置。
技术介绍
随着纳米科学与技术的发展以及深入研究，纳米材料已经被应用于各个领域，从基础医疗到各种常用的电子器件，再到各种精密器械，纳米材料发挥着不可替代的作用。但在纳米领域中，涉及亚稳相纳米材料粒径小于10nm的纳米颗粒制备比较困难，同时在制备过程中，纳米颗粒容易出现团聚。因此，一种合适的方法制备相关的纳米颗粒并且能够避免团聚是亟待解决的问题之一。
技术实现思路
本技术的目的在于解决目前纳米材料制备所存在的上述问题，提供一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置，包括水平设置的皮秒激光器，皮秒激光器的输出端设置有引导通道，引导通道的末端出口竖直向下且于末端下方架设有透镜；透镜的下方设置有冷却烧杯，冷却烧杯内填充有冷却液，冷却烧杯内套设有反应烧杯，反应烧杯悬浮于冷却液内；反应烧杯内设置反应溶液和/或靶块材料；透镜架设于调节机构上，冷却烧杯下方设置有升降支座。作为优选，所述调节机构设置于调节支架上，引导通道设置于调节支架上；调节支架设置有调节杆，调节机构具有升降机构和水平机构，升降机构设置于调节杆上，水平机构设置于升降机构上，水平机构上设置有支撑透镜的镜架。作为优选，所述引导通道具有若干个弯折部，在弯折部处设置改变激光走向的反射镜。作为优选，所述引导通道由金属外壳形成。作为优选，皮秒激光器底部设置有支撑架。作为优选，升降支座包括顶座和升降器。作为优选，顶座上设置调节座，调节座通过水平设置的两个方向的调节螺栓调节位置。该装置适用于制备纳米材料。由于皮秒激光的特点是在激光聚焦的局部区域，温度特别高，而周围是液体能够快速有效的冷却，此时激光创造的极端环境高温可有效制备高温高压亚稳相，并快速冷却，并分散的液体中，避免纳米颗粒团聚，同时这中方法也为制备常用方法不能制备的新物质提供了可能性和有利条件。设计一种可以使用皮秒激光器的光路装置，有效将激光聚集在靶材料上来制备新型纳米材料，并快速冷却，避免团聚有重要的应用需求和必要。由于反应烧杯悬浮于冷却烧杯内，反应烧杯的位置会随着冷却液的多少而改变。同时，由于反应烧杯内放置了反应溶液，也导致反应烧杯在冷却烧杯内的位置不易确定。因此为了满足反应条件的进行，就需要调整透镜改变聚焦位置，也需要配合改变反应稍微的位置，来共同配合聚焦点位于合适的位置。本技术的有益效果是：结构简单；能够将激光的能量聚集到靶块材料或反应液中使得制备出相应的纳米材料。附图说明图1给出的是本技术的整体结构示意图。图2给出的是本技术的部分结构示意图。图3给出的是本技术的升降支座的结构示意图。图中：1皮秒激光器，2引导通道，3透镜，4冷却烧杯，5反应烧杯，6调节机构，7升降支座，8调节支架，9调节杆，10升降机构，11水平机构，12镜架，13反射镜，14支撑架，15顶座，16升降器，17调节座，18调节螺栓。具体实施方式现在将进一步细化基于附图所示的代表性实施方案。应当理解，以下描述并非旨在将实施方案限制于一个优选实施方案。相反，其旨在涵盖可被包括在由所附权利要求限定的所述实施方案的实质和范围内的替代形式、修改形式和等同形式。在以下的详细描述中，参考了形成说明书的一部分的附图，并且在附图中以举例说明的方式示出了根据所述实施方案的具体实施方案。尽管足够详细地描述了这些实施例以使得本领域的技术人员能够实施所述实施例，但应当理解，这些实例不是限制性的，使得可以使用其它实例并且可在不脱离所述实施例的实质和范围的情况下做出相应的修改。具体的，参考图1、图2和图3，给出了一种利用皮秒激光器1的纳米材料制备装置，如图所示，该装置包括水平设置的皮秒激光器1，皮秒激光器1底部设置有支撑架14，皮秒激光器1的输出端设置有引导通道2，所述引导通道2由金属外壳中空形成；金属采用铁制；所述引导通道2具有若干个弯折部，在弯折部处设置改变激光走向的反射镜13，最终引导通道2的末端出口竖直向下且于末端下方架设有透镜3；透镜3的下方设置有冷却烧杯4，冷却烧杯4内填充有冷却液，冷却烧杯4内套设有反应烧杯5，反应烧杯5悬浮于冷却液内；反应烧杯5内设置反应溶液和/或靶块材料；透镜3架设于调节机构6上，冷却烧杯4下方设置有升降支座7。所述调节机构6设置于调节支架8上，引导通道2设置于调节支架8上；调节支架8设置有调节杆9，调节机构6具有升降机构10和水平机构11，升降机构10设置于调节杆9上，水平机构11设置于升降机构10上，水平机构11上设置有支撑透镜3的镜架12。水平机构11适用于不同的透镜通过调整与激光配合，升降机构10用于寻找合适的聚焦点。升降支座7包括顶座15和升降器16，顶座15上设置调节座17，调节座17通过水平设置的两个方向的调节螺栓18调节位置。在使用时，将靶块材料放入反应烧杯5中，通过升降支座7和调节机构6调节透镜3和靶向材料之间的距离，使聚焦点落在靶块材料上，然后开启皮秒激光器1制备纳米材料。在制备过程中，可以通过调节机构和升降支座7确保反应中聚焦点一直落入靶块材料上。该装置用于制备纳米材料。由于皮秒激光的特点是在激光聚焦的局部区域，温度特别高，而周围是液体能够快速有效的冷却，此时激光创造的极端环境高温可有效制备高温高压亚稳相，并快速冷却，并分散的液体中，避免纳米颗粒团聚，同时这中方法也为制备常用方法不能制备的新物质提供了可能性和有利条件。设计一种可以使用皮秒激光器1的光路装置，有效将激光聚集在靶材料上来制备新型纳米材料，并快速冷却，避免团聚有重要的应用需求和必要。为了便于进行解释，上述描述中使用特定命名以提供对所述实施方案的彻底理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，实施上述实施方案不需要这些具体细节。因此，出于说明和描述的目的呈现了对本文所述的具体实施方案的上述描述。其目的并非在于穷举或将实施方案限制到所公开的具体精确形式。对于本领域技术人员而言显而易见的是，在上述教导内容的基础，还能够进行一定的修改、组合和以及变型。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置，其特征在于：包括水平设置的皮秒激光器，皮秒激光器的输出端设置有引导通道，引导通道的末端出口竖直向下且于末端下方架设有透镜；透镜的下方设置有冷却烧杯，冷却烧杯内填充有冷却液，冷却烧杯内套设有反应烧杯，反应烧杯悬浮于冷却液内；反应烧杯内设置反应溶液和/或靶块材料；透镜架设于调节机构上，冷却烧杯下方设置有升降支座。/n

【技术特征摘要】
1.一种利用皮秒激光器的纳米材料制备装置，其特征在于：包括水平设置的皮秒激光器，皮秒激光器的输出端设置有引导通道，引导通道的末端出口竖直向下且于末端下方架设有透镜；透镜的下方设置有冷却烧杯，冷却烧杯内填充有冷却液，冷却烧杯内套设有反应烧杯，反应烧杯悬浮于冷却液内；反应烧杯内设置反应溶液和/或靶块材料；透镜架设于调节机构上，冷却烧杯下方设置有升降支座。


2.根据权利要求1所述的利用皮秒激光器的纳米材料制备装置，其特征在于：所述调节机构设置于调节支架上，引导通道设置于调节支架上；调节支架设置有调节杆，调节机构具有升降机构和水平机构，升降机构设置于调节杆上，水平机构设置于升降机构上，水平机构上设置有支撑透镜的镜架。

【专利技术属性】
技术研发人员：丁超亮，冀豪，王洁，常莎莎，刘纪玲，廖腊梅，贾红，
申请(专利权)人：洛阳师范学院，
类型：新型
国别省市：河南;41