【技术实现步骤摘要】
高效纳米真空镀膜仪
本技术涉及真空镀膜设备领域,尤其涉及一种高效纳米真空镀膜仪。
技术介绍
真空镀膜仪主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,如真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等,主要思路是分成蒸发和溅射两种,而纳米真空镀膜机一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。现有的纳米真空镀膜仪将待镀膜产品放入真空室内后,直接在真空室内进行镀膜,由于不是直接对待镀膜产品进行加工,将导致时间和靶材的浪费;在更换待镀膜产品时需要人工手动更换,使镀膜的工作效率降低。
技术实现思路
为克服上述缺点,本技术的目的在于提供一种结构简单,能够实现高效镀膜的高效纳米真空镀膜仪。为了达到以上目的,本技术采用的技术方案是:一种高效纳米真空镀膜仪,包括底座,所述底座上设置有真空室,所述真空室顶部设置有镀膜气缸,所述镀膜气缸的活塞杆贯穿真空室并与镀膜机构连接,所述真空室侧壁设置有通槽,所述底座上设置有滑动槽,所述滑动槽一端位于真空室内,所述滑动槽内沿长度设置有滑轨,所述滑轨通过滑块与加工机构连接,所述底座上设置有与滑块连接的加工气缸,所述加工机构能通过加工气缸驱动滑块带动其在滑轨上做往复运动并穿过通槽,当所述加工机构移动至滑轨位于真空室内一端时,所述加工机构位于镀膜机构下方,所述加工机构侧壁能与通槽内壁接触。本技术提供的一种高效纳米真空镀膜仪,其有益效果是:在真空室内设置加工机构和镀膜机构,同时在底座的滑动槽内 ...
【技术保护点】
1.一种高效纳米真空镀膜仪,包括底座(1),所述底座(1)上设置有真空室(2),其特征在于:所述真空室(2)顶部设置有镀膜气缸(3),所述镀膜气缸(3)的活塞杆贯穿真空室(2)并与镀膜机构连接,所述真空室(2)侧壁设置有通槽,所述底座(1)上设置有滑动槽(10),所述滑动槽(10)一端位于真空室(2)内,所述滑动槽(10)内沿长度设置有滑轨(4),所述滑轨(4)通过滑块与加工机构连接,所述底座(1)上设置有与滑块连接的加工气缸(5),所述加工机构能通过加工气缸(5)驱动滑块带动其在滑轨(4)上做往复运动并穿过通槽,当所述加工机构移动至滑轨(4)位于真空室(2)内一端时,所述加工机构位于镀膜机构下方,所述加工机构侧壁能与通槽内壁接触。/n
【技术特征摘要】
1.一种高效纳米真空镀膜仪,包括底座(1),所述底座(1)上设置有真空室(2),其特征在于:所述真空室(2)顶部设置有镀膜气缸(3),所述镀膜气缸(3)的活塞杆贯穿真空室(2)并与镀膜机构连接,所述真空室(2)侧壁设置有通槽,所述底座(1)上设置有滑动槽(10),所述滑动槽(10)一端位于真空室(2)内,所述滑动槽(10)内沿长度设置有滑轨(4),所述滑轨(4)通过滑块与加工机构连接,所述底座(1)上设置有与滑块连接的加工气缸(5),所述加工机构能通过加工气缸(5)驱动滑块带动其在滑轨(4)上做往复运动并穿过通槽,当所述加工机构移动至滑轨(4)位于真空室(2)内一端时,所述加工机构位于镀膜机构下方,所述加工机构侧壁能与通槽内壁接触。
2.根据权利要求1所述的高效纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述镀膜机构包括与镀膜气缸(3)连接的镀膜座(6)和镀膜组件,所述镀膜组件包括从上至下依次设置的离子束发生器(61)、镀膜料放置腔(62)和多个镀膜喷头(63),...
【专利技术属性】
技术研发人员:王宁,
申请(专利权)人:苏州泓沵达仪器科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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