【技术实现步骤摘要】
显示基板、显示面板及显示装置
本公开涉及显示
,尤其涉及一种显示基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
随着柔性AMOLED显示技术的发展,人们不仅对分辨率、色域等画质有更高需求,对产品的外形也有更高的追求,如大角度弯折的曲面屏幕、以及未来发展的卷曲屏幕。
技术实现思路
一方面,本公开实施例提供了一种显示基板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括弯折区;多个子像素,位于所述衬底基板之上;像素界定层,所述像素界定层在所述弯折区具有多个第一开口,所述子像素在所述弯折区的正投影位于所述第一开口的正投影内,所述第一开口的坡度角大于预设角度,且所述第一开口的坡度角与所述弯折区的曲率呈正相关,以使得在所述弯折区的所述子像素的出射光未被所述像素界定层遮挡。可选地,在本公开实施例提供的上述显示基板中,在所述弯折区,所述像素界定层的侧表面包括:在远离所述衬底基板的方向上,依次连续排布的第一部、过渡部和第二部;其中,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第一部的厚度大于所述过渡部的厚度且小于所述第二部的厚度。可选地,在本公开实施例提供的上述显示基板中,在所述弯折区,所述像素界定层的侧表面包括:第一部,以及在所述第一部靠近所述衬底基板一侧的边界处交替设置的所述过渡部和所述第二部;其中,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第二部的厚度大于所述过渡部的厚度且小于所述第一部的厚度。可选地,在本公开实施例提供的上述显示基板中,所述第一开口的坡度角大于或等于160°且小于 ...
【技术保护点】
1.一种显示基板,其中,包括:/n衬底基板,所述衬底基板包括弯折区;/n多个子像素,位于所述衬底基板之上;/n像素界定层,所述像素界定层在所述弯折区具有多个第一开口,所述子像素在所述弯折区的正投影位于所述第一开口的正投影内,所述第一开口的坡度角大于预设角度,且所述第一开口的坡度角与所述弯折区的曲率呈正相关,以使得在所述弯折区的所述子像素的出射光未被所述像素界定层遮挡。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其中,包括:
衬底基板,所述衬底基板包括弯折区;
多个子像素,位于所述衬底基板之上;
像素界定层,所述像素界定层在所述弯折区具有多个第一开口,所述子像素在所述弯折区的正投影位于所述第一开口的正投影内,所述第一开口的坡度角大于预设角度,且所述第一开口的坡度角与所述弯折区的曲率呈正相关,以使得在所述弯折区的所述子像素的出射光未被所述像素界定层遮挡。
2.如权利要求1所述的显示基板,其中,在所述弯折区,所述像素界定层的侧表面包括:在远离所述衬底基板的方向上,依次连续排布的第一部、过渡部和第二部;其中,
在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第一部的厚度大于所述过渡部的厚度且小于所述第二部的厚度。
3.如权利要求1所述的显示基板,其中,在所述弯折区,所述像素界定层的侧表面包括:第一部,以及在所述第一部靠近所述衬底基板一侧的边界处交替设置的所述过渡部和所述第二部;其中,
在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第二部的厚度大于所述过渡部的厚度且小于所述第一部的厚度。
4.如权利要求1所述的显示基板,其中,所述第一开口的坡度角大于或等于160°且小于或等于170°。
5.如权利要求1-4任一项所述的显示基板,其中,所述衬底基板还包括平坦区,所述像素界定层在所述平坦区具有多个第二开口,所述子像素在所述平坦区的正投影位于所述第二开口的正投影内,所述第二开口与所述第一开口的形状相同。
6.如权利要求1-4任一项所述的显示基板,其中,所述衬底基板还包括平坦区,所述像素界定层在所述平坦区具有多个第二开口,所述子像素在所述平坦区的正投影位于所述第二开口的正投影内,所述第二开口的坡度角小于所述第一开口的坡度角。
7.如权利要求6所述的显示基板,其中,所述第二开口的坡度角大于或等于140°且小于或等于150°。
8.如权利要求6所述的显示基板,其中,在所述平坦区,所述像素界定层的侧表面为一平面,且所述平面与所述像素界定层靠近所述衬底基板一侧表面之间的夹角大于或等于30°且小于或等于40°。
9.一种显示基板的制作方法,其中,包括:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板上形成像素界定层,所述像素界定层在待弯折区具有坡度角大于预设角度的多个第一开口;
在所述像素界定层的所述多个第一开口内形成多个子像素;
弯折具有所述多个子像素的所述衬底基板,其中弯折区的曲率与所述第一开口的坡度角呈正相关,使得所述弯折区的所述子像素的出射光未被所述像素界定层遮挡。
10.如权利要求9所述的制作方法,其中,形成像素界定层,具体包括:
在所述衬底基板上形成感光材料层;
提供一第一掩膜板,所述第一掩膜板包括第一透明衬底,位于所述第一透明衬底之上的第一遮光层;所述第一遮光层具有多个第一透光区、环绕所述第一透光区的多个第二透光区、以及在所述第一透光区之间和所述第一透光区、所述第二透光区之间的遮光区;
采用第一掩膜板...
【专利技术属性】
技术研发人员:程博,都蒙蒙,苟结,马宏伟,杨益祥,杨双宾,颜俊,李宇婧,张振华,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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