版图图形精准匹配的检查方法技术

本发明专利技术提供了一种版图图形精准匹配的检查方法，包括：读取标准版图设计，查找出基准图形；对基准图形生成边界框；根据边界框的尺寸和位置对基准图形添加标志图形；将基准图形、边界框和标志图作为待测版图图形匹配计算的基准单元；使用基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图图形重合时，检测相邻基准单元的边界框是否重叠；若有重叠，则将重叠的相邻边界框进行合；计算边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图图形有重叠区域。此方法检查到了版图图形有重叠的情况，可以解决版图图形匹配度的检查过程中误把重叠图形认为标准图形的风险，同时，并且降低了计算时间。

【技术实现步骤摘要】
版图图形精准匹配的检查方法
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种版图图形精准匹配的检查方法。
技术介绍
在先进工艺芯片设计版图中存在一部分重复性很高的图形，比如逻辑芯片的存储区和摄像头芯片的像素区。原始设计图形尺寸细微的差别将会对光学临近修正造成巨大的影响，对于这些重复单元，业内常用图形匹配这种方法来检测这些重复单元，确保其在原始设计的图形尺寸保持一致。图形匹配检查的基本原理是采用一个最小重复子单元作为基准图形和原始版图内的图形进行比对，当基准图形和版图内的图形尺寸、相对位置完全匹配时，则认为匹配度一致。当版图内的重复子单元以x为步长重叠时，如果x大于一定的值时,此时相邻匹配单元图形进入匹配单元的边界框内，成为了该匹配单元的额外图形，这是匹配度不一致的图形,然而业内要检测出这种匹配度不一致的图形，而不漏报的方法是采取多个标准库对版图进行比对，这种方法计算量成倍增加，并且随着芯片工艺的进步，版图内重复单元的设计越来越复杂，重复单元的旋转和对称方式也变得越来越多样化，标准库总是有限的，无法做到利用这种多次检查的方法来规避风险。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种版图图形精准匹配的检查方法，可以解决版图图形匹配度的检查过程中误把重叠图形认为标准图形的风险，同时可以降低计算时间。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种版图图形精准匹配的检查方法，包括：读取标准版图设计，标准版图包括多个图形，从多个图形中查找出基准图形；对所述基准图形生成边界框；根据所述边界框的尺寸和位置对所述基准图形添加标志图形；将所述基准图形、边界框和标志图形存入标准库，作为待测版图图形匹配计算的基准单元；使用所述基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图的图形重合时，检测基准单元的边界框是否重叠；若基准单元的边界框之间有重叠，则将重叠的边界框进行合并形成新的边界框；计算原来的边界框和新的边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图有重叠图形。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，若将标准版图映射在XY坐标轴上，其中X轴垂直Y轴，则所述边界框平行于X轴或Y轴。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，所述边界框具有四条边，分别为第一边界线、第二边界线、第三边界线和第四边界线，所述第一边界线、第二边界线、第三边界线和第四边界线组成矩形的形状。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，所述第一边界线和所述第三边界线均平行于Y轴，所述第二边界线和所述第四边界线均平行于X轴。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，根据所述边界框对尺寸和位置对所述基准图形添加标志图形的方法包括：将所述第一边界线和所述第三边界线之间间隙的中心线作为第一中心线；将所述第二边界线和所述第四边界线之间间隙的中心线作为第二中心线；取所述第一中心线和所述第二中心线的交集部分作为标志图形。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，所述第一中心线的宽度为所述第一边界线的长度的十分之一。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，所述第二中心线的宽度为所述第二边界线的长度的十分之一。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，重叠的所述基准单元包括：在X轴方向上重叠的基准单元；或者，在Y方向上重叠的基准单元；或者，在X轴和Y轴方向上均重叠的基准单元。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，如果一边界框内的标志图形的数量等于1，则判断该边界框对应的版图无重叠图形，基准图形与版图图形匹配一致。可选的，在所述的版图图形精准匹配的检查方法中，所述版图图形精准匹配的检查方法还包括：若所述基准图形与版图图形匹配一致，输出匹配度一致的图形。在本专利技术提供的版图图形精准匹配的检查方法中，通过画边界框，再通过边界框的位置和尺寸画出标志图形，最后又通过边界框内的标志图形的数量去检查待测版图的图形是否有重叠的情况，可以解决版图图形匹配度的检查过程中误把重叠图形认为标准图形的风险，同时，不用提供多种标准库反复对比，降低了计算时间。附图说明图1是本专利技术实施例的版图图形精准匹配的检查方法的流程图；图2至图10是本专利技术实施例的版图图形精准匹配的检查方法的示意图；图中：110-第一层图形、120-第二层图形、130-边界框、130A-第一边界框、130B-第二边界框、130C-第三边界框、130D-第四边界框、131-第一边界线、132-第二边界线、133-第三边界线、134-第四边界线、135-第一中心线、136-第二中心线、140-标志图形。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。在下文中，术语“第一”“第二”等用于在类似要素之间进行区分，且未必是用于描述特定次序或时间顺序。要理解，在适当情况下，如此使用的这些术语可替换。类似的，如果本文所述的方法包括一系列步骤，且本文所呈现的这些步骤的顺序并非必须是可执行这些步骤的唯一顺序，且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述的其他步骤可被添加到该方法。参照图1，本专利技术提供了一种版图图形精准匹配的检查方法，包括：S11：读取标准版图设计，标准版图包括多个图形，从多个图形中查找出基准图形；S12：对所述基准图形生成边界框；S13：根据所述边界框的尺寸和位置对所述基准图形添加标志图形；S14：将所述基准图形、边界框和标志图形存入标准库，作为待测版图图形匹配计算的基准单元；S15：使用所述基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图的图形重合时，检测基准单元的边界框是否重叠；S16：若基准单元的边界框之间有重叠，则将重叠的边界框进行合并形成新的边界框；S17：计算原来的边界框和新的边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图有重叠图形。其中：基准图形是版图中的一个最小的重复图形，而版图图形可能为单层图形或多层图形组成，因此，基准图形也可能是单层图形或多层图形组成，例如图2，图2为一个基准图形，其具有两层图形，分别是第一层图形110和第二层图形120。基准图形是已将选好可以作为匹配模板的标准图形，待测版图中有很多个与基准图形相同的图形，但是待测版图中的图形可能存在重叠，本专利技术采用基准单元去验证待测版图中的图形是否有重叠。基准单元和待测版图中的图形均为有多个，在基准图形与待测版图中的图形一一重合对应时，如果待测版图中的图形在某一地方有重叠，基准图形为了去重合待测版图中的图形，则相邻的基准图形彼此也会有重叠，进一步的，边界框也会有重叠，所以将重叠的边界框合并成一个边本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种版图图形精准匹配的检查方法，其特征在于，包括：/n读取标准版图设计，标准版图包括多个图形，从多个图形中查找出基准图形；/n对所述基准图形生成边界框；/n根据所述边界框的尺寸和位置对所述基准图形添加标志图形；/n将所述基准图形、边界框和标志图形存入标准库，作为待测版图图形匹配计算的基准单元；/n使用所述基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图的图形重合时，检测基准单元的边界框是否重叠；/n若基准单元的边界框之间有重叠，则将重叠的相邻边界框进行合并形成新的边界框；/n计算原来的边界框和新的边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图有重叠图形。/n

【技术特征摘要】
1.一种版图图形精准匹配的检查方法，其特征在于，包括：
读取标准版图设计，标准版图包括多个图形，从多个图形中查找出基准图形；
对所述基准图形生成边界框；
根据所述边界框的尺寸和位置对所述基准图形添加标志图形；
将所述基准图形、边界框和标志图形存入标准库，作为待测版图图形匹配计算的基准单元；
使用所述基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图的图形重合时，检测基准单元的边界框是否重叠；
若基准单元的边界框之间有重叠，则将重叠的相邻边界框进行合并形成新的边界框；
计算原来的边界框和新的边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图有重叠图形。


2.如权利要求1所述的版图图形精准匹配的检查方法，其特征在于，若将标准版图映射在XY坐标轴上，其中X轴垂直Y轴，则所述边界框平行于X轴或Y轴。


3.如权利要求2所述的版图图形精准匹配的检查方法，其特征在于，所述边界框具有四条边，分别为第一边界线、第二边界线、第三边界线和第四边界线，所述第一边界线、第二边界线、第三边界线和第四边界线组成矩形的形状。


4.如权利要求3所述的版图图形精准匹配的检查方法，其特征在于，所述第一边界线和所述第三边界线均平行于Y轴，所述第二边界线和所述第四边界线均平行于X轴。

【专利技术属性】
技术研发人员：叶勇，张辰明，陈翰，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31