附硬化膜的基板及其制造方法、树脂组合物、树脂组合物硬化而成的硬化膜以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种附硬化膜的基板及其制造方法、树脂组合物、树脂组合物硬化而成的硬化膜以及显示装置。本发明专利技术的附硬化膜的基板的制造方法，是在基板上形成具有光散射性的硬化膜图案而制造附硬化膜的基板，该方法将含有平均粒径为100至700nm的无机粒子的感光性树脂组合物涂布于基板上，隔着光遮罩而进行曝光，并通过显影除去未曝光部，进行加热而形成既定的硬化膜图案。

【技术实现步骤摘要】
附硬化膜的基板及其制造方法、树脂组合物、树脂组合物硬化而成的硬化膜以及显示装置
本专利技术涉及附硬化膜的基板的制造方法、附硬化膜的基板、感光性树脂组合物、使感光性树脂组合物硬化而成的硬化膜以及具有硬化膜或附硬化膜的基板的显示装置。
技术介绍
近年，不仅研究在200℃以上的高温可使用的玻璃基板或硅晶片等耐热性高的基板，并以装置的可挠性化或在晶片化作为目的，研究在耐热性低的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二酯)等的塑胶基板(塑胶膜、树脂制膜)、或有机EL装置、有机TFT等的附有机装置的基板上，形成图案，而该图案使用具有光散射功能的感光性树脂组合物。在此，若使通过高温烧制用以形成图案的感光性树脂组合物配合基板的耐热性而采用低温烧制，则在塑胶基板及附有机装置的基板上形成的图案的膜强度会变得不充分，在后续的步骤(例如，涂布阻剂时的耐溶剂性或碱显影时的耐碱性等)中，有着容易产生涂膜的膜减少、表面粗糙、图案剥离等的不良情形。因此，现正追求着具有可使用于高温以及低温烧制的两者的光散射性的感光性树脂组合物。例如，在专利文献1揭示一种感光性组合物，该感光性组合物是由TiO2填充剂、光聚合性(甲基)丙烯酸单体、碱溶性树脂、光聚合引发剂、以及有机溶剂所构成，用以形成具有光散射功能的图案。上述感光性组合物设为具有适宜使用于显示装置的光刻蚀刻特性，且具有通过TiO2填充剂使蓝色光散射成比入射角更广角度的光散射性。另外，在专利文献2揭示一种光散射层用树脂组合物，该光散射层用树脂组合物含有至少1种的树脂(A)作为粘结剂材料，并含有氟作为光散射粒子(B)，且含有至少一种选自由ZrO2以及TiO2所组成的群组中的金属氧化物微粒子作为金属氧化物微粒子(C)。上述光散射层用树脂组合物设为可提供一种光取出效率提升率的波长依存性小、且可在广波长区域使用的光散射层用树脂组合物。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本特开2013-156304号公报[专利文献2]日本特开2015-022794号公报。
技术实现思路
[专利技术欲解决的课题]然而，若依据本专利技术人等的见识，记载于专利文献1的感光性组合物为耐溶剂性低，而记载于专利文献2的光散射层用树脂组合物无法获得具有所希望的光散射性的图案。另外，记载于专利文献1的感光性组合物或记载于专利文献2的光散射层用树脂组合物皆无法充分满足硬化膜的密合性及直线再现性等。本专利技术有鉴于如此问题而成，目的在于提供一种附硬化膜的基板的制造方法、附硬化膜的基板、感光性树脂组合物、使感光性树脂组合物硬化而成的硬化膜、以及具有硬化膜及附硬化膜的基板的显示装置，而该感光性树脂组合物无关于基板的耐热温度，可直接在基板形成具有光散射功能，同时密合性、直线性、耐溶剂性等优异的硬化膜。[用以解决课题的手段]本专利技术的附硬化膜的基板的制造方法是在基板上形成具有光散射性的硬化膜图案而制造附硬化膜的基板，该制造方法将含有平均粒径为100至700nm的无机粒子的感光性树脂组合物涂布于基板上，隔着光遮罩而进行曝光，通过显影除去未曝光部，进行加热而形成既定的硬化膜图案。本专利技术的硬化膜是使上述感光性树脂组合物硬化而成。本专利技术的附硬化膜的基板具有上述硬化膜。本专利技术的显示装置具有上述硬化膜或上述附硬化膜的基板。本专利技术的附硬化膜的基板的制造方法是在耐热温度为150℃以下的基板上形成具有光散射性的硬化膜图案而制造附硬化膜的基板，该制造方法将上述感光性树脂组合物涂布于基板上，隔着光遮罩而进行曝光，通过显影除去未曝光部，在150℃以下进行加热而形成既定的硬化膜图案。[专利技术的效果]依据本专利技术，可提供一种附硬化膜的基板的制造方法、附硬化膜的基板、感光性树脂组合物、使感光性树脂组合物硬化而成的硬化膜、以及具有硬化膜及附硬化膜的基板的显示装置，该感光性树脂组合物无关于基板的耐热温度，可直接在基板形成具有光散射功能，同时密合性、直线性、耐溶剂性等优异的硬化膜。具体实施方式以下，说明本专利技术的实施方式，但本专利技术不受以下的实施方式所限定。另外，在本专利技术中，有关各成分的含量，小数第一位为0时，有时会省略小数点以下的标记。本专利技术的感光性树脂组合物包含(A)含有不饱和基的碱溶性树脂。只要为具有用以赋予碱显影性的酸价，且可具备与(B)成分的光聚合性单体组合而适宜的光硬化性的树脂即可，可无特别限定而使用。这些树脂之中，一般而言，具有芳香族性高的骨架的树脂有比重大于脂肪族系树脂的倾向，推断为在设为相同的树脂浓度的溶液时，可增大树脂溶液的比重。据此可增加比重大于树脂的金属氧化物粒子的分散稳定性的倾向。因此，通过使用以通式(1)表示的树脂，可获得具备金属氧化物粒子充分的分散稳定性的感光性树脂组合物。这些之中，使用通式(1)所示的X为芴-9,9-二基的具有多环芳香族骨架的含有不饱和基的碱溶性树脂(卡多(cardo)树脂)时，其效果变大，所以在卡多树脂中可视为金属氧化物粒子的分散稳定性经提升。通过此事，推测可提高使本专利技术的感光性树脂组合物硬化而成的硬化膜的光散射性。另外，卡多树脂在通过光刻蚀刻形成图案时，具有显影时的密合性优异的特性，且使金属氧化物粒子的填充材共存时，也可有效地活用该特性。相对于固体成分的全质量，在本专利技术的感光性树脂组合物中的(A)成分的质量以20至70质量％为较优选。在此，本专利技术的感光性树脂组合物为在150℃以下的低温进行烧制的组合物时，相对于固体成分的全质量，(A)成分的含量以20至60质量％为更优选，使用卡多树脂时，以35至55质量％为更优选。另外，使用其它丙烯酸共聚物等的树脂时，以20至50质量％为更优选。相对于固体成分的全质量，若(A)成分的质量为20质量％以上，即使含有金属氧化物粒子，碱显影时也可稳定地形成图案的溶解显影，并可用以无残渣地获得所希望的图案的感光性树脂组合物的调配设计，相对于固体成分的全质量，若(A)成分的质量为60质量％以下，可提升硬化膜的精细性。另外，可提升碱显影时的生产制程合理性，并充分保证光硬化性。另外，本专利技术的感光性树脂组合物为以超过150℃的高温进行烧制的组合物时，相对于固体成分的全质量，(A)成分的含量以35至70质量％为较优选，使用卡多树脂时，以45至60质量％为更优选。使用其它丙烯酸共聚物系等的树脂时，以35至55质量％以下为较优选。若(A)成分的含量为35质量％以上，即使含有金属氧化物粒子，碱显影时成为溶解显影，可无残渣地获得所希望的图案，若(A)成分的含量为70质量％以下，可提升硬化膜的精细性。另外，可提升碱显影时的生产制程合理性，并充分保证光硬化性。本专利技术的通式(1)所示的在1分子内具有羧基及聚合性不饱和基的碱溶性树脂(A)使二羧酸或三羧酸或这些的单酸酐(b)、以及四羧酸或其二酸酐(c)对在1分子内具有2个环氧基的环氧化合物(a-1)与含有不饱和基的单羧酸的反应物反应而得到。(式(1)中，R1、R2、R3以及R4分别独本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种附硬化膜的基板的制造方法，是在基板上形成具有光散射性的硬化膜图案而制造附硬化膜的基板，该制造方法将含有平均粒径为100至700nm的无机粒子的感光性树脂组合物涂布于基板上，隔着光遮罩而进行曝光，通过显影除去未曝光部，进行加热而形成既定的硬化膜图案。/n

【技术特征摘要】
20190329 JP 2019-068554;20190329 JP 2019-0685711.一种附硬化膜的基板的制造方法，是在基板上形成具有光散射性的硬化膜图案而制造附硬化膜的基板，该制造方法将含有平均粒径为100至700nm的无机粒子的感光性树脂组合物涂布于基板上，隔着光遮罩而进行曝光，通过显影除去未曝光部，进行加热而形成既定的硬化膜图案。


2.一种附硬化膜的基板，是以权利要求1所述的制造方法制造，且该附硬化膜的基板的可见光区域的穿透率为70％以上，对于前述附硬化膜的基板垂直地照射白色光时的直线行进的直接穿透光的角度设为0°时的60°的散射光的强度，相对于以前述直接穿透光的角度设为5°时的散射光的强度，为20％以上。


3.一种附硬化膜的基板，是以权利要求1所述的制造方法制造，且该附硬化膜的基板的可见光区域的穿透率为80％以上，对于前述附硬化膜的基板垂直地照射白色光时的直线行进的直接穿透光的角度设为0°时的45°的散射光的强度，相对于以前述直接穿透光的角度设为5°时的散射光的强度，为15％以上。


4.一种感光性树脂组合物，为制造权利要求2所述的附硬化膜的基板时使用的感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含：
(A)含有不饱和基的碱溶性树脂、
(B)至少具有2个乙烯性不饱和键结的光聚合性单体、
(C)环氧化合物、
(D)TiO2、
(E)光聚合引发剂、及
(F)溶剂；
相对于固体成分的全质量，(D)成分的含量为1质量％以上且未达20质量％。


5.一种感光性树脂组合物，为制造权利要求3所述的附硬化膜的基板时使用的感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含：
(A)含有不饱和基的碱溶性树脂、
(B)至少具有2个乙烯性不饱和键结的光聚合性单体、
(C)环氧化合物、
(D)金属氧化物微粒子、
(E)光聚合引发剂、及
(F)溶剂；
(D)成分的折射率为1.9至2.3。

【专利技术属性】
技术研发人员：新名将司，今野高志，小野悠树，
申请(专利权)人：日铁化学材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP