一种真空灭弧触头组件制造技术

本实用新型专利技术属于真空灭弧技术领域，公开了一种真空灭弧触头组件，包括触头座、触头托、触头、抗压触头支撑和抗拉触头支撑，触头座的上端形成开口；触头托装配在触头座的开口；触头设置在触头托的上端，触头的上表面设有预变形弧面；抗压触头支撑和抗拉触头支撑均设置在触头座和触头托之间，且均与触头托间隔设置。有益效果：在焊接过程中，触头的预变形弧面从底部逐渐凸出变形，凸出正好抵消了高温焊接时触头可能发生的变形，最终使触头的上表面成平面，焊接后的电极平面度达到标准要求和形态；抗压触头支撑和抗拉触头支撑分别提高真空灭弧触头组件的抗压以及抗拉性能，防止触头变形，并且由于两者与触头托间隔布置有利于减小电阻。

【技术实现步骤摘要】
一种真空灭弧触头组件
本技术涉及真空灭弧
，尤其涉及一种真空灭弧触头组件。
技术介绍
真空灭弧室，又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件。真空灭弧室通过管内真空优良的绝缘性使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生，主要应用于电力的输配电控制系统，还应用于冶金、矿山、石油、化工、铁路、广播、通讯、工业高频加热等配电控制系统。一般灭弧室的电极部分采取两种以上不同材质的材料在高温下焊接在一起，由于零件材料热膨胀系数、结构及配合间隙的差异，在升、降温过程中，零件体积收缩率和方向不同产生变形造成触头平面度变化，这样就会导致焊接成型的电极的中部凸出，导致平面度较差。对于平面度要求较高的产品，通常后续再次采用机械加工的方法来获得较好的平面度，这样容易导致管内异物、毛刺和零部件污染，影响灭弧室的绝缘性能。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空灭弧触头组件，以解决高温焊接过程中的变形导致的电极平面度差问题。为达此目的，本技术采用以下技术方案：本技术提供一种真空灭弧触头组件，包括：触头座，所述触头座的上端形成开口；触头托，所述触头托装配在所述触头座的开口；触头，所述触头设置在所述触头托的上端，所述触头的上表面设有向下凹陷的预变形弧面；抗压触头支撑，所述抗压触头支撑设置在所述触头座和所述触头托之间，且所述抗压触头支撑与所述触头托间隔设置；抗拉触头支撑，所述抗拉触头支撑设置在所述触头座和所述触头托之间并位于所述抗压触头支撑的外侧，且所述抗拉触头支撑与所述触头托间隔设置。在焊接过程中，触头的预变形弧面从底部逐渐凸出变形，凸出正好抵消了高温焊接时触头可能发生的变形，最终使触头的上表面成平面，焊接后的电极平面度达到标准要求和形态；抗压触头支撑和抗拉触头支撑分别提高真空灭弧触头组件的抗压以及抗拉的性能，防止触头变形，并且抗压触头支撑和抗拉触头支撑均与触头托间隔设置有利于减小电阻。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头座、所述触头托、所述触头、所述抗压触头支撑和所述抗拉触头支撑同轴布置。各部件同轴布置，受力更均匀，有效防止触头变形。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头座包括座底和座侧壁，所述座侧壁环设在所述座底的边缘，所述座底的上端面设有圆形槽，所述抗压触头支撑设置在所述圆形槽中。抗压触头支撑设置在圆形槽中被限位。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头托的底部设有环形的凸肋，所述抗压触头支撑设置在所述凸肋的径向内侧，所述抗拉触头支撑设置在所述凸肋的径向外侧。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头托与所述触头为一体结构。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述座侧壁的外周面设有多个等角间隔的旋弧槽，所述旋弧槽的顶点延伸至所述座侧壁的上缘并形成方槽。设置旋弧槽有利于增大电流路径，从而增大开断时触头间的磁场，提高了灭弧能力；设置方槽起延长了电流路径，增强纵向磁场而有利于触头断开。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头托沿周向设有对应所述旋弧槽个数的第一通槽，所述第一通槽的径向外端连接至对应的一个所述方槽。设置第一通槽延长电流路径，进一步增强纵向磁场，有利于触头断开。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头沿周向设有对应所述旋弧槽个数的第二通槽，所述第二通槽与所述第一通槽沿轴向对齐。设置第二通槽延长电流路径并且与第一通槽轴向对齐，进一步增强纵向磁场，有利于触头断开。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，至少部分所述第一通槽的延伸方向不经过所述触头托的中心，至少部分所述第二通槽不经过所述触头的中心。将第一通槽和第二通槽设置为偏心结构有利于增强纵向磁场。作为上述真空灭弧触头组件的优选方案，所述触头座和所述触头托由无氧铜材料制备，所述触头由铜铬材料制备，所述抗压触头支撑和所述抗拉触头支撑由不锈钢材料制备。本技术的有益效果：在焊接过程中，触头的预变形弧面从底部逐渐凸出变形，凸出正好抵消了高温焊接时触头可能发生的变形，最终使触头的上表面成平面，焊接后的电极平面度达到标准要求和形态；抗压触头支撑和抗拉触头支撑分别提高真空灭弧触头组件的抗压以及抗拉的性能，防止触头变形，并且两者与触头托间隔设置有利于减小电阻。附图说明图1是本技术的具体实施例的真空灭弧触头组件的剖视图；图2是触头座的结构示意图；图3是触头托的结构示意图；图4是触头的结构示意图。图中：1-触头座；2-触头托；2A-第一通槽；3A-第二通槽；3-触头；4-抗压触头支撑；5-抗拉触头支撑；11-座底；12-座侧壁；13-圆形槽；20-凸肋；30-预变形弧面；120-旋弧槽；121-方槽。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。本技术提供一种真空灭弧触头组件，如图1所示，真空灭弧触头组件包括同轴布置的触头座1、触头托2和触头3，触头座1的上端形成开口，触头托2装配在触头座1的开口，触头3设置在触头托2上，触头3的上表面设有向下凹陷的预变形弧面30。在本实施例中，触头座1和触头托2由无氧铜材料制备，触头3由铜铬材料制备。在焊接过程中，触头3的预变形弧面30从底部逐渐凸出变形，凸出正好抵消了高温焊接时触头3可能发生的变形，最终使触头3的上表面成平面，即预变形弧面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空灭弧触头组件，其特征在于，包括：/n触头座(1)，所述触头座(1)的上端形成开口；/n触头托(2)，所述触头托(2)装配在所述触头座(1)的开口；/n触头(3)，所述触头(3)设置在所述触头托(2)的上端，所述触头(3)的上表面设有向下凹陷的预变形弧面(30)；/n抗压触头支撑(4)，所述抗压触头支撑(4)设置在所述触头座(1)和所述触头托(2)之间，且所述抗压触头支撑(4)与所述触头托(2)间隔设置；/n抗拉触头支撑(5)，所述抗拉触头支撑(5)设置在所述触头座(1)和所述触头托(2)之间并位于所述抗压触头支撑(4)的外侧，所述抗拉触头支撑(5)与所述触头托(2)间隔设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空灭弧触头组件，其特征在于，包括：
触头座(1)，所述触头座(1)的上端形成开口；
触头托(2)，所述触头托(2)装配在所述触头座(1)的开口；
触头(3)，所述触头(3)设置在所述触头托(2)的上端，所述触头(3)的上表面设有向下凹陷的预变形弧面(30)；
抗压触头支撑(4)，所述抗压触头支撑(4)设置在所述触头座(1)和所述触头托(2)之间，且所述抗压触头支撑(4)与所述触头托(2)间隔设置；
抗拉触头支撑(5)，所述抗拉触头支撑(5)设置在所述触头座(1)和所述触头托(2)之间并位于所述抗压触头支撑(4)的外侧，所述抗拉触头支撑(5)与所述触头托(2)间隔设置。


2.根据权利要求1所述的真空灭弧触头组件，其特征在于，所述触头座(1)、所述触头托(2)、所述触头(3)、所述抗压触头支撑(4)和所述抗拉触头支撑(5)同轴布置。


3.根据权利要求1所述的真空灭弧触头组件，其特征在于，所述触头座(1)包括座底(11)和座侧壁(12)，所述座侧壁(12)环设在所述座底(11)的边缘，所述座底(11)的上端面设有圆形槽(13)，所述抗压触头支撑(4)设置在所述圆形槽(13)中。


4.根据权利要求3所述的真空灭弧触头组件，其特征在于，所述触头托(2)的底部设有环形的凸肋(20)，所述抗压触头支撑(4)设置在所述凸肋(20)的径向内侧，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐巧霞，李伟青，
申请(专利权)人：陕西宝光真空电器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61