一种固定晶圆用静电吸盘制造技术

本实用新型专利技术涉及一种固定晶圆用静电吸盘，具有晶圆固定单元，晶圆固定单元包括底盘以及设置在底盘下端的电容盘，底盘和电容盘通过辅助安装单元进行定位安装，电容盘内设有冷却通道，用于对其进行冷却，电容盘的下端面固定连接有位移单元，位移单元的输出可贯穿晶圆固定单元带动晶圆升降。辅助安装单元包括底盘上设置的两个凹槽和电容盘上设置的2个凸起，凹槽与凸起位置相对应设置，且凹槽与凸起互补设置。本实用新型专利技术的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种便于安装，且冷却效果好的固定晶圆用的静电吸盘。

【技术实现步骤摘要】
一种固定晶圆用静电吸盘
本技术涉及静电吸盘领域，尤其是一种固定晶圆用静电吸盘。
技术介绍
刻蚀技术是半导体加工工艺中最为常见的一道工序，它是按照掩膜图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术，在晶圆刻蚀的加工工序中，通常采用静电吸盘用于固定和支撑晶圆，以避免刻蚀过程中，由于晶圆静电吸盘其由多层单元组成，层与层之间安装有方向区别，而现有的晶圆静电吸盘在安装的过程中没有辅助安装装置，从而导致其安装时需要先辨别安装方向是否正确；此外现有静电吸盘的冷却效果不佳，不仅影响设备自身的使用寿命，还会影响到晶圆刻蚀的效果。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种便于安装，且冷却效果好的固定晶圆用的静电吸盘。实现本技术目的的技术方案是：一种固定晶圆用静电吸盘，具有晶圆固定单元；所述晶圆固定单元包括底盘以及设置在底盘下端的电容盘；所述底盘和电容盘通过辅助安装单元进行定位安装；所述电容盘内设有冷却通道，用于对其进行冷却；所述电容盘的下端面固定连接有位移单元；所述位移单元的输出可贯穿晶圆固定单元带动晶圆升降。进一步地，所述辅助安装单元包括底盘上设置的两个凹槽和电容盘上设置的2个凸起；所述凹槽与凸起位置相对应设置，且凹槽与凸起互补设置。进一步地，两个所述凹槽的大小和/或形状不同。进一步地，所述底盘的中央设有放置台；所述放置台上设置有贯穿底盘的小孔洞和大孔洞；所述大孔洞的数量为4，小孔洞数量为多个；所述大孔洞包括上部分和下部分，上部分和下部分连通。进一步地，所述大孔洞的上部分孔径＜大孔洞的下部分孔径，且在下部分孔径对应的孔洞垂直方向上设有通道；所述大孔洞下部分孔径对应的孔洞与通道连通。进一步地，所述底盘的下端面上还设置有第一凹槽以及与该第一凹槽连通的U形孔；所述U形孔贯穿底盘。进一步地，所述电容盘上设置有贯穿盘体的安装孔和第一连接孔；所述安装孔有4个，其位置与底盘上设置的大孔洞位置相对应；所述电容盘的上端面设置有环形槽；所述环形槽径向延伸方向上设有辅助槽；所述辅助槽与环形槽连通。进一步地，所述电容盘下端面还设有冷却水进口和冷却水出口；所述冷却通道由冷却水进口处经内周延伸至外周，再延伸至内周至冷却水出口处。进一步地，所述电容盘下端面还设置有背氦连接孔；所述背氦连接孔设置在一条直径上；所述背氦连接孔包括第二连接孔和第三连接孔。进一步地，所述位移单元包括密封隔离波纹管装置和升降装置；所述升降装置通过连接器与密封隔离波纹管装置连接；所述密封隔离波纹管装置的输出轴穿过安装孔。采用上述技术方案后，本技术具有以下积极的效果：(1)本技术中的辅助安装单元为凹槽和凸起，其中开设在底盘下端面上的凹槽有2个，且大小和/或形状不同；又因为凹槽与凸起位置相对应，且互补设置，因为底盘与电容盘之间安装有方向，所以在安装底盘和电容盘时，根据两个凹槽的大小或者形状不同，即可进行快速安装，提高安装效率。(2)本技术电容盘内设有冷却装置，冷却装置在电容盘内部从内周延伸至外周，再从外周延伸至内周，其涉及范围广，冷却效果佳，这样可以在一定程度上增加整体装置的寿命，且提高晶圆的加工质量。(3)本技术位移单元中采用了密封隔离波纹管，其密封隔离性能好，且结构简单，其能够避免因使用诸如气缸类密封性不好的升降机构,而导致的晶圆报废等问题。附图说明为了使本技术的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本技术作进一步详细的说明，其中图1为本技术的立体图；图2为本技术的爆炸图；图3为本技术的爆炸图；图4为本技术的底盘俯视图；图5为本技术的U-U剖面图；图6为本技术的底盘仰视图；图7为本技术的电容盘俯视图；图8为本技术的电容盘仰视图；图9为本技术的电容盘内部冷却通道图。附图中标号为：第一连接孔00、第二连接孔01、第三连接孔02、底盘1、晶圆固定单元10、放置台11、小孔洞110、大孔洞111、通道112、第一凹槽113、U形孔114、凹槽12、电容盘2、安装孔21、凸起22、环形槽24、辅助槽25、冷却水进口26、冷却水出水口27、冷却通道28、位移单元30、密封隔离波纹管装置31、升降装置32、连接器33。具体实施方式(实施例1)见图1至图9，本技术具有晶圆固定单元10，晶圆固定单元10包括底盘1以及设置在底盘1下端的电容盘2，底盘1和电容盘2通过辅助安装单元进行定位安装，电容盘2内设有冷却通道28，用于对其进行冷却；电容盘2的下端面固定连接有位移单元30，位移单元30的输出可贯穿晶圆固定单元10带动晶圆升降。本实施例中更具体地，辅助安装单元包括底盘1上设置的两个凹槽12和电容盘2上设置的2个凸起22，两个凹槽12开设在底盘1的下端面边缘，与凹槽12位置相对应的电容盘2上一体设有与凹槽12的形状和/或大小互补的两个凸起22，底盘1与电容盘2通过凸起22与凹槽12互补卡合进行对准安装固定，再配合螺栓穿过底盘1上的螺纹孔固定在电容盘2的上表面。本实施例中更具体地，两个凹槽12的大小和/或形状不同，每个凹槽12对应凸起22的大小和/或形状需与之互补。本实施例中更具体地，底盘1的中央设有放置台11，放置台11用于放置晶圆，放置台11与底盘1一体成形，且放置台11端面高出底盘1的盘体端面，放置台11上设置有贯穿底盘1的小孔洞110和大孔洞111，小孔洞110数量为多个，小孔洞110分散布置在放置台11上，大孔洞111的数量为4，大孔洞111包括上部分和下部分，上部分和下部分连通，其中大孔洞111的上部分孔径＜大孔洞111的下部分孔径，且在下部分孔径对应的孔洞垂直方向上设有通道112，大孔洞111下部分孔径对应的孔洞与通道112连通本实施例中更具体地，底盘1的下端面上还设置有第一凹槽113以及与该第一凹槽113连通的U形孔114，U形孔114放置有铜箔，U形孔114贯穿底盘1，第一凹槽113没有贯穿底盘1。本实施例中更具体地，电容盘2上设置有贯穿盘体的安装孔21和第一连接孔00，安装孔21数量为4个，4个安装孔21的位置设置在电容盘2近圆心的四周，其位置与底盘1上设置的大孔洞111位置相对应，安装孔21用于安装位移单元30的输出轴，电容盘2的上端面设置有环形槽24，环形槽24设置在4个安装孔21的外围，环形槽24径向延伸方向上设有两个辅助槽25，环形槽24内放置有密封圈，两个辅助槽25均与环形槽24连通，且两个辅助槽25位置不与凸起22重叠，辅助槽25的设置是为了方便更换环形槽24内的密封圈。本实施例中更具体地，电容盘2下端面还设有冷却水进口26和冷却水出口27，冷却通道28由冷却水进口26处经电容盘2内周延伸至电容盘2外周，并环绕接近一周，再延伸至电容盘2内周到冷却水出口27处，电容盘2下端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种固定晶圆用静电吸盘，具有晶圆固定单元(10)；其特征在于：所述晶圆固定单元(10)包括底盘(1)以及设置在底盘(1)下端的电容盘(2)；所述底盘(1)和电容盘(2)通过辅助安装单元进行定位安装；所述电容盘(2)内设有冷却通道(28)，用于对其进行冷却；所述电容盘(2)的下端面固定连接有位移单元(30)；所述位移单元(30)的输出可贯穿晶圆固定单元(10)带动晶圆升降。/n

【技术特征摘要】
1.一种固定晶圆用静电吸盘，具有晶圆固定单元(10)；其特征在于：所述晶圆固定单元(10)包括底盘(1)以及设置在底盘(1)下端的电容盘(2)；所述底盘(1)和电容盘(2)通过辅助安装单元进行定位安装；所述电容盘(2)内设有冷却通道(28)，用于对其进行冷却；所述电容盘(2)的下端面固定连接有位移单元(30)；所述位移单元(30)的输出可贯穿晶圆固定单元(10)带动晶圆升降。


2.根据权利要求1所述的一种固定晶圆用静电吸盘，其特征在于：所述辅助安装单元包括底盘(1)上设置的两个凹槽(12)和电容盘(2)上设置的2个凸起(22)；所述凹槽(12)与凸起(22)位置相对应设置，且凹槽(12)与凸起(22)互补设置。


3.根据权利要求2所述的一种固定晶圆用静电吸盘，其特征在于：两个所述凹槽(12)的大小和/或形状不同。


4.根据权利要求1所述的一种固定晶圆用静电吸盘，其特征在于：所述底盘(1)的中央设有放置台(11)；所述放置台(11)上设置有贯穿底盘(1)的小孔洞(110)和大孔洞(111)；所述大孔洞(111)的数量为4，小孔洞(110)数量为多个；所述大孔洞(111)包括上部分和下部分，上部分和下部分连通。


5.根据权利要求4所述的一种固定晶圆用静电吸盘，其特征在于：所述大孔洞(111)的上部分孔径＜大孔洞(111)的下部分孔径，且在下部分孔径对应的孔洞垂直方向上设有通道(112)；所述大孔洞(111)下部分孔径对应的孔洞与通道(112)连通...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖海涛，吕军，
申请(专利权)人：无锡市邑勉微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32