【技术实现步骤摘要】
基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统
本专利技术涉及激光等离子体型极紫外(LPP-EUV)光刻光源,特别是一种基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统。
技术介绍
随着电子信息产业的飞速发展,半导体制造工艺水平大幅度提升,光刻技术正在迈向10nm乃至7nm以下的分辨尺寸节点。光刻光源的波长已从436nm(Hg-g)、365nm(Hg-i)发展到248nm(KrF)、193nm(ArF)和157nm(F2),正在向13.5nm(EUV)等更短波长发展。根据EUV光源的产生方式,其类型主要包括同步辐射型光源、放电等离子体型光源和激光等离子体(LPP)型光源等。同步辐射型光源通过改变磁场中带电粒子的运动状态而产生EUV光辐射,其装置体积庞大、结构复杂且造价较高。放电等离子体型光源通过高压放电击穿物质形成等离子体的方式产生EUV光辐射,其装置结构较简单,但碎屑污染程度较为严重。LPP-EUV光源则通过高功率激光照射靶材(Sn或Xe等)形成等离子体的方式产生EUV光辐射。此类光源的发光区域较小,具有良好的可控性和稳定性,已成为最具有应用潜力的光刻光源。常见的LPP-EUV光源多采用单个椭球面光收集镜,利用此方式通常仅能实现较小立体角内的EUV光收集(NaturePhotonics,2010,4(1):24-26)。为了推动EUV光刻技术的产业化进程,需进一步提高EUV光收集效率,从而提升LPP-EUV光源的功率输出能力。
技术实现思路
本专利技术提供一种基于椭球面镜-球面镜组 ...
【技术保护点】
1.一种基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统,其特征在于,包括泵浦激光脉冲源(1)、带有光学窗片(2)的真空室(3)、凸透镜(4)、靶材(5)、椭球面镜(6)和球面镜(7),所述的椭球面镜(6)、球面镜(7)与凸透镜(4)共轴地置于所述的真空室(3)内,且所述的椭球面镜(6)的第一焦点、球面镜(7)的球心与凸透镜(4)的焦点重合(O1),所述的靶材(5)置于所述的椭球面镜(6)的第一焦点(O1)处,由所述的泵浦激光脉冲源(1)产生的泵浦激光脉冲(L1)通过所述的光学窗片(2)进入所述的真空室(3),再经所述的凸透镜(4)聚焦而作用于靶材(5),所述的泵浦激光脉冲(L1)作用于靶材(5)产生EUV光辐射(L2),该EUV光辐射(L2)经所述的球面镜(7)和椭球面镜(6)反射而聚焦于椭球面镜(6)的第二焦点(O2)处。/n
【技术特征摘要】
1.一种基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统,其特征在于,包括泵浦激光脉冲源(1)、带有光学窗片(2)的真空室(3)、凸透镜(4)、靶材(5)、椭球面镜(6)和球面镜(7),所述的椭球面镜(6)、球面镜(7)与凸透镜(4)共轴地置于所述的真空室(3)内,且所述的椭球面镜(6)的第一焦点、球面镜(7)的球心与凸透镜(4)的焦点重合(O1),所述的靶材(5)置于所述的椭球面镜(6)的第一焦点(O1)处,由所述的泵浦激光脉冲源(1)产生的泵浦激光脉冲(L1)通过所述的光学窗片(2)进入所述的真空室(3),再经所述的凸透镜(4)聚焦而作用于靶材(5),所述的泵浦激光脉冲(L1)作用...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宗昕,冷雨欣,王成,程欣,王关德,孙海轶,彭宇杰,王雪培,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
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