硅片清洗机纯水再利用系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种硅片清洗机纯水再利用系统，包括插片机，用以将待清洗硅片插入清洗花篮中；清洗机，用以对清洗花篮中的待清洗硅片进行清洗；其中，所述清洗机的排液口与所述插片机的进液口之间设有连通管，所述连通管与所述清洗机的进液管之间设有热交换器。该清洗系统可以有效降低清洗机的电能消耗，同时提高纯水的利用率和插片机的清洗能力，降低插片机的清理频率。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗机纯水再利用系统
本技术涉及硅片清洗装置
，尤其涉及一种硅片清洗机纯水再利用系统。
技术介绍
硅片经过切片、倒角、研磨、表面处理、抛光、外延等不同工序加工后，表面已经受到严重的沾污，清洗的目的就是为了去除硅片表面颗粒、金属离子以及有机物等污染，避免后期器件成品产生严重漏电等缺陷。目前硅片的清洗流程一般为：使用插片机将硅片插进清洗花篮中，硅片随清洗花篮进入清洗机内进行清洗。在清洗时，需要向清洗机中注入纯水，并通过加热装置将纯水加热至50℃左右，然后开始清洗，待清洗工序完成后，便将清洗液直接排放。由于待清洗硅片上杂质较多，因此第一时间接触待清洗硅片的插片机也需要定期清理，但传统插片机清理的标准较低，主要是采用水温较低的自来水进行清洗，众所周知，自来水中可能会存在絮状物等杂质，采用自来水清洗后的插片机上会残留部分杂质，因此需要经常清洗才能循环使用。由上可以看出，传统清洗系统中的硅片清洗步骤和插片机的清洗步骤独立完成，硅片的清洗标准较高，但是存在水资源和热量浪费的问题，插片机清洗标准低，但是存在维护步骤繁琐的问题，这不利于硅片清洗效率和质量的提高。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中所述的缺陷，从而提供一种硅片清洗机纯水再利用系统，该清洗系统可以有效降低清洗机的电能消耗，同时提高纯水的利用率和插片机的清洗能力，降低插片机的清理频率。为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅片清洗机纯水再利用系统，包括：插片机，用以将待清洗硅片插入清洗花篮中；清洗机，用以对所述清洗花篮中的待清洗硅片进行清洗；其中，所述清洗机的排液口与所述插片机的进液口之间设有连通管，所述连通管与所述清洗机的进液管之间设有热交换器。在一个实施例中，所述连通管上设有排水收集泵，以将所述清洗机排出的清洗液泵入所述插片机中。在一个实施例中，所述清洗液为纯水。在一个实施例中，所述连通管上还设有过滤装置，所述过滤装置位于所述排水收集泵与所述清洗机的排液口之间。在一个实施例中，所述热交换器位于所述排水收集泵的下游。在一个实施例中，所述热交换器包括热进液口、热出液口、冷进液口和冷出液口，所述热进液口与所述排水收集泵的出口连通，所述热出液口与所述插片机的进液口连通；所述冷进液口与所述清洗机的进液管连通，所述冷出液口与所述清洗机连通。在一个实施例中，所述热交换器为铸铁式热交换器、筒式热交换器、钢制式热交换器、储水式热交换器或板式热交换器。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：本技术提供的硅片清洗机纯水再利用系统包括插片机和清洗机，其中，与现有技术不同的是，本申请清洗机的排液口与插片机的进液口相连通，即设置了用于连通清洗机排液口和插片机进液口的连通管，因此，由清洗机排出的清洗液可以直接流入插片机中，用来清洗插片机，提高清洗液的利用率，而且由于用于清洗硅片的清洗液标准较高，即清洗液中的水溶液均为纯水，不含絮状物等杂质，因此，相对于传统中采用自来水清洗插片机的方式来说，不会发生絮状物附着在插片机上需要经常清理的问题，提高了插片环节的清洗能力；除此之外，本申请还在连通管与清洗机的进液管之间设置了热交换器，热交换器可以将连通管中较高温度(50℃左右)废液的热量传递给清洗机进液管中的常温清洗液，不仅可以将用于清洗插片机的清洗液得到降温，直接清洗插片机，而且还能将用于清洗硅片的清洗液的温度升高至38℃左右，使加热装置每加热1吨水节省16kw.h左右的电量，大大降低了电能的消耗，也能更快的使常温清洗液达到指定温度对硅片进行清洗，提高硅片的清洗效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为本技术一个实施例所提供的结构示意图。附图标记说明：1、插片机；2、清洗机；3、连通管；4、进液管；5、热交换器；51、热进液口；52、热出液口；53、冷进液口；54、冷出液口；6、排水收集泵；7、过滤装置。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。需要说明的是，附图中的箭头方向为液体流动方向。如图1所示，本技术提供了一种硅片清洗机纯水再利用系统，包括插片机1和清洗机2，插片机1用以将待清洗硅片插入清洗花篮中；清洗机2用以对清洗花篮中的待清洗硅片进行清洗；其中，清洗机2的排液口与插片机1的进液口之间设有连通管3，连通管3与清洗机2的进液管4之间设有热交换器5，热交换器5包括热进液口51、热出液口52、冷进液口53和冷出液口54。本技术的工作原理为，首先通过清洗机2的进液管4向清洗机2中注入清洗液，并用加热设备将其升温至50℃左右，同时采用插片机1将待清洗的硅片通过清洗机2的花篮载入清洗室内，用50℃的纯水对其进行清洗，清洗完毕后，清洗液从清洗机2的排液口流出，通过连通管3进入热交换器5的热进液口，与通过热交换器5的冷进液口进入的常温清洗液进行热交换，降温至40℃左右后经热交换器5的热出液口流出，最终进入插片机1，实现对插片机1的清洗，而通过热交换器5的冷进液口经热交换后温度升至38℃左右，并经热交换器5的冷出液口进入清洗机2中对硅片进行清洗。在本实施例中所用到的清洗液为纯水，当然也可以不仅限于纯水，例如可以在纯水中加入其它用于除去杂质的物质，例如HF等，但是其中的水溶液需为纯水，此处所指的纯水为不含杂质的H2O。从学术角度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片清洗机纯水再利用系统，其特征在于，包括：/n插片机，用以将待清洗硅片插入清洗花篮中；/n清洗机，用以对所述清洗花篮中的待清洗硅片进行清洗；/n其中，所述清洗机的排液口与所述插片机的进液口之间设有连通管，所述连通管与所述清洗机的进液管之间设有热交换器。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机纯水再利用系统，其特征在于，包括：
插片机，用以将待清洗硅片插入清洗花篮中；
清洗机，用以对所述清洗花篮中的待清洗硅片进行清洗；
其中，所述清洗机的排液口与所述插片机的进液口之间设有连通管，所述连通管与所述清洗机的进液管之间设有热交换器。


2.根据权利要求1所述的硅片清洗机纯水再利用系统，其特征在于，所述连通管上设有排水收集泵，以将所述清洗机排出的清洗液泵入所述插片机中。


3.根据权利要求2所述的硅片清洗机纯水再利用系统，其特征在于，所述清洗液为纯水。


4.根据权利要求2或3所述的硅片清洗机纯水再利用系统，其特征在于，所述连通管上还设有过滤装置，所述过滤装置位于所述排水收集泵与所述清洗机的排液口之间。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴乐扬，王进哲，张占勇，
申请(专利权)人：晶澳太阳能越南有限公司，晶海洋半导体材料东海有限公司，
类型：新型
国别省市：越南;VN