本实用新型专利技术公开了一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，使用时，先根据镜片固定伞架调整挡板组件的开合位置，一般情况下，挡板组件上圆直径一般大于镜片固定伞架下圆周五厘米左右，就可以有效防止电子枪的镀膜蒸汽的流动方向，通过伸缩气缸驱动伸缩杆进行上升或者下降来达到调整和固定圆环高度的作用，同时也相当于调整了挡板组件顶部圆直径的目的，可以实现不同顶部圆直径的调节作用，可减少处理箱内壁的污染，也能够减少镀膜液的浪费，提高产能和工艺稳定性；清洁剂瓶通过连接管路与水泵相连接且喷水管与水泵相连接，通过水泵将清洁剂瓶内的清洁剂抽出输送至喷水管内，并通过喷水管将清洁剂生成水雾喷洒在观察窗上，便于清洁。
【技术实现步骤摘要】
一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置
本技术涉及镀膜加工装备领域，具体是一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置。
技术介绍
镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜机在镀膜完成时不便于观察镀膜情况，而且在镀膜过程中镀膜的涂料会飞溅到装置上，影响观察的情况。因此，本领域技术人员提供了一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，包括底座、处理箱、镀膜装置、驱动装置和清洁装置；所述底座的上侧端部设有处理箱，且处理箱的正面上端设有清洁装置，且处理箱的内部下端设有镀膜装置，镀膜装置的上端设有驱动装置；所述清洁装置包括观察窗、安装槽、绒毛毡布和水泵；所述处理箱的正面中间位置设有观察窗，观察窗的上端设有安装槽，且安装槽的内部两端均设有电动气缸，电动气缸的下侧端部均设有升降杆，且升降杆的连接之间均设有与观察窗对应设置的绒毛毡布，且观察窗的上侧端部设有喷水管，且安装槽的内部中间位置设有水泵，且水泵的下侧端部与喷水管之间相互贯穿设置，且水泵的左端设有清洁剂瓶。作为本技术进一步的方案：所述驱动装置包括隔板、镀膜液箱、伸缩气缸和伸缩杆；所述处理箱的内部上端设有隔板，且隔板的上端中间位置设有镀膜液箱，且镀膜液箱的上侧端部设有加注口，且加注口的上侧端部贯穿延伸至处理箱的上端外侧，且镀膜液箱的两端均设有伸缩气缸，且伸缩气缸的下侧端部均设有伸缩杆，且伸缩杆的下侧端部均贯穿延伸至隔板的下端下侧。作为本技术再进一步的方案：所述镀膜装置包括电子枪、圆环、挡板组件和镜片固定伞架；所述电子枪设置在隔板下端的中间位置，且电子枪的上侧端部贯穿延伸至隔板的上端外侧与镀膜液箱相互贯穿设置，且电子枪的下侧端部设有镀膜头，电子枪的两侧均设有安装杆，且伸缩杆贯穿处的连接之间设有圆环，且安装杆的下侧端部均转动连接有挡板组件，且挡板组件与安装杆的转动连接之间均设有转动轴，且处理箱内部下端的中间位置设有与挡板组件对应设置的镜片固定伞架。作为本技术再进一步的方案：所述挡板组件的下侧端部均贯穿延伸至圆环的下端外侧呈倾斜状。作为本技术再进一步的方案：所述清洁剂瓶与水泵的连接之间设有连接管路。作为本技术再进一步的方案：所述电动气缸、水泵、伸缩气缸和电子枪均与外部电源和外部单片机电性连接，且外部单片机的型号为：STM32。作为本技术再进一步的方案：所述伸缩气缸与隔板的安装连接之间均设有固定架。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本装置适用于多种镀膜场合，使用时，先根据镜片固定伞架调整挡板组件的开合位置，一般情况下，挡板组件上圆直径一般大于镜片固定伞架下圆周五厘米左右，就可以有效防止电子枪的镀膜蒸汽的流动方向，通过伸缩气缸驱动伸缩杆进行上升或者下降来达到调整和固定圆环高度的作用，同时也相当于调整了挡板组件顶部圆直径的目的，可以实现不同顶部圆直径的调节作用，可减少处理箱内壁的污染，也能够减少镀膜液的浪费，提高产能和工艺稳定性；清洁剂瓶通过连接管路与水泵相连接且喷水管与水泵相连接，通过水泵将清洁剂瓶内的清洁剂抽出输送至喷水管内，并通过喷水管将清洁剂生成水雾喷洒在观察窗上，便于清洁；在通过电动气缸带动绒毛毡布在观察窗上移动，对观察窗表面的灰尘进行清理，便于观察镀膜情况。附图说明图1为一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置的结构示意图。图2为一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置外部的结构示意图。图中：1-底座、2-处理箱、3-镜片固定伞架、4-挡板组件、5-圆环、6-伸缩杆、7-隔板、8-固定架、9-伸缩气缸、10-转动轴、11-安装杆、12-镀膜液箱、13-加注口、14-电子枪、15-镀膜头、16-观察窗、17-绒毛毡布、18-升降杆、19-安装槽、20-电动气缸、21-喷水管、22-清洁剂瓶、23-连接管路、24-水泵。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1～2，本技术实施例中，一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，包括底座、处理箱、镀膜装置、驱动装置和清洁装置；所述底座1的上侧端部设有处理箱2，且处理箱2的正面上端设有清洁装置，且处理箱2的内部下端设有镀膜装置，镀膜装置的上端设有驱动装置；所述清洁装置包括观察窗16、安装槽19、绒毛毡布17和水泵24；所述处理箱2的正面中间位置设有观察窗16，观察窗16的上端设有安装槽19，且安装槽19的内部两端均设有电动气缸20，电动气缸20的下侧端部均设有升降杆18，且升降杆18的连接之间均设有与观察窗16对应设置的绒毛毡布17，且观察窗16的上侧端部设有喷水管21，且安装槽19的内部中间位置设有水泵24，且水泵24的下侧端部与喷水管21之间相互贯穿设置，且水泵24的左端设有清洁剂瓶22。所述驱动装置包括隔板7、镀膜液箱12、伸缩气缸9和伸缩杆6；所述处理箱2的内部上端设有隔板7，且隔板7的上端中间位置设有镀膜液箱12，且镀膜液箱12的上侧端部设有加注口13，且加注口13的上侧端部贯穿延伸至处理箱2的上端外侧，且镀膜液箱12的两端均设有伸缩气缸9，且伸缩气缸9的下侧端部均设有伸缩杆6，且伸缩杆6的下侧端部均贯穿延伸至隔板7的下端下侧。所述镀膜装置包括电子枪14、圆环5、挡板组件4和镜片固定伞架3；所述电子枪14设置在隔板7下端的中间位置，且电子枪14的上侧端部贯穿延伸至隔板7的上端外侧与镀膜液箱12相互贯穿设置，且电子枪14的下侧端部设有镀膜头15，电子枪14的两侧均设有安装杆11，且伸缩杆6贯穿处的连接之间设有圆环5，且安装杆11的下侧端部均转动连接有挡板组件4，且挡板组件4与安装杆11的转动连接之间均设有转动轴10，且处理箱2内部下端的中间位置设有与挡板组件4对应设置的镜片固定伞架3。所述挡板组件4的下侧端部均贯穿延伸至圆环5的下端外侧呈倾斜状。所述清洁剂瓶22与水泵24的连接之间设有连接管路23。所述电动气缸20、水泵24、伸缩气缸9和电子枪14均与外部电源和外部单片机电性连接，且外部单片机的型号为：STM32。所述伸缩气缸9与隔板7的安装连接之间均设有固定架8。本技术的工作原理是：本技术涉及一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，本装置适用于多种镀膜场合，使用时，先根据镜片固定伞架3调整挡板组件4的开合位置本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，包括底座、处理箱、镀膜装置、驱动装置和清洁装置；其特征在于，所述底座(1)的上侧端部设有处理箱(2)，且处理箱(2)的正面上端设有清洁装置，且处理箱(2)的内部下端设有镀膜装置，镀膜装置的上端设有驱动装置；所述清洁装置包括观察窗(16)、安装槽(19)、绒毛毡布(17)和水泵(24)；所述处理箱(2)的正面中间位置设有观察窗(16)，观察窗(16)的上端设有安装槽(19)，且安装槽(19)的内部两端均设有电动气缸(20)，电动气缸(20)的下侧端部均设有升降杆(18)，且升降杆(18)的连接之间均设有与观察窗(16)对应设置的绒毛毡布(17)，且观察窗(16)的上侧端部设有喷水管(21)，且安装槽(19)的内部中间位置设有水泵(24)，且水泵(24)的下侧端部与喷水管(21)之间相互贯穿设置，且水泵(24)的左端设有清洁剂瓶(22)。/n
【技术特征摘要】
1.一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，包括底座、处理箱、镀膜装置、驱动装置和清洁装置；其特征在于，所述底座(1)的上侧端部设有处理箱(2)，且处理箱(2)的正面上端设有清洁装置，且处理箱(2)的内部下端设有镀膜装置，镀膜装置的上端设有驱动装置；所述清洁装置包括观察窗(16)、安装槽(19)、绒毛毡布(17)和水泵(24)；所述处理箱(2)的正面中间位置设有观察窗(16)，观察窗(16)的上端设有安装槽(19)，且安装槽(19)的内部两端均设有电动气缸(20)，电动气缸(20)的下侧端部均设有升降杆(18)，且升降杆(18)的连接之间均设有与观察窗(16)对应设置的绒毛毡布(17)，且观察窗(16)的上侧端部设有喷水管(21)，且安装槽(19)的内部中间位置设有水泵(24)，且水泵(24)的下侧端部与喷水管(21)之间相互贯穿设置，且水泵(24)的左端设有清洁剂瓶(22)。
2.根据权利要求1所述的一种连续式磁控溅射均匀镀抗反射薄膜装置，其特征在于，所述驱动装置包括隔板(7)、镀膜液箱(12)、伸缩气缸(9)和伸缩杆(6)；所述处理箱(2)的内部上端设有隔板(7)，且隔板(7)的上端中间位置设有镀膜液箱(12)，且镀膜液箱(12)的上侧端部设有加注口(13)，且加注口(13)的上侧端部贯穿延伸至处理箱(2)的上端外侧，且镀膜液箱(12)的两端均设有伸缩气缸(9)，且伸缩气缸(9)的下侧端部均设有伸缩杆(6)，且伸缩杆(6)的下侧端部均贯穿延伸至隔板(7)的下端下侧。
3.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜建峰，
申请(专利权)人：赫得纳米科技昆山有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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