放射线检查装置制造方法及图纸

技术编号:25706037 阅读:24 留言:0更新日期:2020-09-23 02:53
本发明专利技术的放射线检查装置包括:放射线源;检测器,与放射线源相向设置;搬送机构,具有穿过放射线源与检测器之间的被检测物的检查位置的直线状的搬送路径,搬送被检测物;遮蔽箱,包围放射线源及检测器;搬入口,设置在遮蔽箱,且将被检测物搬入遮蔽箱的内部;以及搬出口,设置在遮蔽箱,且将被检测物朝遮蔽箱的外部搬出;搬送机构具有穿过搬入口的直线状的搬入路径、及穿过搬出口的直线状的搬出路径,且搬入口、搬出口、搬入路径及搬出路径从搬送路径的延长线上偏移来设置。

【技术实现步骤摘要】
放射线检查装置
本专利技术的实施方式涉及一种检测透过了被检测物的放射线并形成被检测物的图像的放射线检查装置。
技术介绍
已知有一种放射线检查装置,其对被检测物照射以X射线为代表的放射线,检测因透过被检测物而衰减的放射线的二维分布并进行图像化,由此进行被检测物的非破坏检查。例如,在被检测物为锂离子电池等卷绕结构体的情况下,放射线检查装置对卷绕结构体的内部的尺寸、异物进行在线检查。由此,可发现卷绕结构的卷绕偏移、电极等的标签偏移、卷绕结构体内部的异物。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利第4829949号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]以前的放射线检查装置包括:放射线源,对被检测物照射放射线;检测器,与放射线源相向设置,检测透过了被检测物的放射线;遮蔽箱,收容放射线源及检测器,遮蔽朝外部泄漏的放射线;以及搬送机构,将被检测物搬入遮蔽箱内,并搬送至放射线源与检测器之间的检查位置为止,且将已结束检查的被检测物朝遮蔽箱的外部搬出。以前,所述搬送机构变成如下的机构,其具有:搬送部,在遮蔽箱的内部,将排列成规定间距的被检测物以圆形轨道依次搬送至检测位置;搬入部,将所述被检测物搬入遮蔽箱内部;以及搬出部,将被检测物朝遮蔽箱外部搬出;且搬入部、搬送部、搬出部分别被独立地分割。进而,搬送机构具有中转部,所述中转部变成将被检测物从搬入部交接至搬送部,并且从搬送部交接至搬出部的机构。如此,以前的放射线检查装置变成装置构成复杂、且重量大的装置。因此,已对将搬送机构设为形成一条搬送路径的机构,而使装置构成简易化及轻量化进行了研究,但若遮蔽箱的搬入口、搬出口、及检查位置排列在一直线上,且搬入口、搬出口离检查位置近,则存在已照射至检查位置上的被检测物的放射线散射,由此放射线经由搬入口、搬出口而泄漏的线量增大这一问题。为了解决所述问题,本实施方式的目的在于提供一种可使装置构成简易化及轻量化,并且减少放射线的泄漏线量的放射线检查装置。[解决问题的技术手段]为了达成所述目的,本实施方式的放射线检查装置包括:放射线源;检测器,与所述放射线源相向设置;搬送机构,具有穿过所述放射线源与所述检测器之间的被检测物的检查位置的直线状的搬送路径,搬送所述被检测物;遮蔽箱,包围所述放射线源及所述检测器;搬入口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物搬入所述遮蔽箱的内部;以及搬出口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物朝所述遮蔽箱的外部搬出;所述搬送机构具有穿过所述搬入口的直线状的搬入路径、及穿过所述搬出口的直线状的搬出路径,且所述搬入口、所述搬出口、所述搬入路径及所述搬出路径从所述搬送路径的延长线上偏移来设置。本实施方式的放射线检查装置包括:放射线源;检测器,与所述放射线源相向设置;搬送机构,穿过所述放射线源与所述检测器之间的检查位置来搬送被检测物;遮蔽箱,包围所述放射线源及所述检测器;搬入口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物搬入所述遮蔽箱的内部;搬出口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物朝所述遮蔽箱的外部搬出;以及遮蔽构件,遮蔽从所述放射线源对所述被检测物照射放射线后从所述被检测物中散射的散射线;所述搬入口、所述检查位置、及所述搬出口设置在一直线上,所述搬送机构具有在所述一直线上搬送所述被检测物的搬送路径,且所述遮蔽构件是将所述搬入口作为一端,朝所述遮蔽箱的外部延长的通道,或者将所述搬出口作为一端,朝所述遮蔽箱的外部延长的通道。附图说明图1是表示第一实施方式的放射线检查装置的构成的一例的平面图。图2是表示第二实施方式的放射线检查装置的构成的一例的平面图。图3是表示第三实施方式的放射线检查装置的构成的一例的侧面图。图4是表示第四实施方式的放射线检查装置的构成的一例的平面图。图5是表示其他实施方式的放射线检查装置的构成的一例的平面图。图6是表示其他实施方式的放射线检查装置的构成的另一例(其一)的平面图。图7是表示其他实施方式的放射线检查装置的构成的另一例(其二)的平面图。图8是表示其他实施方式的放射线检查装置的构成的另一例(其三)的平面图。[符号的说明]1:放射线检查装置2:放射线源3:检测器4:遮蔽箱40:内部遮蔽箱40a:入口40b:出口41:搬入口42:搬出口5:搬送机构51:搬入路径52、55:搬送路径53:搬出路径54:中间路径6:处理装置7:显示装置8:遮蔽构件81:遮蔽板82、83:遮蔽通道100:被检测物D、D':偏移量L、L':距离P:检查位置具体实施方式(第一实施方式)以下,一边参照附图,一边对第一实施方式的放射线检查装置进行详细说明。(构成)图1是表示第一实施方式的放射线检查装置的构成的一例的平面图。放射线检查装置1对被检测物100照射放射线,并检测透过了被检测物100的放射线,且根据检测结果来形成被检测物100内的透视图像。被检测物100只要是通过放射线来进行非破坏检查者,则并无特别限定,例如为圆筒型电池、方型电池、层叠型电池,铝电解电容器、电双层电容器等电化学电容器等卷绕结构体。如图1所示,所述放射线检查装置1包括:放射线源2、检测器3、遮蔽箱4、搬送机构5、处理装置6、以及显示装置7。放射线源2、检测器3、遮蔽箱4、以及搬送机构5设置在未图示的载置台上。放射线源2朝被检测物100照射放射线光束。放射线例如为X射线。放射线光束是将焦点作为顶点而扩大成角锥形状的放射线的束。所述放射线源2例如为X射线管。X射线管在真空内设置0°以上的靶角度来使灯丝与钨等的靶相向。灯丝被施加按照摄影条件的管电流及管电压,并射出电子束。靶通过经加速的电子束的碰撞而产生X射线。检测器3与放射线源2的焦点相向来配置。所述检测器3例如包含图像增强器(ImageIntensifier,I.I.)与相机、或平板探测器(FlatPanelDetector,FPD)。I.I.将包含若被放射线激发则发光的碘化铯等的闪烁体面扩展成二维状,将已射入的放射线的二维分布转换成荧光像,并使荧光像的光度翻倍。相机一并设置电荷耦合器件(ChargeCoupledDevice,CCD)或互补金属氧化物半导体(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,CMOS)等拍摄元件,拍摄荧光像。FPD沿着闪烁体面具有光电二极管与薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)开关。光电二极管将荧光像转换成电荷并蓄积,TFT开关若被赋予开启(ON)信号,则输出已被蓄积在光电二极管中的电荷。即,检测器3检测对应于放射线的透过路径而衰减的放射线强度的二维分布,并输出与所述放射线强度成比例的透过数据。而且,透过数据是放射线强度、表示放射线强度的电荷量、或表示放本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种放射线检查装置,其特征在于,包括:/n放射线源;/n检测器,与所述放射线源相向设置;/n搬送机构,具有穿过所述放射线源与所述检测器之间的被检测物的检查位置的直线状的搬送路径,搬送所述被检测物;/n遮蔽箱,包围所述放射线源及所述检测器;/n搬入口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物搬入所述遮蔽箱的内部;以及/n搬出口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物朝所述遮蔽箱的外部搬出;/n所述搬送机构具有穿过所述搬入口的直线状的搬入路径、及穿过所述搬出口的直线状的搬出路径,且/n所述搬入口、所述搬出口、所述搬入路径及所述搬出路径从所述搬送路径的延长线上偏移来设置。/n

【技术特征摘要】
20190313 JP 2019-0455141.一种放射线检查装置,其特征在于,包括:
放射线源;
检测器,与所述放射线源相向设置;
搬送机构,具有穿过所述放射线源与所述检测器之间的被检测物的检查位置的直线状的搬送路径,搬送所述被检测物;
遮蔽箱,包围所述放射线源及所述检测器;
搬入口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物搬入所述遮蔽箱的内部;以及
搬出口,设置在所述遮蔽箱,且将所述被检测物朝所述遮蔽箱的外部搬出;
所述搬送机构具有穿过所述搬入口的直线状的搬入路径、及穿过所述搬出口的直线状的搬出路径,且
所述搬入口、所述搬出口、所述搬入路径及所述搬出路径从所述搬送路径的延长线上偏移来设置。


2.根据权利要求1所述的放射线检查装置,其中,
所述搬入口、所述搬出口、所述搬入路径及所述搬出路径的偏移方向为水平方向或高度方向。


3.根据权利要求1或2所述的放射线检查装置,其中,
包括遮蔽构件,所述遮蔽构件遮蔽从所述放射线源对所述被检测物照射放射线后从所述被检测物中散射的散射线。


4.根据权利要求3所述的放射线检查装置,其中,
所述遮蔽构件设置在将所述检查位置与所述搬入口或所述搬出口的边缘连结的线上。


5.根据权利要求3所述的放射线检查装置,其中,
所述遮蔽构件是具有切口的遮蔽板,且以所述被检测物穿过所述切口的方式设置在所述搬送机构。


6.根据权利要求3所述的放射线检查装置,其中,
所述遮蔽构件是将所述搬入口作为一端,朝所述遮蔽箱的外部延...

【专利技术属性】
技术研发人员:吉田伦大半杭秀一篠原正治佐藤宪治内田敏徳吉田绿冨樫法仁
申请(专利权)人:东芝IT·控制系统株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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