特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪制造技术

技术编号:2570413 阅读:266 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其主要由测量平台(4)、平台支架(5)、V型支撑(1)、支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)构成,测量平台(4)固定在平台支架(5)上,V型支撑(1)固定在测量平台(4)上,支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)两两相对均布在测量平台(4)上。其可以对特大型类的轴承套圈形位公差项目进行检测,特别是现在无法用仪器检测的弯曲度、垂直差、双排滚道的同心度等项目可通过该仪器实现直接检测。本实用新型专利技术经过实际测量,能够满足特大型轴承套圈形位公差项目的检测。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于轴承
,主要涉及一种特大型圆柱滚子轴承旋转精 度检测仪。适用于特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测和特大型轴承零件精度检
技术介绍
轴承行业中,圆柱滚子轴承旋转精度的检测长期以来都是依靠芯轴来完成,但对于特大型(一般指外径大于440mm的轴承)圆柱滚子轴承旋转精度的检测, 由于加工芯轴难度较大、成本较高而无法满足生产的需求,故一般生产厂家常 采用零件精度保证成品的旋转精度,对于该类型轴承旋转精度检测的专用检测 仪器,目前国内尚属空白。同时,现阶段的特大型轴承套圈零件精度很多形位 公差无法用仪器检测,是靠设备保证,比如垂直差,双滚道同心度等。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,用于 解决长期困扰轴承行业对特大型圆柱滚子轴承类旋转精度无法检测的难题,使 轴承旋转精度能够得到直观的反映,并对轴承精度等级作出准确的判定。本技术的目的可采用如下技术方案来实现其主要由测量平台、平台 支架、V型支撑、支撑块和深沟球轴承支撑构成,测量平台固定在平台支架上, V型支撑固定在测量平台上,支撑块和深沟球轴承支撑两两相对均布在测量平台 上。所述的测量平台倾斜固定在平台支架上。在测量平台上分别设置有三个支 撑块和三对深沟球轴承支撑,均布在测量平台上,其中深沟球轴承支撑位于支撑块的内侧。本技术主要是为了解决大批量、大尺寸、大重量、高精度的圆柱滚子 轴承旋转精度的检测。其对特大型类的圆柱滚子轴承旋转精度进行有效的检测, 能够直观的反应出轴承旋转精度是否满足标准的要求。可以满足特大型类圆柱 滚子轴承旋转精度的检测,同时理论上也可以满足特大型调心滚子轴承的旋转 精度的检测,对特大型圆柱滚子轴承精度等级的判定提供可靠的实际参数。可 以对特大型类的轴承套圈形位公差项目进行检测,特别是现在无法用仪器检测 的弯曲度、垂直差、双排滚道的同心度等项目可通过该仪器实现直接检测。本技术经过实际测量,能够满足特大型轴承套圈形位公差项目的检测。附图说明附图1为本技术的整体结构示意图。附图2为图1的A向示意图 附图3为本技术在测量时的结构示意图。 附图4为测量轴承内圈的结构示意图。 附图5为测量轴承外圈的结构示意图。图中1、 V型支撑,2、支撑块,3、深沟球轴承支撑,4、测量平台,5、 平台支架,6、被测轴承外圈,7、被测轴承内圈,8、测量表。具体实施方式结合附图,说明本技术的具体实施例。本技术的整体构成主要其主要由测量平台4、平台支架5、 V型支撑l、 支撑块2和深沟球轴承支撑3构成,测量平台4倾斜固定在平台支架5上,使 测量平台整体成一斜面。V型支撑固定在测量平台4的下部。在测量平台上V型支撑的上方分别设置有三个支撑块2和三对深沟球轴承支撑3,支撑块2和深沟 球轴承支撑3两两相对设置,其中深沟球轴承支撑3位于支撑块的内侧。在测 量平台4上用V型支撑1固定被测轴承,底部用支撑块2和支撑深沟球轴承3 通过螺栓和测量平台4紧密联接,使被测轴承内圈或外圈自由旋转,通过测量 表针摆动读出测量值。测量平台4是测量的基准平面,起到整体支撑和提供精度的保证。平台支 架5是支撑测量平台的基础,稳定和坚固保证了测量的准确性。V型支撑1固定 和限制被测轴承的内外圈的移动,并起到定位的作用,保证了测量时内外圈不 会同时转动。支撑块2把被测轴承的固定圈的基准平面固定在一个平面内,并 限制固定圈的转动。深沟球轴承支撑把活动圈的端面支撑在同一个平面内,减轻了圈的摩擦力, 使活动圈可以自由转动。结合附图3、 4说明测量轴承内径摆动的过程。测轴承的内径摆(Kia),先 调V型支撑块1,是开口支撑外径,然后调整三个支撑块2,使其支撑被测轴承 的外圈端面,最后调整三对深沟球轴承支撑3,使其支撑被测轴承的内圈端面, 把测量表8架放在内圈平台上,表针直接接触被测轴承内径,旋转被测轴承内圈, 表针上显示的摆动值既是内径摆的测量值。结合附图5说明测量轴承外径摆动的过程测轴承的外径摆(Kea),先调V 型支撑块l,是开口支撑内径,然后调整三个支撑块2,使其支撑被测轴承的内 圈端面,最后调整三对深沟球轴承支撑3,使其支撑被测轴承的外圈端面,把测 量表8架放在外圈平台上,表针直接接触被测轴承外径,旋转被测轴承外圈,表 针上显示的摆动值既是外径摆的测量值。权利要求1、一种特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其特征是其主要由测量平台(4)、平台支架(5)、V型支撑(1)、支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)构成,测量平台(4)固定在平台支架(5)上,V型支撑(1)固定在测量平台(4)上,支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)两两相对均布在测量平台(4)上。2、 根据权利要求1所述的特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其特征是: 测量平台(4)倾斜固定在平台支架(5)上。3、 根据权利要求1所述的特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其特征是: 在测量平台(4)上分别设置有三个支撑块(2)和三对深沟球轴承(3)支撑, 均布在测量平台上,其中深沟球轴承支撑位于支撑块(2)的内侧。专利摘要本技术公开了一种特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其主要由测量平台(4)、平台支架(5)、V型支撑(1)、支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)构成,测量平台(4)固定在平台支架(5)上,V型支撑(1)固定在测量平台(4)上,支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)两两相对均布在测量平台(4)上。其可以对特大型类的轴承套圈形位公差项目进行检测,特别是现在无法用仪器检测的弯曲度、垂直差、双排滚道的同心度等项目可通过该仪器实现直接检测。本技术经过实际测量,能够满足特大型轴承套圈形位公差项目的检测。文档编号G01B5/24GK201184841SQ20082006959公开日2009年1月21日 申请日期2008年3月17日 优先权日2008年3月17日专利技术者冯朝忠, 卢振伟, 李光普, 苏兆力, 邹立君, 莉 黄 申请人:洛阳Lyc轴承有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种特大型圆柱滚子轴承旋转精度检测仪,其特征是:其主要由测量平台(4)、平台支架(5)、V型支撑(1)、支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)构成,测量平台(4)固定在平台支架(5)上,V型支撑(1)固定在测量平台(4)上,支撑块(2)和深沟球轴承支撑(3)两两相对均布在测量平台(4)上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李光普卢振伟冯朝忠苏兆力邹立君黄莉
申请(专利权)人:洛阳LYC轴承有限公司
类型:实用新型
国别省市:41[中国|河南]

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