硅基有机电致发光显示基板及其制作方法、显示面板技术

技术编号:25694028 阅读:20 留言:0更新日期:2020-09-18 21:04
本公开提供了一种硅基有机电致发光显示基板及其制作方法、显示面板,所述显示基板包括:硅基基底以及位于所述硅基基底上阵列排布的像素单元,其中,每个所述像素单元中均包括:第一电极,位于所述硅基基底的一侧;发光层,其位于所述第一电极远离所述硅基基底的一侧;以及第二电极,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧,其中,至少部分所述像素单元的所述第二电极包括至少一组如下的复合结构:第一金属膜层,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧;导电散射块,其位于所述第一金属膜层远离所述发光层的一侧;以及第二金属膜层,其位于所述导电散射块远离所述第一金属膜层的一侧。

【技术实现步骤摘要】
硅基有机电致发光显示基板及其制作方法、显示面板
本公开涉及显示
,具体地说,尤其涉及一种硅基有机电致发光显示基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
有机发光二极管或有机电致发光(organiclightemittingdiodes,OLED)器件的基本结构包括阴极、阳极以及阴极与阳极之间的有机电致发光材料。为了增加OLED器件的发光性能,有可能加入非有机的材料提升发光器件的各类性能指标。OLED器件的阴极与阳极必须一个在可见光区为透明/半透明状态。对OLED器件施加偏压后电子与空穴分别从阴极、阳极注入发光层。电子与空穴在发光层中形成激子,激子为激发态电子。激子在发光层中复合,以光的形式释放能量。
技术实现思路
根据本公开的一个方面,提供了一种硅基有机电致发光显示基板,包括硅基基底以及位于所述硅基基底上阵列排布的像素单元,其中,每个所述像素单元中均包括:第一电极,位于所述硅基基底的一侧;发光层,其位于所述第一电极远离所述硅基基底的一侧;以及第二电极,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧,其中,至少部分所述像素单元的所述第二电极包括至少一组如下的复合结构:第一金属膜层,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧;导电散射块,其位于所述第一金属膜层远离所述发光层的一侧;以及第二金属膜层,其位于所述导电散射块远离所述第一金属膜层的一侧。可选地,所述导电散射块的材料包括有机半导体材料和无机半导体材料,或者掺杂的无机半导体材料和掺杂的有机半导体材料。可选地,所述有机半导体材料包括Alq3、Bphen和BCP,所述无机半导体材料包括碳材。可选地,所述导电散射块的材料的载子迁移率大于10-4cm2V-1s-1。可选地,所述导电散射块的材料的光学能隙大于2.5eV。可选地,所述第一金属膜层和所述第二金属膜层的材料包括镁银合金、银合金中的至少一种。可选地,所述第二电极的厚度在12nm-20nm范围内,所述导电散射块的厚度在2nm-7nm范围内。根据本公开的另一方面,提供了一种显示面板,其包括以上所述的显示基板以及用于驱动所述显示基板的驱动电路。根据本公开的另一方面,提供了一种用于制作硅基有机电致发光显示基板的方法,包括:提供硅基基底;在所述硅基基底上形成第一电极;在所述第一电极的远离所述硅基基底的一侧形成发光层,以及在所述发光层远离所述第一电极的一侧形成第二电极,其中,所述第二电极包括至少一组如下的复合结构:第一金属膜层,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧;导电散射块,其位于所述第一金属膜层远离所述发光层的一侧;以及第二金属膜层,其位于所述导电散射块远离所述第一金属膜层的一侧。可选地,形成所述第二电极包括:在所述发光层上形成第一金属膜层;在所述第一金属膜层上形成导电散射层,对所述导电散射层进行图案化处理以形成岛状的导电散射块;在所述导电散射块上形成覆盖所述导电散射块的第二金属膜层。附图说明附图是用来提供对本公开的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本公开,但并不构成对本公开的限制。在附图中:图1为根据本公开的实施例的OLED器件的结构示意图;图2为根据本公开的实施例的硅基OLED显示基板的结构示意图;图3为根据本公开的实施例的硅基OLED显示基板的结构示意图;图4为本公开的OLED器件与相关技术中的OLED器件的光路示意图;图5为本公开的OLED器件与相关技术中的OLED器件的光穿透率的结果对比示意图;以及图6为根据本公开的实施例的硅基OLED显示基板的制作流程图。具体实施方式以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开,并不用于限制本公开。控制OLED器件的发光光色的方式包括调整发光材料的发光特性、利用电极反射率调变以及共振腔长度(器件厚度调整)以实现光学增益控制(Fabry-Pérot共振机制)。利用Fabry-Pérot共振机制可以将发光特纯度提升,至达到接近单色光(单一波长或窄半高宽)的程度。在显示应用或特殊照明应用,都是利用Fabry-Pérot共振机制所达成的强共振腔时吻合应用的光色,例如显示应用要求的高色纯度蓝、绿、红三原色或车用尾灯的深红光色域,皆可以利用各色发光材料配合Fabry-Pérot共振机制达成目标。在一个OLED器件中可以使用多种发光材料,以对发光光色进行调整。对于OLED白光照明应用或W-OLED显示(采用白光配合彩色滤光片)等白光OLED的应用方面,同样可以应用Fabry-Pérot共振机制的强弱来调整整体的光色。在OLED器件中实现Fabry-Pérot共振机制的关键要素包括:高反射率反射电极、半穿透电极与光学共振腔。高反射率电极通常使用银或其合金、铝或其合金等金属材料作为反射面,其外表面利用高穿透率金属氧化物作为金属保护层,同时调整反射电极的注入功函数以匹配OLED器件使用。半穿透电极通常使用薄金属层如银、镁银合金或其组合进行镀膜,在8-20nm的厚度下可以将穿透调整在15-60%之间。低穿透率电极可以得到强Fabry-Pérot共振机制,进而得到所需纯色光,但总光强度可能因此下降;高穿透率电极可以得到较强光强度的光谱,但Fabry-Pérot共振机制效应下降。为了增加该半穿透薄电极的导电率,可采用导电金属氧化物提升其导电特性并维持光学效应。光学共振腔从阳极表面的透明电极起算,终于阴极金属与OLED功能材料的接面。考虑各项光学影响因子后配置适当OLED器件结构。在硅基OLED显示器中,具有多种实现全彩的方式,如白光配合强光学微腔调光、白光配合彩色滤光片、红绿蓝单色光器件等。其中主流方式为白光配合彩色滤光片,原因为要容易实现量产。然而在实际应用上,硅基板的表面微型结构远复杂于大中小尺寸的OLED显示器,造成显著的高低起伏。导致上述情况出现的原因在于硅基OLED显示器必须实现超高解析度显示,各像素之间的距离往往小于2um,这与大中小显示器中的生产经验“像素间距大于20um”左右以完全避免像素之间的不良交互作用(称为串色或横向漏电/光)相矛盾。由此,利用各种不同的机构设计避免像素之间的不良交互作用,会明显增加白光OLED器件光学结构与半穿透电极的设计难度。基于上述问题,本公开提供了一种硅基有机电致发光显示基板,图1为根据本公开的实施例的硅基有机电致发光显示基板上的像素单元中的OLED器件的结构示意图。如图1所示,该OLED器件包括:第一电极61,其作为反射电极,位于硅基基底的一侧;发光层62,其位于第一电极61的远离硅基基底的一侧;以及第二电极63,其作为透射电极,位于发光层62远离第一电极61的一侧。如图1所示,第二电极63包括至少一组如下的复合结构:第一金属膜层631,其位于发光层62远离第一电极61的一侧;导电散射块632,其位于第一金属膜层631远离发光层62的一侧;以及第二金属膜层633本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅基有机电致发光显示基板,包括硅基基底以及位于所述硅基基底上阵列排布的像素单元,其中,每个所述像素单元中均包括:/n第一电极,位于所述硅基基底的一侧;/n发光层,其位于所述第一电极远离所述硅基基底的一侧;以及/n第二电极,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧,/n其中,至少部分所述像素单元的所述第二电极包括至少一组如下的复合结构:/n第一金属膜层,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧;/n导电散射块,其位于所述第一金属膜层远离所述发光层的一侧;以及/n第二金属膜层,其位于所述导电散射块远离所述第一金属膜层的一侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅基有机电致发光显示基板,包括硅基基底以及位于所述硅基基底上阵列排布的像素单元,其中,每个所述像素单元中均包括:
第一电极,位于所述硅基基底的一侧;
发光层,其位于所述第一电极远离所述硅基基底的一侧;以及
第二电极,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧,
其中,至少部分所述像素单元的所述第二电极包括至少一组如下的复合结构:
第一金属膜层,其位于所述发光层远离所述第一电极的一侧;
导电散射块,其位于所述第一金属膜层远离所述发光层的一侧;以及
第二金属膜层,其位于所述导电散射块远离所述第一金属膜层的一侧。


2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述导电散射块的材料包括有机半导体材料和无机半导体材料,或者掺杂的无机半导体材料和掺杂的有机半导体材料。


3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述有机半导体材料包括Alq3、Bphen和BCP,所述无机半导体材料包括碳材。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板,其中,所述导电散射块的材料的载子迁移率大于10-4cm2V-1s-1。


5.根据权利要求4所述的显示基板,其中,所述导电散射块的材料的光学能隙大于2.5eV。


6.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:段东东陈小川王辉杨盛际卢鹏程申晓斌王宇袁雄童慧黄冠达
申请(专利权)人:昆明京东方显示技术有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:云南;53

相关技术
    暂无相关专利
网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1