一种集成电路版图中的布线倒角方法技术

一种集成电路版图中的布线倒角方法，包括以下步骤：1）设置生成倒角的布线参数；2）确定待绕障图形的顶点并根据所述顶点生成交互式布线；3）确认交互式布线结果；4）判断是否存在未布线引脚，若是则返回步骤1），否则结束布线。本发明专利技术的集成电路版图中的布线倒角方法，能够自动生成倒角，防止交互式布线轮廓产生锐角，满足制造正交或者45°物理设计要求。

【技术实现步骤摘要】
一种集成电路版图中的布线倒角方法
本专利技术涉及EDA设计
，特别是涉及EDA工具在面向高端工艺的布线倒角方法。
技术介绍
随着工艺的进步，超深亚微米工艺不断完善，芯片面积的减少下，芯片的密度不断提高，布线作为超大规模集成电路中物理设计的末端环节，布线的结果对芯片起到至关重要的作用，这就使得应用EDA(电子设计自动化)工具成为不可或缺的辅助手段。布线是指在物理设计阶段，在要连接的单元，引脚或者其他电子器件之间分配金属线，并且不同连接关系的金属线不能重叠，除此之外，还要满足大量的物理设计中几何约束。伴随着光刻工艺的成熟，芯片性能的提高，往往意味着芯片密度的增加，可布线空间进一步减少，几何约束的数量不断增加，最终导致布线的难度和复杂度大大增加。这给EDA工具带来新的挑战。倒角的功能为了防止，尖角(小于90°)的设计结果，会违反设计规则，电容过大，导致电子的聚集，增加系统的不稳定性。在低端工艺中，特别是16nm以上的工艺中，可以支持任意角度的布线。但是到了14nm以及以下的高端工艺中，最多支持正交和45°斜向布线结构，这就会导致可布线的空间减少，倒角布线的难度加大，按照原有的方法得到一个意料之外或者不合法的结果。在EDA设计工具中，布线格点等新工艺出现约束进行处理，这就迫切需要EDA厂商针对芯片制造开发针对现有高端新工艺的倒角交互式布线器方法。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种集成电路版图中的布线倒角方法，能够自动生成倒角，防止交互式布线轮廓产生锐角，满足制造正交或者45°物理设计要求。为实现上述目的，本专利技术提供的集成电路版图中的布线倒角方法，包括以下步骤：1)设置生成倒角的布线参数；2)确定待绕障图形的顶点，并根据所述顶点生成交互式布线；3)确认交互式布线结果；4)判断是否存在未布线引脚，若是则返回步骤1)，否则结束布线。进一步地，所述步骤1)进一步包括，所述布线参数包括布线的宽度，布线支持的模式，偏离选择点模式和偏移距离。进一步地，所述偏离选择点模式包括左边、中间和右边三类，其中，所述左边类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成布线结果的左边；所述中间类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成布线结果的中间；所述右边类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成布线结果的右边。进一步地，所述偏移距离为布线结果与起始点和终点连线的距离。进一步地，所述步骤3)进一步包括，对于正交型拐弯布线，向垂直于布线选择的参考线平移设置的偏移距离；对于45°的拐弯布线，向垂直于布线选择的参考线平移设置的偏移距离，增加满足设计规则的转折点。为实现上述目的，本专利技术还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序运行时执行如上文所述的集成电路版图中的布线倒角方法步骤。为实现上述目的，本专利技术还提供一种集成电路版图中的布线倒角装置，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器运行所述计算机程序时执行如上文所述的集成电路版图中的布线倒角方法步骤。本专利技术的集成电路版图中的布线倒角方法，具有以下有益效果：1)生成满足制造工艺格点和布线方向要求的倒角布线结果，防止尖角(小于90°)的产生。2)自动生成倒角，防止交互式布线轮廓产生锐角，满足制造正交或者45°物理设计要求。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本专利技术的实施例一起，用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1为根据本专利技术的集成电路版图中的布线倒角方法流程图；图2为根据本专利技术的实施例一交互式布线参数设置界面示意图；图3为根据本专利技术的左边模式下生成的布线效果示意图；图4为根据本专利技术的右边模式下生成的布线效果示意图；图5为根据本专利技术的当选取点为45°夹角时生成倒角的布线结果示意图；图6为根据本专利技术的当选取点为45°夹角时满足工艺制造格点生成倒角的布线结果示意图；图7为根据本专利技术的实施例一多边形绕障布线效果示意图；图8为根据本专利技术的实施例一等腰直角三角形绕障布线效果示意图；图9为现有技术中等腰直角三角形绕障布线效果示意图。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。图1为根据本专利技术的集成电路版图中的布线倒角方法流程图，下面将参考图1，对本专利技术的集成电路版图中的布线倒角方法进行详细描述。首先，在步骤101，接收用户的输入，对生成倒角的布线参数进行设置。本专利技术实施例中，生成倒角的布线参数，包括，布线的宽度(width)，布线支持的模式(snapmode，选择diagonal代表支持45°布线)，偏离选择点模式(justification，选择right代表生成结果在选择点的右侧，左、右模式参考图3和图4)和偏离距离(offset，表示生成结果中线上的点与选择点之间偏离量)。本专利技术实施例中，生成倒角的布线参数有三类：左边，中间和右边。左边类型是如果布线从下往上，那么布线的起点和终点都在形成布线结果的左边；反之亦然，右边类型是如果布线从下往上，那么布线的起点和终点都在形成布线结果的右边。设置偏移距离(offset)，表明布线结果与选择的起始点终点连线的距离。该步骤中，左边模式下生成的布线效果如图3所示，右边模式下，生成的布线效果如图4所示。本专利技术实施例中，左边，中间，右边是对应参数设置界面中justification中选中left，center和right。布线方向是从下到上，左边表示布线选择的参考线在布线产生的图形左边。布线方向是从下到上，中间表示布线选择的参考线在布线产生的图形中间，与中心线重叠。在步骤102，确定待绕障图形的顶点，并根据图形顶点生成交互式布线。本专利技术实施例中，接收用户输入的选取点，确定待绕障的图形的顶点。优选地，选择布线的中间点对最终布线结果产生决定性影响，通过向垂直于线段平移已设置的参数距离，和将平移后线段的交点作为增加中间点的方法，调整到符合设计规则的布线结果。优选地，第二个点至最后一个点，需要调整至正交或者是45°斜线方向，形成对应的倒角。该步骤中，每一个点都要满足制造工艺格点约束。优选地，对于正交型的拐弯布线，通过向垂直于布线选择的参考线平移线段，对原本布线的转折点进行处理，满足设计规则防止布线轮廓产生锐角。本专利技术实施例中，布线选择的参考线为绕障图形的顶点构成的线段。优选地，对于45°的拐弯布线，通过向垂直于布线选择的参考线平本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集成电路版图中的布线倒角方法，其特征在于，包括以下步骤：/n1）设置生成倒角的布线参数；/n2）确定待绕障图形的顶点，并根据所述顶点生成交互式布线；/n3）确认交互式布线结果；/n4）判断是否存在未布线引脚，若是则返回步骤1），否则结束布线。/n

【技术特征摘要】
1.一种集成电路版图中的布线倒角方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）设置生成倒角的布线参数；
2）确定待绕障图形的顶点，并根据所述顶点生成交互式布线；
3）确认交互式布线结果；
4）判断是否存在未布线引脚，若是则返回步骤1），否则结束布线。


2.根据权利要求1所述的集成电路版图中的布线倒角方法，其特征在于，所述步骤1）进一步包括，所述布线参数包括布线的宽度，布线支持的模式，偏离选择点模式和偏移距离。


3.根据权利要求2所述的集成电路版图中的布线倒角方法，其特征在于，所述偏离选择点模式包括左边、中间和右边三种类型，其中，
所述左边类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成布线结果的左边；
所述中间类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成布线结果的中间；
所述右边类型包括，当布线方向为从下向上时，布线的起点和终点都在生成...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄晔，苏鸿昌，张亚东，李起宏，陆涛涛，
申请(专利权)人：深圳华大九天科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44