支撑掩膜版和掩膜版组件制造技术

本发明专利技术提供了支撑掩膜版和掩膜版组件。该支撑掩膜版具有封闭环形的边框、第一遮挡条和第二遮挡条，每个第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，边框、多个第一遮挡条和多个第二子遮挡条限定出多个开口，第一方向与第二方向交叉，其中，多个第一遮挡条和多个第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，减薄区的厚度小于支撑区的厚度，且支撑区的一个表面和减薄区的一个表面齐平。对第一遮挡条和/或第二遮挡条的部分区域进行减薄形成减薄区，进而减轻支撑掩膜版的整体重量，进而可有效较小支撑掩膜版在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量，从而提升使用该支撑掩膜版的蒸镀质量。

【技术实现步骤摘要】
支撑掩膜版和掩膜版组件
本专利技术涉及掩膜版的
，具体的，涉及支撑掩膜版和掩膜版组件。
技术介绍
随着技术的发展，越来越多的柔性穿戴类产品涌入市场，由于穿戴类产品尺寸较小，一个大板上最高可达上千产品，故在EVMask(蒸镀掩膜版)设计时，穿戴类产品的EVMask实材区占比远大于常规手机类产品。为保证量产性，在生产产品时，工艺参数及条件一般不会轻易改动，在相同磁力条件下，实材占比较多的穿戴类Mask很快就会被吸平(张网时对掩膜版的吸平过程)。由于吸平时间短，穿戴类产品FMM出现褶皱的风险性大大增高，可能会造成诸如蒸镀Shadow(阴影)过大、蒸偏等问题。因此，关于EVMask的研究有待深入。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种支撑掩膜版，该支撑掩膜版的重量较轻，可有效较小其在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量。在本专利技术的一方面，本专利技术提供了一种支撑掩膜版。根据本专利技术的实施例，该支撑掩膜版具有封闭环形的边框，所述边框内部具有多个沿第一方向间隔设置且与所述边框相连的第一遮挡条，和多个沿第二方向间隔设置且与所述边框相连的第二遮挡条，每个所述第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，且多个所述第二子遮挡条沿所述第一方向分布在所述边框和所述第一遮挡条之间的间隙中，以及相邻两个的所述第一遮挡条之间的间隙中，所述边框、多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条限定出多个开口，所述第一方向与所述第二方向交叉，在所述第一方向上，所述支撑掩膜版可划分为多个间隔设置的预定区域，每个所述预定区域包括多个所述第一遮挡条，其中，多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，所述减薄区的厚度小于所述支撑区的厚度，且所述支撑区的一个表面和所述减薄区的一个表面齐平。由此，对第一遮挡条和/或第二遮挡条的部分区域进行减薄形成减薄区，进而减轻支撑掩膜版的整体重量，进而可有效较小支撑掩膜版在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量，从而提升使用该支撑掩膜版的蒸镀质量；而且该支撑掩膜版与高精度金属掩膜版贴合形成的掩膜版组件，由于减薄区与高精度金属掩膜版不接触设置(仅仅支撑区与高精度金属掩膜版接触设置)，进而可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱。根据本专利技术的实施例，在所述第一方向上，所述第一遮挡条包括位于中间的第一支撑区和位于所述第一支撑区两侧的第一减薄区；和/或在所述第二方向上，所述第二遮挡条包括位于中间的第二支撑区和位于所述第二支撑区两侧的第二减薄区。根据本专利技术的实施例，所述第一减薄区和所述第二减薄区的宽度分别大于等于0.2mm；所述第一支撑区和所述第二支撑区的宽度分别大于等于1.5mm。根据本专利技术的实施例，位于所述预定区域内部的所述第一遮挡条只有所述减薄区。根据本专利技术的实施例，相邻两个所述预定区域的边缘对应同一个所述第一遮挡条，且所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区。根据本专利技术的实施例，在所述第二方向上，部分所述第二遮挡条只有减薄区，另一部分所述第二遮挡条包括位于中间的第四支撑区和位于所述第四支撑区两侧的第四减薄区，而且具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条不相邻设置。根据本专利技术的实施例，相邻两个具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条之间具有3～5个所述开口。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种掩膜版组件。根据本专利技术的实施例，所述掩膜版组件包括前面所述的支撑掩膜版和与所述支撑掩膜版贴合设置的至少一个高精度金属掩膜版，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间具有间隙，与支撑区接触设置，其中，所述支撑掩膜版的每个预定区域对应一个所述高精度金属掩膜版。由此，掩膜版组件的整体重量较轻，可以有效减轻其在张网时的下垂量，而且，可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱。根据本专利技术的实施例，所述掩膜版组件包括多个所述高精度金属掩膜版，相邻两个所述高精度金属掩膜版的边缘之间对应同一个第一遮挡条，所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区，所述第三支撑区满足以下条件中的一个：所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版均接触设置；所述第三支撑区在所述第一方向上与相邻两个所述高精度金属掩膜版之间均具有间隔。根据本专利技术的实施例，所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版的接触宽度分别大于等于1mm；所述间隔的宽度大于等于0.05mm。根据本专利技术的实施例，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间间隙的间距与所述高精度金属掩膜版的厚度相同。附图说明图1是本专利技术一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；图2是图1中的局部放大图；图3是图2中沿AA’的截面图；图4是图2中沿BB’的截面图；图5是本专利技术另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；图6是本专利技术另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；图7是本专利技术另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；图8是本专利技术另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；图9是本专利技术另一个实施例中掩膜版组件的结构示意图；图10是一个实施例中图9中沿CC’的截面图；图11是另一个实施例中图9中沿CC’的截面图；图12是又一个实施例中图9中沿CC’的截面图；图13是图9中沿DD’的截面图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。在本专利技术的一方面，本专利技术提供了一种支撑掩膜版。根据本专利技术的实施例，参照图1至图8，该支撑掩膜版100(F-Mask)具有封闭环形的边框110，边框110内部具有多个沿第一方向间隔设置且与边框110相连的第一遮挡条120，和多个沿第二方向间隔设置且与边框110相连的第二遮挡条130，每个第二遮挡130条包括多个第二子遮挡条131，且多个第二子遮挡条131沿第一方向分布在边框110和第一遮挡条120之间的间隙中，以及相邻两个的第一遮挡条120之间的间隙中，边框110、多个第一遮挡条120和多个第二子遮挡条131限定出多个开口140，第一方向与第二方向交叉，在第一方向上，支撑掩膜版100可划分为多个间隔设置的预定区域S(图2中以一个预定区域为例)，每个预定区域包括多个第一遮挡条，其中，多个第一遮挡条120和多个第二子遮挡条131中的至少之一的至少一部分具有减薄区151和支撑区152，减薄区151的厚度小于支撑区152的厚度，且支撑区152的一个表面和减薄区151的一个表面齐平。由此，对第一遮挡条和/或第二遮挡条的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种支撑掩膜版，其特征在于，具有封闭环形的边框，所述边框内部具有多个沿第一方向间隔设置且与所述边框相连的第一遮挡条，和沿第二方向多个间隔设置且与所述边框相连的第二遮挡条，每个所述第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，且多个所述第二子遮挡条沿所述第一方向分布在所述边框和所述第一遮挡条之间的间隙中，以及相邻两个的所述第一遮挡条之间的间隙中，所述边框、多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条限定出多个开口，所述第一方向与所述第二方向交叉，在所述第一方向上，所述支撑掩膜版可划分为多个间隔设置的预定区域，每个所述预定区域包括多个所述第一遮挡条，/n其中，多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，所述减薄区的厚度小于所述支撑区的厚度，且所述支撑区的一个表面和所述减薄区的一个表面齐平。/n

【技术特征摘要】
1.一种支撑掩膜版，其特征在于，具有封闭环形的边框，所述边框内部具有多个沿第一方向间隔设置且与所述边框相连的第一遮挡条，和沿第二方向多个间隔设置且与所述边框相连的第二遮挡条，每个所述第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，且多个所述第二子遮挡条沿所述第一方向分布在所述边框和所述第一遮挡条之间的间隙中，以及相邻两个的所述第一遮挡条之间的间隙中，所述边框、多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条限定出多个开口，所述第一方向与所述第二方向交叉，在所述第一方向上，所述支撑掩膜版可划分为多个间隔设置的预定区域，每个所述预定区域包括多个所述第一遮挡条，
其中，多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，所述减薄区的厚度小于所述支撑区的厚度，且所述支撑区的一个表面和所述减薄区的一个表面齐平。


2.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，在所述第一方向上，所述第一遮挡条包括位于中间的第一支撑区和位于所述第一支撑区两侧的第一减薄区；
和/或在所述第二方向上，所述第二遮挡条包括位于中间的第二支撑区和位于所述第二支撑区两侧的第二减薄区。


3.根据权利要求2所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述第一减薄区和所述第二减薄区的宽度分别大于等于0.2mm；所述第一支撑区和所述第二支撑区的宽度分别大于等于1.5mm。


4.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，位于所述预定区域内部的所述第一遮挡条只有所述减薄区。


5.根据权利要求4所述的支撑掩膜版，其特征在于，相邻两个所述预定区域的边缘对应同一个所述第一遮挡条，且所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛龙辉，张微，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11