晶片的加工方法技术

技术编号:25640687 阅读:26 留言:0更新日期:2020-09-15 21:32
提供晶片的加工方法,不降低品质而形成器件芯片。该晶片的加工方法将在由分割预定线划分的正面的各区域内形成有多个器件的晶片分割成各个器件芯片,其中,该晶片的加工方法具有如下的工序:聚酯系片配设工序,将晶片定位于具有对晶片进行收纳的开口的框架的该开口内,将聚酯系片配设在晶片的背面或正面上以及框架的外周上;一体化工序,对该聚酯系片进行加热,通过热压接使晶片与该框架借助该聚酯系片而一体化;分割工序,沿着该分割预定线对该晶片照射对于该晶片具有透过性的波长的激光束,在该晶片中形成改质层,将该晶片分割成各个器件芯片;以及拾取工序,从该聚酯系片拾取各个该器件芯片。

【技术实现步骤摘要】
晶片的加工方法
本专利技术涉及晶片的加工方法,将由分割预定线划分而在正面的各区域内形成有多个器件的晶片分割成各个器件芯片。
技术介绍
在用于移动电话或个人计算机等电子设备的器件芯片的制造工序中,首先在由半导体等材料构成的晶片的正面上设定多条交叉的分割预定线(间隔道)。并且,在由该分割预定线划分的各区域内形成IC(IntegratedCircuit:集成电路)、LSI(Large-ScaleIntegrationcircuit:大规模集成电路)、LED(LightEmittingDiode:发光二极管)等器件。然后,将在具有开口的环状的框架上按照封住该开口的方式粘贴的被称为划片带的粘接带粘贴于该晶片的背面或正面上,形成晶片、粘接带以及环状的框架成为一体而得的框架单元。并且,当沿着该分割预定线对框架单元所包含的晶片进行加工而分割时,形成各个器件芯片。在晶片的分割中例如使用激光加工装置。激光加工装置具有隔着粘接带而对晶片进行保持的卡盘工作台以及将对于晶片具有透过性的波长的激光束会聚至该晶片的内部的激光加工单元等。在对晶片进行分割时,将框架单元载置于卡盘工作台上,隔着粘接带而将晶片保持于卡盘工作台。然后,一边使卡盘工作台和激光加工单元沿着与卡盘工作台的上表面平行的方向相对移动,一边从该激光加工单元沿着各分割预定线对晶片照射该激光束。当将该激光束会聚至晶片的内部时,形成作为分割起点的改质层(参照专利文献1)。然后,将框架单元从激光加工装置搬出,当将粘接带向径向外侧扩展时,将晶片分割而形成各个器件芯片。在从粘接带拾取所形成的器件芯片时,预先实施对粘接带照射紫外线等的处理而使粘接带的粘接力降低。作为器件芯片的生产效率较高的加工装置,已知有能够利用一个装置连续地实施晶片的分割和对粘接带的紫外线照射的加工装置(参照专利文献2)。专利文献1:日本特许3408805号公报专利文献2:日本特许第3076179号公报粘接带例如包含由氯乙烯片等形成的基材层和配设在该基材层上的糊料层。在激光加工装置中,为了在晶片的内部形成作为分割起点的改质层,将激光束会聚至晶片的内部,但该激光束的漏光的一部分到达粘接带的糊料层。并且,由于激光束的照射所带来的热的影响,粘接带的糊料层发生熔融,糊料层的一部分粘固在从晶片形成的器件芯片的背面侧或正面侧。在该情况下,在从粘接带拾取器件芯片时,即使实施对粘接带照射紫外线等的处理,也会在所拾取的器件芯片的背面侧或正面侧残留糊料层的该一部分。因此,器件芯片的品质降低成为问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于该问题点而完成的,其目的在于提供晶片的加工方法,不会在所形成的器件芯片的背面侧或正面侧附着糊料层,不会在器件芯片上产生由于糊料层的附着所导致的品质的降低。根据本专利技术的一个方式,提供晶片的加工方法,将在由分割预定线划分的正面的各区域内形成有多个器件的晶片分割成各个器件芯片,其特征在于,该晶片的加工方法具有如下的工序:聚酯系片配设工序,将晶片定位于具有对晶片进行收纳的开口的框架的该开口内,将聚酯系片配设在该晶片的背面或正面上以及该框架的外周上;一体化工序,对该聚酯系片进行加热,通过热压接使该晶片与该框架借助该聚酯系片而一体化;分割工序,将对于该晶片具有透过性的波长的激光束的聚光点定位于该晶片的内部,沿着该分割预定线对该晶片照射该激光束,在该晶片中形成改质层,将该晶片分割成各个器件芯片;以及拾取工序,从该聚酯系片拾取各个该器件芯片。优选在该一体化工序中,通过红外线的照射来实施该热压接。另外,优选在该一体化工序中,在实施了一体化之后,将从该框架的外周探出的聚酯系片去除。另外,优选在该拾取工序中,对该聚酯系片进行扩展而使各器件芯片之间的间隔扩展,从该聚酯系片侧将该器件芯片顶起。另外,优选该聚酯系片是聚对苯二甲酸乙二醇酯片、聚萘二甲酸乙二醇酯片中的任意片。另外,优选在该一体化工序中,在该聚酯系片为该聚对苯二甲酸乙二醇酯片的情况下,加热温度为250℃~270℃,在该聚酯系片为该聚萘二甲酸乙二醇酯片的情况下,加热温度为160℃~180℃。另外,优选该晶片由Si、GaN、GaAs、玻璃中的任意材料构成。在本专利技术的一个方式的晶片的加工方法中,在形成框架单元时,不使用具有糊料层的粘接带,而是使用不具有糊料层的聚酯系片而使框架和晶片一体化。借助聚酯系片而使框架和晶片一体化的一体化工序是通过热压接来实现的。在实施了一体化工序之后,对晶片照射对于晶片具有透过性的波长的激光束,在晶片的内部形成沿着分割预定线的改质层而将该晶片分割。然后,从聚酯系片拾取器件芯片。所拾取的器件芯片分别安装于规定的安装对象。当在晶片的内部形成改质层时,激光束的漏光到达聚酯系片。但是,聚酯系片不具有糊料层,因此不会产生该糊料层发生熔融而粘固于器件芯片的背面侧或正面侧的情况。即,根据本专利技术的一个方式,能够使用不具有糊料层的聚酯系片来形成框架单元,因此不需要具有糊料层的粘接带,作为结果,不产生由于糊料层的附着所导致的器件芯片的品质降低。因此,根据本专利技术的一个方式,提供晶片的加工方法,不会在所形成的器件芯片的背面侧或正面侧附着糊料层,不会在器件芯片上产生由于糊料层的附着所导致的品质的降低。附图说明图1的(A)是示意性示出晶片的正面的立体图,图1的(B)是示意性示出晶片的背面的立体图。图2是示意性示出将晶片和框架定位于卡盘工作台的保持面上的情况的立体图。图3是示意性示出聚酯系片配设工序的立体图。图4是示意性示出一体化工序的一例的立体图。图5是示意性示出一体化工序的另一例的立体图。图6是示意性示出一体化工序的又一例的立体图。图7的(A)是示意性示出将聚酯系片切断的情况的立体图,图7的(B)是示意性示出所形成的框架单元的立体图。图8的(A)是示意性示出分割工序的立体图,图8的(B)是示意性示出分割工序的剖视图。图9是示意性示出向拾取装置搬入框架单元的立体图。图10的(A)是示意性示出固定于框架支承台上的框架单元的剖视图,图10的(B)是示意性示出拾取工序的剖视图。标号说明1:晶片;1a:正面;1b:背面;3:分割预定线;3a:改质层;5:器件;7:框架;7a:开口;9:聚酯系片;9a:切断痕;11:框架单元;2:卡盘工作台;2a:保持面;2b、36a:吸引源;2c、36b:切换部;4:热风枪;4a:热风;6:加热辊;8:红外线灯;8a:红外线;10:切割器;12:激光加工装置;14:激光加工单元;14a:加工头;14b:聚光点;16:激光束;18:拾取装置;20:鼓;22:框架保持单元;24:夹具;26:框架支承台;28:杆;30:气缸;32:基座;34:顶起机构;36:筒夹。具体实施方式参照附图,对本专利技术的一个方式的实施方式进行说明。首先,对利用本实施方式的晶片的加工方法进行加工的晶片进行说明。图1的(A)是示意性示本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种晶片的加工方法,将在由分割预定线划分的正面的各区域内形成有多个器件的晶片分割成各个器件芯片,其特征在于,/n该晶片的加工方法具有如下的工序:/n聚酯系片配设工序,将晶片定位于具有对晶片进行收纳的开口的框架的该开口内,将聚酯系片配设在该晶片的背面或该正面上以及该框架的外周上;/n一体化工序,对该聚酯系片进行加热,通过热压接使该晶片与该框架借助该聚酯系片而一体化;/n分割工序,将对于该晶片具有透过性的波长的激光束的聚光点定位于该晶片的内部,沿着该分割预定线对该晶片照射该激光束,在该晶片中形成改质层,将该晶片分割成各个器件芯片;以及/n拾取工序,从该聚酯系片拾取各个该器件芯片。/n

【技术特征摘要】
20190305 JP 2019-0395141.一种晶片的加工方法,将在由分割预定线划分的正面的各区域内形成有多个器件的晶片分割成各个器件芯片,其特征在于,
该晶片的加工方法具有如下的工序:
聚酯系片配设工序,将晶片定位于具有对晶片进行收纳的开口的框架的该开口内,将聚酯系片配设在该晶片的背面或该正面上以及该框架的外周上;
一体化工序,对该聚酯系片进行加热,通过热压接使该晶片与该框架借助该聚酯系片而一体化;
分割工序,将对于该晶片具有透过性的波长的激光束的聚光点定位于该晶片的内部,沿着该分割预定线对该晶片照射该激光束,在该晶片中形成改质层,将该晶片分割成各个器件芯片;以及
拾取工序,从该聚酯系片拾取各个该器件芯片。


2.根据权利要求1所述的晶片的加工方法,其特征在于,
在该一体化工序中,通过红外线的照射来实施该热压接。


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【专利技术属性】
技术研发人员:原田成规松泽稔木内逸人淀良彰荒川太朗上里昌充河村慧美子藤井祐介宫井俊辉大前卷子
申请(专利权)人:株式会社迪思科
类型:发明
国别省市:日本;JP

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