偏光膜形成用组合物制造技术

技术编号:25608743 阅读:28 留言:0更新日期:2020-09-12 00:03
偏光膜形成用组合物,其包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂、及有机溶剂,并满足下式(1)。式(1)中,A(380)表示用上述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在380nm处的吸光度。A(380)≥1.2(1)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏光膜形成用组合物
本专利技术涉及包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂及有机溶剂的偏光膜形成用组合物、偏光膜、该偏光膜的制造方法、以及偏光板。
技术介绍
平板显示装置(FPD)中使用了偏光板、相位差板等光学膜。近年来,从薄膜化的观点考虑,正在对包含下述偏光膜的偏光板进行研究,所述偏光膜是使包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂及有机溶剂的组合物固化而成的(例如,专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-083734号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题为了连续地形成这样的偏光膜,需要制作包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂及有机溶剂的偏光膜形成用组合物并进行长期保存。但是,根据本申请的专利技术人的研究,该偏光膜形成用组合物在长期保存时,光聚合引发剂因受到光的照射而产生自由基。已知由于以这样的方式产生的自由基,组合物中的聚合性液晶化合物发生反应,因此若在保存后使聚合性液晶化合物以取向状态固化,则有时产生取向缺陷。因此,本专利技术的目的在于提供下述偏光膜形成用组合物等,其长期保存稳定性优异,即使长期保存后,也能够有效地抑制得到的偏光膜中的取向缺陷的产生。用于解决课题的手段本申请的专利技术人为解决上述课题而进行了深入研究,结果发现,在包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂及有机溶剂的偏光膜形成用组合物中,380nm的吸光度在特定的范围内时,能够解决上述课题,从而完成了本专利技术。即,本专利技术包括以下的方案。[1]偏光膜形成用组合物,其包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂、及有机溶剂,并满足下式(1)。A(380)≥1.2(1)[式中,A(380)表示用上述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在380nm处的吸光度][2]如[1]所述的偏光膜形成用组合物,其还满足下式(2)。0.8≥A(650)(2)[式中,A(650)表示用上述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在650nm处的吸光度][3]如[1]或[2]所述的偏光膜形成用组合物,其中,聚合性液晶化合物为显示近晶型液晶性的化合物。[4]如[1]~[3]中任一项所述的偏光膜形成用组合物,其中,偏光膜形成用组合物中的固态成分的含量为该偏光膜形成用组合物的质量的5~50质量%。[5]如[1]~[4]中任一项所述的偏光膜形成用组合物,其中,聚合性液晶化合物的含量为偏光膜形成用组合物中的固态成分的质量的50~99质量%。[6]如[1]~[5]中任一项所述的偏光膜形成用组合物,其中,二向色性色素的含量为偏光膜形成用组合物中的固态成分的质量的1~20质量%。[7]偏光膜,其为[1]~[6]中任一项所述的偏光膜形成用组合物的固化物。[8]偏光膜的制造方法,其包括下述工序:工序(ii),形成[1]~[6]中任一项所述的偏光膜形成用组合物的涂膜,并将有机溶剂从该涂膜中干燥除去;及工序(iii),使聚合性液晶化合物以近晶型液晶相的状态进行取向固化。[9]如[8]所述的方法,其包括下述工序(i):以满足上述式(1)及/或(2)的状态保存[1]~[6]中任一项所述的偏光膜形成用组合物。[10]偏光板,其包含[7]所述的偏光膜、基材、及光取向膜。专利技术的效果本专利技术的偏光膜形成用组合物的长期保存稳定性优异,即使长期保存后,也能够有效地抑制得到的偏光膜中的取向缺陷的产生。具体实施方式<偏光膜形成用组合物>本专利技术的偏光膜形成用组合物包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂、及有机溶剂,并满足下式(1)。A(380)≥1.2(1)[式中,A(380)表示用上述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在380nm处的吸光度]若偏光膜形成用组合物在380nm处的吸光度在特定的范围内,则在保存该组合物时,能够有效地抑制或防止光聚合引发剂的自由基的产生及由该自由基导致的聚合性液晶化合物的聚合反应。因此,对于本专利技术的偏光膜形成用组合物而言,即使使该组合物中的聚合性液晶化合物以取向状态聚合,也基本或完全不产生取向缺陷。因此,本专利技术的偏光膜形成用组合物的长期保存稳定性优异,即使长期保存后也能够形成显示出优异取向性的偏光膜。上述式(1)中,A(380)的值优选为1.4以上,更优选为1.6以上。式(1)中的A(380)为上述值以上时,能够更有效地抑制或防止聚合性液晶化合物的聚合(聚合物化),能够进一步提高偏光膜形成用组合物的长期保存稳定性。另外,式(1)中的A(380)的值通常为4.0以下,优选为3.5以下。上述式(1)为上述值以下时,可减少二向色性色素的析出等。本专利技术的偏光膜形成用组合物优选还满足下式(2)。0.8≥A(650)(2)[式中,A(650)表示用上述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在650nm处的吸光度]偏光膜形成用组合物在650nm处的吸光度为0.8以下时,可见光(尤其是红色光)的一部分不被偏光膜形成用组合物吸收而透过,因此,若偏光膜形成用组合物中存在灰尘等杂质、二向色性色素等的溶解残渣,通过目视即可确认。因此,能够容易地将这样的杂质、溶解残渣等从偏光膜形成用组合物中去除,能够有效地抑制或防止由该杂质、溶解残渣引起的取向缺陷的产生。另一方面,从偏光性能的观点考虑,偏光膜能够阻截可见光是优选的。本专利技术的一个实施方式中,偏光膜形成用组合物在固化前的状态下如上文所述透过650nm的光,但若固化而形成偏光膜,则极大吸收波长会向长波长侧偏移(有时称为红移),在此影响下,650nm的光被阻截。如此,本专利技术的偏光膜形成用组合物具有在固化前能够目视到杂质等这样的优点,且具有在固化后能够确保偏光性能这样的优点。需要说明的是,使偏光膜形成用组合物固化而形成偏光膜时发生红移的原因推测如下:在聚合性液晶化合物以取向状态固化而得到的液晶(有时称为聚合液晶)中包入有二向色性色素,由此使得聚合液晶与二向色性色素的距离变近,电子密度上升,彼此发生相互作用。此处,在测定380nm及650nm的吸光度的溶液中,偏光膜形成用组合物的浓度(质量%)表示相对于偏光膜形成用组合物与稀释用的有机溶剂的总质量(100质量%)而言的偏光膜形成用组合物的质量(含量)。对于上述380nm及650nm处的吸光度而言,可以将偏光膜形成用组合物以光程成为1cm的方式放入石英池中,使用分光光度计进行测定,例如可利用实施例记载的方法测定。需要说明的是,测定吸光度的有机溶剂使用与偏光膜形成用组合物中的有机溶剂同样的溶剂。上述式(2)中,A(650)的值优选为0.7以下,更优选为0.5以下。式(2)中的A(650)为上述值以下时,650本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.偏光膜形成用组合物,其包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂、及有机溶剂,并满足下式(1),/nA(380)≥1.2 (1)/n式(1)中,A(380)表示用所述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在380nm处的吸光度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180201 JP 2018-0166981.偏光膜形成用组合物,其包含聚合性液晶化合物、二向色性色素、光聚合引发剂、及有机溶剂,并满足下式(1),
A(380)≥1.2(1)
式(1)中,A(380)表示用所述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在380nm处的吸光度。


2.如权利要求1所述的偏光膜形成用组合物,其还满足下式(2),
0.8≥A(650)(2)
式(2)中,A(650)表示用所述有机溶剂将偏光膜形成用组合物以其浓度成为0.4质量%的方式进行稀释而得到的溶液在650nm处的吸光度。


3.如权利要求1或2所述的偏光膜形成用组合物,其中,聚合性液晶化合物为显示近晶型液晶性的化合物。


4.如权利要求1~3中任一项所述的偏光膜形成用组合物,其中,偏光膜形成用组合物中的固态成分的含量为该偏光膜形成用组合物的质量的5~50质...

【专利技术属性】
技术研发人员:村野耕太幡中伸行太田阳介
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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