阵列基板及其制备方法技术

本公开提供了一种阵列基板及其制备方法，属于显示技术领域。该阵列基板的制备方法包括：在衬底基板的一侧依次形成驱动电路层、第一电极层、像素定义层、第一图案限定层和有机发光材料层，其中，驱动电路层包括第一驱动电路和第二驱动电路，第一电极层包括与第一驱动电路电连接的转接电极、与第二驱动电路电连接的像素电极，像素定义层设置有连接过孔，连接过孔暴露至少部分转接电极，第一图案限定层覆盖连接过孔；去除第一图案限定层后依次形成第二图案限定层和第二电极层，第二图案限定层环绕连接过孔，第二电极层包括隔离的公共电极和指纹识别电极。该阵列基板的制备方法使得自电容式指纹识别传感器内嵌至OLED显示面板。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法
本公开涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法。
技术介绍
自电容式指纹识别传感器(self-capacitivefinger-printsensor)具有精度高、抗噪性能好等特性。当手指接触指纹识别区域时，指纹中的脊与谷分别与指纹识别传感器形成不同的电容值，通过检测各个指纹识别传感器的检测信号，就可以组合成指纹的图案。OLED显示面板(有机电致发光显示面板)具有公共电极层，这使得自电容式指纹识别传感器难以内嵌至OLED显示面板中。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种阵列基板及其制备方法，使得自电容式指纹识别传感器内嵌至OLED显示面板。为实现上述专利技术目的，本公开采用如下技术方案：根据本公开的第一个方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板的一侧形成驱动电路层，所述驱动电路层包括第一驱动电路和第二驱动电路；在所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧形成第一电极层，所述第一电极层包括与所述第一驱动电路电连接的转接电极、与所述第二驱动电路电连接的像素电极；在所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧形成像素定义层，所述像素定义层设置有像素开口和连接过孔，所述像素开口暴露至少部分所述像素电极，所述连接过孔暴露至少部分所述转接电极；在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一图案限定层，所述第一图案限定层覆盖所述连接过孔且暴露所述像素开口；在所述第一图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成有机发光材料层，所述有机发光材料层覆盖所述像素开口和所述第一图案限定层；去除所述第一图案限定层，使得所述有机发光材料层形成有机发光层；在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成环绕所述连接过孔的第二图案限定层；在所述第二图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极层，所述第二电极层包括被所述第二图案限定层隔离的公共电极和指纹识别电极。在本公开的一种示例性实施例中，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一图案限定层包括：在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层；在所述第一可移除基底材料层远离所述衬底基板的一侧形成第一光刻胶材料层；对所述第一光刻胶材料层进行图案化操作以形成第一掩膜层，所述连接过孔在所述第一掩膜层上的正投影位于所述第一掩膜层内；以所述第一掩膜层为掩膜，对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层，所述第一可移除基底层和所述第一掩膜层组成所述第一图案限定层。在本公开的一种示例性实施例中，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层包括：使用第一基底材料，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层；其中，所述第一基底材料包含有第一氟化高分子材料；对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层包括：使用第一剥离液对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作，以去除所述第一可移除基底材料层未被所述第一掩膜层覆盖的部分；其中，所述第一剥离液包含有第一氟化溶剂。在本公开的一种示例性实施例中，对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层还包括：使用第一剥离液对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作时，去除所述第一可移除基底材料层被所述第一掩膜层覆盖的部分中的一部分。在本公开的一种示例性实施例中，去除所述第一图案限定层包括：使用第二剥离液去除所述第一可移除基底层进而去除所述第一掩膜层，所述第二剥离液包含有第二氟化溶剂。在本公开的一种示例性实施例中，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成环绕所述连接过孔的第二图案限定层包括：在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧形成第二可移除基底材料层；在所述第二可移除基底材料层远离所述衬底基板的一侧形成第二光刻胶材料层；对所述第二光刻胶材料层进行图案化操作以形成第二掩膜层，所述第二掩膜层在所述像素定义层上的正投影环绕所述连接过孔；以所述第二掩膜层为掩膜，对所述第二可移除基底材料层进行图案化操作以形成第二可移除基底层，所述第二可移除基底层和所述第二掩膜层组成所述第二图案限定层。在本公开的一种示例性实施例中，在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧形成第二可移除基底材料层包括：使用第二基底材料，在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧形成第二可移除基底材料层；其中，所述第二基底材料包含有第二氟化高分子材料；对所述第二可移除基底材料层进行图案化操作以形成第二可移除基底层包括：使用第三剥离液对所述第二可移除基底材料层进行图案化操作，以去除所述第二可移除基底材料层未被所述第二掩膜层覆盖的部分；其中，所述第三剥离液包含有第三氟化溶剂。在本公开的一种示例性实施例中，对所述第二可移除基底材料层进行图案化操作以形成第二可移除基底层还包括：使用第三剥离液对所述第二可移除基底材料层进行图案化操作时，去除所述第二可移除基底材料层被所述第二掩膜层覆盖的部分中的一部分。在本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板的制备方法还包括：去除所述第二图案限定层。根据本公开的第二个方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板；驱动电路层，设于所述衬底基板的一侧，包括第一驱动电路和第二驱动电路；第一电极层，设于所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧，且包括与所述第一驱动电路电连接的转接电极、与所述第二驱动电路电连接的像素电极；像素定义层，设于所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧；所述像素电极层设置有暴露至少部分所述像素电极的像素窗口和暴露至少部分所述转接电极的连接过孔；有机发光层，设于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧，所述有机发光层覆盖所述像素电极被所述像素定义层暴露的部分，且暴露所述连接过孔；第二电极层，设于所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧，包括相互绝缘的公共电极和指纹识别电极，其中，所述公共电极在所述第一电极层上的正投影覆盖所述像素电极被所述像素定义层暴露的部分，所述指纹识别电极覆盖所述连接过孔。根据本公开提供的阵列基板的制备方法，可以形成与像素电极同层设置的转接电极，然后先通过第一图案限定层保护该转接电极再形成有机发光材料层，之后通过去除第一图案限定层而移除位于第一图案限定层上的有机发光材料并重新暴露转接电极。然后形成第二图案限定层再形成第二电极层，利用第二图案限定层将第二电极层分割为不连续的公共电极和指纹识别电极。如此，按照本公开提供的阵列基板的制备方法及所提供的阵列基板，可以实现对第二电极层的图案化，获得内嵌式自电容式阵列基板，克服了OLED显示面板无法实现自电容式指纹识别的缺陷。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：/n提供一衬底基板；/n在所述衬底基板的一侧形成驱动电路层，所述驱动电路层包括第一驱动电路和第二驱动电路；/n在所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧形成第一电极层，所述第一电极层包括与所述第一驱动电路电连接的转接电极、与所述第二驱动电路电连接的像素电极；/n在所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧形成像素定义层，所述像素定义层设置有像素开口和连接过孔，所述像素开口暴露至少部分所述像素电极，所述连接过孔暴露至少部分所述转接电极；/n在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一图案限定层，所述第一图案限定层覆盖所述连接过孔且暴露所述像素开口；/n在所述第一图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成有机发光材料层，所述有机发光材料层覆盖所述像素开口和所述第一图案限定层；/n去除所述第一图案限定层，使得所述有机发光材料层形成有机发光层；/n在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成环绕所述连接过孔的第二图案限定层；/n在所述第二图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极层，所述第二电极层包括被所述第二图案限定层隔离的公共电极和指纹识别电极。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成驱动电路层，所述驱动电路层包括第一驱动电路和第二驱动电路；
在所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧形成第一电极层，所述第一电极层包括与所述第一驱动电路电连接的转接电极、与所述第二驱动电路电连接的像素电极；
在所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧形成像素定义层，所述像素定义层设置有像素开口和连接过孔，所述像素开口暴露至少部分所述像素电极，所述连接过孔暴露至少部分所述转接电极；
在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一图案限定层，所述第一图案限定层覆盖所述连接过孔且暴露所述像素开口；
在所述第一图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成有机发光材料层，所述有机发光材料层覆盖所述像素开口和所述第一图案限定层；
去除所述第一图案限定层，使得所述有机发光材料层形成有机发光层；
在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成环绕所述连接过孔的第二图案限定层；
在所述第二图案限定层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极层，所述第二电极层包括被所述第二图案限定层隔离的公共电极和指纹识别电极。


2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一图案限定层包括：
在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层；
在所述第一可移除基底材料层远离所述衬底基板的一侧形成第一光刻胶材料层；
对所述第一光刻胶材料层进行图案化操作以形成第一掩膜层，所述连接过孔在所述第一掩膜层上的正投影位于所述第一掩膜层内；
以所述第一掩膜层为掩膜，对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层，所述第一可移除基底层和所述第一掩膜层组成所述第一图案限定层。


3.根据权利要求2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层包括：
使用第一基底材料，在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧形成第一可移除基底材料层；其中，所述第一基底材料包含有第一氟化高分子材料；
对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层包括：
使用第一剥离液对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作，以去除所述第一可移除基底材料层未被所述第一掩膜层覆盖的部分；其中，所述第一剥离液包含有第一氟化溶剂。


4.根据权利要求3所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作以形成第一可移除基底层还包括：
使用第一剥离液对所述第一可移除基底材料层进行图案化操作时，去除所述第一可移除基底材料层被所述第一掩膜层覆盖的部分中的一部分。


5.根据权利要求3所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，去除...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵梦，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11