超薄型透射式光学狭缝制造技术

本实用新型专利技术公开了一种超薄型透射式光学狭缝。狭缝以光学研磨抛光后的石英材料为基板，在基板的二侧镀增透膜，在对着物方的增透膜上镀带狭缝的黑铬膜层，对着像方的增透膜上镀带狭缝的钝化膜层，二侧狭缝的大小与方位一致，狭缝的条数、宽度及形状可根据需要而定。本实用新型专利技术的特点是用光学薄膜做狭缝，其厚度仅十几微米，不存在因狭缝厚度的小断面引起的杂散光；并且狭缝边缘光滑，无毛刺或缺口，结构简洁，定位精度高，安装方便等优点。（*该技术在2011年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学元件，具体涉及一种超薄型透射式光学狭缝。在非干涉型光谱仪器中，仪器的光谱分辨率与狭缝有关。在单色仪与分光光度计一类仪器中通常采用宽度可调式的机械狭缝，而在成像光谱仪一类仪器中通常采用宽度固定的机械狭缝。但不管是可调式的，还是固定式的，对狭缝的厚度都要求做的很薄，这是因为光束经过狭缝时，将有一部分光线由狭缝厚度的小断面反射进入仪器中，这部分光线不仅增加仪器中的杂散光的强度，而且会使谱线的轮廓扩散。另外，在成像光谱仪的应用中，入射狭缝直接成像在光电探测器上，狭缝的边缘质量会影响系统的信噪比。而且很薄的机械狭缝加工困难，很易损坏。本技术的目的是提供一种狭缝边缘清晰，厚度超薄，且加工方便的透射式光学狭缝。本技术的目的是通过如下技术方案实现的即以光学研磨抛光后的石英材料为基板，在基板的二侧镀增透膜，在对着物方的增透膜上镀带狭缝的黑铬膜层，对着像方的增透膜上镀带狭缝的钝化膜层，二侧狭缝的大小与方位一致，并严格对齐，狭缝的条数、宽度及形状可根据需要而定。 附图说明图1为技术的工作原理图；图2为单缝光学狭缝剖面结构示意图；图3为单缝光学狭缝平面示意图。以下结合附图对本技术实施方式作详细说明见图1，以光学研磨抛光后的石英材料为基板1，在基板的二侧镀增透膜2，将需要的狭缝3形状尺寸输入计算机画出放大的图形，用光学方法精缩为同样大小的负片母版，再复制到基片的二个面上，在基片的二个面上形成狭缝图案，二面上的狭缝应严格对齐，然后对狭缝以外的部分，即非通光部分进行喷丸处理，最后对处理过的部分一面镀黑铬膜层4，另一面也镀黑铬然后进行喷丸处理成钝化膜层5。一种超薄型透射式光学狭缝制造完毕。当入射光线6射向镀黑铬膜层面的光学狭缝时，有效孔径内的光线通过狭缝，有效孔径外的光线被镀黑铬膜层面反射。由于狭缝厚度很薄，仅为十几微米，不会在狭缝厚度小断面处产生杂散光。狭缝的背面镀有钝化膜层5，可进一步消除杂散光。通光部分镀增透膜2有利于有效孔径内的光线通过。本技术具有如下的有益的效果(1)超薄的狭缝厚度用光学薄膜做狭缝，其厚度仅十几微米，不存在因狭缝厚度的小断面引起的杂散光。(2)狭缝边缘质量好采用照相复制技术制作狭缝，狭缝边缘的质量很好，绝无毛刺或缺口，不会影响系统的信噪比。(3)能够做成复杂的形状采用照相复制技术制作狭缝，不受狭缝形状与数量的限制，特别适合超窄狭缝或多狭缝的制作。(4)定位精度高，安装方便采用照相制版技术，光学狭缝位置可达到很高的定位精度，因此狭缝的安装十分方便。权利要求1.一种超薄型透射式光学狭缝，其特征在于它是以光学研磨抛光后的石英材料为基板(1)，在基板的二侧镀增透膜(2)，在对着物方的增透膜上镀带狭缝(3)的黑铬膜层(4)，对着像方的增透膜上镀带狭缝的钝化膜层(5)，二侧狭缝的大小与方位一致，所说的狭缝的条数、宽度及形状可根据需要而定。专利摘要本技术公开了一种超薄型透射式光学狭缝。狭缝以光学研磨抛光后的石英材料为基板,在基板的二侧镀增透膜,在对着物方的增透膜上镀带狭缝的黑铬膜层,对着像方的增透膜上镀带狭缝的钝化膜层,二侧狭缝的大小与方位一致,狭缝的条数、宽度及形状可根据需要而定。本技术的特点是用光学薄膜做狭缝,其厚度仅十几微米,不存在因狭缝厚度的小断面引起的杂散光;并且狭缝边缘光滑,无毛刺或缺口,结构简洁,定位精度高,安装方便等优点。文档编号G01J3/00GK2483702SQ01246639公开日2002年3月27日 申请日期2001年7月20日 优先权日2001年7月20日专利技术者胥学荣 申请人:中国科学院上海技术物理研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超薄型透射式光学狭缝，其特征在于：它是以光学研磨抛光后的石英材料为基板（１），在基板的二侧镀增透膜（２），在对着物方的增透膜上镀带狭缝（３）的黑铬膜层（４），对着像方的增透膜上镀带狭缝的钝化膜层（５），二侧狭缝的大小与方位一致，所说的狭缝的条数、宽度及形状可根据需要而定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胥学荣，
申请(专利权)人：中国科学院上海技术物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]