【技术实现步骤摘要】
一种等离子自动清洗装置
本技术涉及一种等离子自动清洗装置,属于电子元器件生产加工
技术介绍
大气等离子处理技术是一种常见的表面清洁工艺,常规使用氩气、氦气作为载气,氧气、氮气等作为反应性气体,清洗产品表面,具有去除静电、去除表面有机物、去除水分、表面活化、增加微粗糙度等功能。常规的等离子清洗机使用时,设备一直开启,喷射等离子气体,操作人员将产品放置在等离子清洗区域,手动移动等离子清洗机,清洗完产品后,再拿走产品。此种使用方式,存在如下缺陷:一是等离子清洗机一直开启,对气体及电能的浪费比较严重;二是人工触碰清洗后产品,对产品表面的清洁度有负面影响。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本技术提出一种等离子自动清洗装置,其能够根据清洗需求控制清洗,避免一直开启等离子清洗机,节约了清洗气体和电能,并且可以避免人工触碰清洗后的产品,有利于提升产品表面的清洁度。为实现上述目的,本技术的一种等离子自动清洗装置,包括操作室,操作室内设有操作面,操作室的一端设有自动丝印机,操作室远离自动丝印机的一端设有人工放料位,操作室内位于自动丝印机与人工放料位之间设有等离子清洗机,自动丝印机、人工放料位和等离子清洗机均位于操作面上,操作面上设有转动盘,转动盘绕其圆心转动,转动盘上设有若干用于放置产品的承托盘,等离子清洗机和自动丝印机位于转动盘的上方,操作室远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架,收料架旁设有成品收料盘,收料架上设有用于夹起产品转移至成品收料盘的四轴机器人。进一步地,操作室远离等 ...
【技术保护点】
1.一种等离子自动清洗装置,其特征在于,包括操作室(1),所述操作室(1)内设有操作面(11),所述操作室(1)的一端设有自动丝印机(13),所述操作室(1)远离自动丝印机(13)的一端设有人工放料位(15),所述操作室(1)内位于自动丝印机(13)与人工放料位(15)之间设有等离子清洗机(14),所述自动丝印机(13)、人工放料位(15)和等离子清洗机(14)均位于操作面(11)上,所述操作面(11)上设有转动盘(12),所述转动盘(12)绕其圆心转动,所述转动盘(12)上设有若干用于放置产品的承托盘(121),所述等离子清洗机(14)和自动丝印机(13)位于转动盘(12)的上方,所述操作室(1)远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架(2),所述收料架(2)上设有成品收料盘(21),所述收料架(2)旁设有用于夹起产品转移至成品收料盘(21)的四轴机器人(3)。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种等离子自动清洗装置,其特征在于,包括操作室(1),所述操作室(1)内设有操作面(11),所述操作室(1)的一端设有自动丝印机(13),所述操作室(1)远离自动丝印机(13)的一端设有人工放料位(15),所述操作室(1)内位于自动丝印机(13)与人工放料位(15)之间设有等离子清洗机(14),所述自动丝印机(13)、人工放料位(15)和等离子清洗机(14)均位于操作面(11)上,所述操作面(11)上设有转动盘(12),所述转动盘(12)绕其圆心转动,所述转动盘(12)上设有若干用于放置产品的承托盘(121),所述等离子清洗机(14)和自动丝印机(13)位于转动盘(12)的上方,所述操作室(1)远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架(2),所述收料架(2)上设有成品收料盘(21),所述收料架(2)旁设有用于夹起产品转移至成品收料盘(21)的四轴机器人(3)。
2.如权利要求1所述的一种等离子自动清洗装置,其特征在于,所述操作室(1)远离等离子清洗机(14)的一端还设有支撑架(4),所述支撑架(4)顶部和操作室(1)的顶部均设有风淋过滤机,所述操作室(1)设有人工放料位(15)和收料架(2)的两面为开放面,其余面为封闭面。
技术研发人员:丁程,
申请(专利权)人:适新科技苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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