【技术实现步骤摘要】
用于等离子弧焊炬的成本有效的筒相关申请的交叉引用本申请要求享有2014年8月12日提交的美国临时专利申请第62/036,393号的权益和优先权,其全部内容由本申请的受让人拥有并且在此通过全文引用的方式并入本文中。
本专利技术一般涉及用于等离子弧焊炬的可消耗件,并且更特别地涉及具有多个集成部件的等离子弧焊炬的一个或多个可替换的低成本筒。
技术介绍
热处理焊炬(诸如,等离子弧焊炬)广泛地用于材料的高温处理(例如,加热、切割、刨削和标记)。等离子弧焊炬一般包括焊炬本体,安装在焊炬本体内的电极,置于电极的钻孔内的发射插入件,具有安装在焊炬本体内的中心出口孔的喷嘴,护罩,电连接件,用于冷却的通路,用于弧控制流体(例如,等离子气体)的通路以及电源。涡流环能够被用于控制形成于电极和喷嘴之间的等离子腔室中的流体流型。在一些焊炬中,保持帽被用于将喷嘴和/或涡流环维持在等离子弧焊炬中。在操作中,焊炬产生等离子弧,等离子弧是具有高温和足够的动量以辅助去除熔融金属的离子化气体的压缩射流。用在焊炬中的气体能够是非反应性的(例如,氩气或氮气)或反应性的(例如,氧气或空气)。用于在等离子弧焊炬中产生等离子弧的一种方法是接触启动方法。接触启动方法包括在电极和喷嘴之间建立物理接触和电连通以扁在其之间形成电流路径。电极和喷嘴能够配合以便在焊炬本体内形成等离子腔室。电流被提供至电极和喷嘴,并且气体被引入至等离子腔室。气体压力增大直至该压力足以分离电极和喷嘴。该分离使得在等离子腔室中在电极和喷嘴之间形成电弧。电弧将被引入的气体离子化 ...
【技术保护点】
1.一种用于空气冷却的等离子弧焊炬的涡流环,所述涡流环包括:/n细长本体,所述细长本体包括基本上中空部分,所述细长本体具有远端和近端并且被构造成在所述中空部分内容纳电极;/n多个气流开口,所述多个气流开口的每一个从所述细长本体的内表面延伸至外表面,所述气流开口置于所述细长本体的所述远端周围并且被构造成将涡流赋予所述等离子弧焊炬的等离子气流,其中,所述多个气流开口包括由置于所述细长本体的所述远端周围的多个延伸部限定的槽,每个槽位于一对所述延伸部之间;以及/n喷嘴保持表面,所述喷嘴保持表面在所述本体上以用于将喷嘴保持在所述细长本体的所述远端处。/n
【技术特征摘要】
20140812 US 62/0363931.一种用于空气冷却的等离子弧焊炬的涡流环,所述涡流环包括:
细长本体,所述细长本体包括基本上中空部分,所述细长本体具有远端和近端并且被构造成在所述中空部分内容纳电极;
多个气流开口,所述多个气流开口的每一个从所述细长本体的内表面延伸至外表面,所述气流开口置于所述细长本体的所述远端周围并且被构造成将涡流赋予所述等离子弧焊炬的等离子气流,其中,所述多个气流开口包括由置于所述细长本体的所述远端周围的多个延伸部限定的槽,每个槽位于一对所述延伸部之间;以及
喷嘴保持表面,所述喷嘴保持表面在所述本体上以用于将喷嘴保持在所述细长本体的所述远端处。
2.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述喷嘴保持表面包括位于所述延伸部的外表面上的喷嘴保持部件。
3.根据权利要求2所述的涡流环,其中,所述喷嘴保持部件包括被构造成经由压接而容纳所述喷嘴的一部分的沟槽。
4.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述喷嘴保持表面包括被构造成经由压接而容纳所述喷嘴的一部分的倾斜表面。
5.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述涡流环的所述细长本体的所述远端和所述喷嘴配合地限定了所述多个气流开口。
6.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述涡流环被构造成经由卡扣配合或螺纹连接中的一者而接合所述喷嘴。
7.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述涡流环被构造成经由压接而接合所述喷嘴。
8.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述细长本体以注塑成型工艺来形成。
9.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述细长本体由热塑性材料形成。
10.根据权利要求9所述的涡流环,其中,所述热塑性材料包括醚和酮分子形成的聚合物。
11.根据权利要求10所述的涡流环,其中,所述热塑性材料进一步包括一种或多种添加剂。
12.根据权利要求10所述的涡流环,其中,所述热塑性材料具有一个或多个属性,包括:(i)大于约320华氏度(F)的玻璃化转变温度(Tg),(ii)在Tg以下小于约22微英寸/英寸-华氏度(micro.in/in.F)的线性热膨胀系数(CLTE),(iii)在Tg以上小于约55微英寸/英寸-华氏度(micro.in/in.F)的CLTE,(iv)大于约720华氏度的熔点,以及(v)大于约480千伏/英寸的介电强度。
13.根据权利要求8所述的涡流环,其中,所述喷嘴保持部件或所述多个气流开口中的至少一者以相同的注塑成型工艺被成型到所述细长体上。
14.根据权利要求1所述的涡流环,所述涡流环还包括位于所述细长本体上的所述帽保持元件,以用于将帽保持在所述细长本体的近端处,所述帽基本上围住所述近端。
15.根据权利要求14所述的涡流环,其中,所述帽保持元件包括沟槽,所述沟槽被构造成通过压接、螺纹连接或卡扣配合中的至少一者来固定所述帽。
16.根据权利要求1所述的涡流环,其中,每个气流开口的轴向宽度(W)与所述电极的半径和所述涡流环的内壁的半径之间的平均半径(R)的比率小于约0.5。
17.根据权利要求1所述的涡流环,其中,所述多个气流开口围绕所述细长本体的远端被置于单个层中。
18.根据权利要求17所述的涡流环,其中,每个气流开口在所述涡流环的内壁中的开口和所述涡流环的外壁上的开口之间具有约0.040英寸的偏移。
19.根据权利要求1所述的涡流环,其中,与所述喷嘴配合的所述涡流环的细长本体适于使所述电极径向地对准,以限制所述电极的径向运动。
20.根据权利要求14所述的涡流环,其中,与所述帽配合的所述涡流环的细长本体适于使所述电极纵向地对准,以限制所述电极的纵向运动。
21.一...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宇,端正,M埃斯梅利,MF科恩普罗布斯特,BA汉森,G奎利亚,
申请(专利权)人:海别得公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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