显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底基板；位于衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；位于薄膜晶体管阵列层远离衬底基板一侧的第一平坦层；位于第一平坦层远离衬底基板一侧的导电层和第一电极，第一电极远离衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；位于第一电极远离衬底基板一侧的像素界定层和有机发光层，像素界定层限定出像素区域，有机发光层位于像素区域内；位于有机发光层远离衬底基板一侧的第二电极；其中，导电层与第二电极并联。本发明专利技术的技术方案能够提高有机发光层成膜厚度的均一性，改善显示装置的显示效果，延长显示基板的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管，简称OLED)显示装置由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。现有OLED显示基板存在画面不均匀的现象，这是因为OLED显示基板上，栅金属层图形和源漏金属层图形存在交叠，导致OLED显示基板上存在段差，而目前的平坦层平坦能力有限，无法将段差平坦至目标值，这样在利用喷墨打印方式形成有机发光层时，会影响有机发光层成膜厚度的均一性，进而影响了显示装置的显示效果。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高有机发光层成膜厚度的均一性，改善显示装置的显示效果，延长显示基板的使用寿命。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种显示基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；位于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板一侧的第一平坦层；位于所述第一平坦层远离所述衬底基板一侧的导电层和第一电极，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；位于所述第一电极远离所述衬底基板一侧的像素界定层和有机发光层，所述像素界定层限定出像素区域，所述有机发光层位于所述像素区域内；位于所述有机发光层远离所述衬底基板一侧的第二电极；其中，所述导电层与所述第二电极并联。一些实施例中，所述阈值为100埃。一些实施例中，所述第一电极位于所述导电层远离所述衬底基板的一侧，所述显示基板还包括：位于所述导电层和所述第一电极之间的第二平坦层；所述导电层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述第二平坦层和所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联。一些实施例中，所述导电层采用纳米金属或导电油墨。一些实施例中，所述导电层包括：第一导电子层，所述第一导电子层远离所述衬底基板的一侧表面设置有多个凹槽，所述第一电极位于所述凹槽内；第二导电子层，所述第二导电子层与所述第一导电子层相互独立，所述第二导电子层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联。一些实施例中，所述第一电极采用纳米反光金属或导电油墨，所述第一导电子层采用透明导电层。本专利技术的实施例提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。本专利技术的实施例提供了一种显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层；在所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板的一侧形成第一平坦层；在所述第一平坦层远离所述衬底基板的一侧形成导电层和第一电极，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层和有机发光层，所述像素界定层限定出像素区域，所述有机发光层位于所述像素区域内；在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极；其中，所述导电层与所述第二电极并联。一些实施例中，所述第一电极位于所述导电层远离所述衬底基板的一侧，形成所述导电层包括：在所述第一平坦层上喷墨打印流变性的纳米金属或导电油墨形成所述导电层，所述导电层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述第二平坦层和所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联；所述显示基板的制作方法还包括：在所述导电层远离所述衬底基板的一侧形成第二平坦层；形成所述第一电极包括：在所述第二平坦层远离所述衬底基板的一侧表面形成所述第一电极。一些实施例中，形成所述导电层包括：形成第一导电子层，所述第一导电子层远离所述衬底基板的一侧表面设置有多个凹槽；形成第二导电子层，所述第二导电子层与所述第一导电子层相互独立，所述第二导电子层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联；形成所述第一电极包括：在所述凹槽内喷墨打印流变性的纳米反光金属或导电油墨形成所述第一电极。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，显示基板包括位于第一平坦层远离衬底基板一侧的第一电极，第一电极远离衬底基板一侧的表面的段差小于阈值，即第一电极具有一定的平坦度，这样在形成有机发光层之前，通过第一电极能够进一步提高显示基板的平坦度，有利于有机发光层成膜厚度的均一性，改善显示基板的显示效果；另外，导电层与第二电极并联，可以降低显示基板的IRdrop，能够进一步改善显示基板的显示效果。附图说明图1为本专利技术一实施例显示基板的结构示意图；图2为本专利技术另一实施例显示基板的结构示意图。附图标记1衬底基板2遮光金属层3缓冲层41有源层42源漏极接触区5栅绝缘层6栅极7层间绝缘层81源极82漏极9钝化层10第一平坦层11导电层111第一导电子层112凹槽113第二导电子层12第一电极14导电层15第二平坦层16第一电极17像素界定层18第二电极19有机发光层具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。OLED显示基板的有机发光层的成膜方式包括蒸镀和喷墨打印两种方式。由于喷墨打印技术具有较高的材料利用率，因此被认为是实现大尺寸、量产化的重要方式。但是喷墨打印时，会存在画面不均匀的现象，因为栅金属层图形和源漏金属层图形存在交叠，导致OLED显示基板上存在段差，而目前的平坦层平坦能力有限，无法将段差平坦至目标值，这样就影响了有机发光层成膜厚度的均一性，进而影响了显示装置的显示效果。另外，对于顶反射OLED显示基板，发光单元的阴极采用透明导电材料，电阻较大，会导致存在IRdrop现象，影响了OLED显示基板的显示效果。本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高有机发光层成膜厚度的均一性，改善显示装置的显示效果，延长显示基板的使用寿命。本专利技术的实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；位于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板一侧的第一平坦层；位于所述第一平坦层远离所述衬底基板一侧的导电层和第一电极，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；位于所述第一电极远离所述衬底基板一侧的像素界定层和有机发光层，所述像素界本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：/n衬底基板；/n位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；/n位于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板一侧的第一平坦层；/n位于所述第一平坦层远离所述衬底基板一侧的导电层和第一电极，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；/n位于所述第一电极远离所述衬底基板一侧的像素界定层和有机发光层，所述像素界定层限定出像素区域，所述有机发光层位于所述像素区域内；/n位于所述有机发光层远离所述衬底基板一侧的第二电极；/n其中，所述导电层与所述第二电极并联。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；
位于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板一侧的第一平坦层；
位于所述第一平坦层远离所述衬底基板一侧的导电层和第一电极，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的段差小于阈值；
位于所述第一电极远离所述衬底基板一侧的像素界定层和有机发光层，所述像素界定层限定出像素区域，所述有机发光层位于所述像素区域内；
位于所述有机发光层远离所述衬底基板一侧的第二电极；
其中，所述导电层与所述第二电极并联。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阈值为100埃。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极位于所述导电层远离所述衬底基板的一侧，所述显示基板还包括：
位于所述导电层和所述第一电极之间的第二平坦层；
所述导电层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述第二平坦层和所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联。


4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述导电层采用纳米金属或导电油墨。


5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电层包括：
第一导电子层，所述第一导电子层远离所述衬底基板的一侧表面设置有多个凹槽，所述第一电极位于所述凹槽内；
第二导电子层，所述第二导电子层与所述第一导电子层相互独立，所述第二导电子层包括多个相互独立的辅助电极图形，所述辅助电极图形通过贯穿所述像素界定层的过孔与所述第二电极并联。


6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极采用纳米反光金属或导电油墨，所述第一导电子层采用透明导电层。


7.一种显示装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：张星，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11