显示面板、显示面板的制备方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，所述显示面板包括：阵列基板；像素限定层，位于所述阵列基板一侧，所述像素限定层设有开口，所述开口的至少部分侧壁上设有金属层，所述金属层表面为粗糙表面。本发明专利技术技术方案通过在像素限定层的开口的至少部分侧壁上设置金属层，并将金属层表面设置为粗糙表面，可以利用粗糙表面对光进行折射和/或反射，以增大衰减量较大的光的出光光强，以改善显示面板及显示装置在大视角下色偏的现象，从而改善显示面板及显示装置的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示面板、显示面板的制备方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)，又称为有机电致发光器件，是指发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的器件。与液晶显示(LCD)装置相比，有机发光显示装置更轻薄，具有更好的视角和对比度等，因此受到了人们的广泛关注。理想状况下，不同颜色发光区域的发光亮度随着视角增加具有相同程度的衰减，如此才不会造成色偏。但是由于不同颜色发光区域的发光亮度随着视角的增加有不同程度的衰减，导致在大视角下观察时会产生色偏现象。因此，对于显示面板来说，大视角色偏的问题亟待解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，能够改善显示面板及显示装置在大视角下色偏的现象，从而改善显示面板及显示装置的显示效果。为了达到上述技术效果，本专利技术采用的技术方案是：一方面，本专利技术提供一种显示面板，包括：阵列基板；像素限定层，位于所述阵列基板一侧，所述像素限定层设有开口，所述开口的至少部分侧壁上设有金属层，所述金属层表面为粗糙表面。在其中一个实施例中，所述金属层表面包括纳米晶颗粒。在其中一个实施例中，所述纳米晶颗粒的颗粒尺寸由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上逐渐减小。在其中一个实施例中，所述纳米晶颗粒包括晶态金属合金的纳米晶颗粒、非晶态金属合金的纳米晶颗粒中的至少一种。在其中一个实施例中，所述金属层表面上，由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上依次排布所述非晶态金属合金的纳米晶颗粒、所述晶态金属合金的纳米晶颗粒。在其中一个实施例中，所述金属层覆盖全部所述侧壁。另一方面，本专利技术提供一种显示面板的制备方法，包括：提供一阵列基板；在所述阵列基板的一侧形成像素限定层，所述像素限定层设有开口；在所述像素限定层的所述开口的至少部分侧壁上沉积金属层；刻蚀所述金属层表面以形成粗糙表面。在其中一个实施例中，所述“刻蚀所述金属层表面以形成粗糙表面”的步骤包括：利用电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒。在其中一个实施例中，所述“利用电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒”的步骤包括：利用超低浓度酸电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒。再一方面，本专利技术提供一种显示装置，包括上述所述的显示面板。与现有技术相比，本专利技术实施方案的有益效果是：本专利技术技术方案通过在像素限定层的开口的至少部分侧壁上设置金属层，并将金属层表面设置为粗糙表面，可以利用粗糙表面对光进行折射和/或反射，以增大衰减量较大的光的出光光强。更进一步地，通过在金属层表面设置纳米晶颗粒，利用纳米晶颗粒的折射和/或反射作用进一步增大衰减量较大的光的出光光强，以平衡大视角下显示面板和显示装置的出光，改善显示面板及显示装置在大视角下色偏的现象，从而改善显示面板及显示装置的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的显示面板的纵向剖视图。图2为本专利技术提供的显示面板制备方法的流程图。附图标记说明：1、显示面板；2、阵列基板；21、衬底基板；22、薄膜晶体管层；23、平坦化层；24、子像素电极；3、像素限定层；4、金属层。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。另外，术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。现有的显示面板中，不同颜色发光区域的发光亮度随着视角的增加有不同程度的衰减，例如，对于三基色光而言，在大视角下，红光和绿光的衰减量较大，蓝光衰减量较小，从而使得蓝光亮度最高，红光亮度和绿光亮度相对较低，导致对正视角下发光颜色为白色的光而言，用户在大视角下(例如40°～70°)看到的却是蓝色，即白色画面在大视角下偏蓝。针对上述问题，第一方面，本专利技术提供了一种显示面板，如图1所示，本专利技术实施例中的显示面板1包括阵列基板2及位于阵列基板2一侧的像素限定层3，像素限定层3设有开口，在开口的至少部分侧壁上设有金属层4，其中，该金属层4表面为粗糙表面。在其中一实施例中，金属层4表面包括纳米晶颗粒。阵列基板2包括衬底基板21、设置于衬底基板21的薄膜晶体管(Thin-filmtransistor，TFT)层22，以及设置于薄膜晶体管层22上的子像素电极24。当然，该阵列基板2还可以包括平坦化层23、钝化层等膜层，在此不作限定。衬底基板21可以由诸如玻璃材料、金属材料或包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚酰亚胺等的塑胶材料中合适的材料形成。在一个实施例中，在形成TFT之前，可以在衬底基板21上形成诸如缓冲层等层结构。缓冲层可以形成在衬底基板21的整个表面上，也可以通过被图案化来形成。缓冲层可以包括PET、PEN、聚丙烯酸酯和/或聚酰亚胺等材料中合适的材料，以单层或多层堆叠的形式形成层状结构。缓冲层还可以由氧化硅或氮化硅形成，或者可以为包括有机材料和/或无机材料的复合层。薄膜晶体管层22中的薄膜晶体管可以包括半导体层、栅电极、源电极和漏电极。半导体层可以由非晶硅层、金属氧化物或多晶硅层形成，或者可以由有机半导体材料形成。在一个实施例中，半导体层包括沟道区和掺杂有掺杂剂的源区与漏区。由于薄膜晶体管具有复杂的层结构，因此有必要在薄膜晶体管上形成平坦化层23，以便形成足够平坦的顶表面。在形成平坦化层23后，可以在平坦化层23中形成电极通孔，以暴露TFT的漏电极。在一些实施例中，阵列基板2可以具有多个像素区域，每个像素区域中可以包括第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域。每个像素区域中第一子像素区域可以是发射红光的子像素区域，第二子像素区域可以是发射绿光的子像素区域，第三子像素区域可以是发射蓝光的子像素区域。可以理解地，在其它一些实施例中，每个像素区域亦可包括其他子像素区域，例如，还可包括发射白光的第四子像素区域，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n阵列基板；/n像素限定层，位于所述阵列基板一侧，所述像素限定层设有开口，所述开口的至少部分侧壁上设有金属层，所述金属层表面为粗糙表面。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
像素限定层，位于所述阵列基板一侧，所述像素限定层设有开口，所述开口的至少部分侧壁上设有金属层，所述金属层表面为粗糙表面。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属层表面包括纳米晶颗粒。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶颗粒的颗粒尺寸由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上逐渐减小。


4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶颗粒包括晶态金属合金的纳米晶颗粒、非晶态金属合金的纳米晶颗粒中的至少一种。


5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述金属层表面上，由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上依次排布所述非晶态金属合金的纳米晶颗粒、所述晶态金属合金的纳米晶颗粒。


6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫丹，赵欢，黄金雷，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34