【技术实现步骤摘要】
半导体封装结构及电子装置相关申请的交叉引用本申请要求2019年2月15日递交的第62/806,563号美国临时申请及2019年12月17日递交的第16/717,929号美国非临时申请的的权益及优先权,所述申请的内容以引用的方式全文并入本文中。
本公开涉及一种半导体封装结构及一种包含所述半导体封装结构的电子装置,并且涉及一种包含具有多个中空通孔的封装衬底的半导体封装结构及一种包含所述半导体封装结构的电子装置。
技术介绍
半导体封装结构的规范可包含高速数据传输容量、高数据容量及较小占用面积。散热也是此类半导体封装结构的一个问题。在操作期间,高速数据传输可导致产生大量热量并且可使半导体封装结构的温度升高。归因于半导体封装结构的小尺寸,可能难以耗散所述热量。如果热量无法有效地耗散,则半导体封装结构的性能可降低,或者半导体封装结构可能损坏或呈现为无法操作。
技术实现思路
在一些实施例中,半导体封装结构包含封装衬底及半导体裸片。所述封装衬底包含延伸穿过所述封装衬底的多个中空通孔。所述半导体裸片电连接到所述封装衬底。所述中空通孔安置于所述半导体裸片下方。在一些实施例中,电子装置包含半导体封装结构、主衬底及散热装置。半导体封装结构包含封装衬底及半导体裸片。所述封装衬底包含延伸穿过所述封装衬底的多个第一中空通孔。所述半导体裸片电连接到所述封装衬底。所述第一中空通孔安置于所述半导体裸片下方。所述主衬底电连接到所述封装衬底。所述主衬底包含延伸穿过所述主衬底的多个第二中空通孔,并且所述第二中空通孔 ...
【技术保护点】
1.一种半导体封装结构,其包括:/n封装衬底,其包含延伸穿过所述封装衬底的多个中空通孔;及/n半导体裸片,其电连接到所述封装衬底,其中所述中空通孔安置于所述半导体裸片下方。/n
【技术特征摘要】
20190215 US 62/806,563;20191217 US 16/717,9291.一种半导体封装结构,其包括:
封装衬底,其包含延伸穿过所述封装衬底的多个中空通孔;及
半导体裸片,其电连接到所述封装衬底,其中所述中空通孔安置于所述半导体裸片下方。
2.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述中空通孔中的每一者的直径大于或等于100μm。
3.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述中空通孔用于使流体流过。
4.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其进一步包括安置于所述封装衬底与所述半导体裸片之间的多个帽盖结构,其中所述帽盖结构中的每一者界定空腔,并且所述帽盖结构中的每一者附接到所述封装衬底以覆盖所述中空通孔中的两者,并且所述中空通孔中的所述两者通过所述帽盖结构的所述空腔彼此连通。
5.根据权利要求4所述的半导体封装结构,其中所述帽盖结构附接到所述半导体裸片。
6.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其进一步包括安置于所述封装衬底与所述半导体裸片之间的多个U形管,所述U形管中的每一者包含两个端部,所述U形管中的每一者的所述两个端部分别连接到所述中空通孔中的两者,并且所述中空通孔中的所述两者通过所述U形管彼此连通。
7.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述封装衬底界定多个穿通孔,并且进一步包含多个内层及至少一个电路层,其中所述内层安置于所述穿通孔的所述内表面上以形成所述中空通孔,并且所述电路层与所述内层电绝缘。
8.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述封装衬底界定多个穿通孔以形成所述中空通孔。
9.一种电子装置,其包括:
半导体封装结构,其包括:
封装衬底,其包含延伸穿过所述封装衬底的多个第一中空通孔;及
半导体裸片,其电连接到所述封装衬底,其中所述第一中空通孔安置于所述半导体裸片下方;
主衬底,其电连接到所述封装衬底,其中所述主衬底包含延伸穿过所述主衬底的多个第二中空通孔,并且所述第二中空通孔与所述第一中空通孔对准;及
散热装置,其用于耗散由所述半导体裸片产生的热量,其中所述热量穿过所述第二中空通孔及所述第一中空通孔传输。
10.根据权利要求9所述的电子装置,其进一步包括:
多个帽盖结构,其安置于所述封装衬底与所述半导体裸片之间,其中所述帽盖结构中的每一者界定空腔,所述帽盖结构中的每一者附接到所述封装衬底以覆盖所述中空通孔中的两者,并且所述第一中空通孔中的所述两者通过所述帽盖结构的所述空腔彼此连通;
中间块,其安置于所述封装衬底与所述主衬底之间,其中所述中间块界定与所述第二中空通孔及所述第一中空通孔对准的多个穿通孔;
多个U形管,其安置于所述主衬底下方,所述U形管中的每一者包含两个端部,所述U形管中的每一者的所述两个端部分别连接到所述第二中空通孔中的两者,并且所述第二中空通孔中的所述两者通过所述U形管彼此连通,其中所述U形管热连接到所述散热装置;及
第一工作流体,其安置于所述U形管中。
11.根据权利要求10所述的电子装置,其中所述散热装置包含冷凝器结构、第一通道、第二通道及第二工作流体,所述冷凝器结构界定封闭室,所述U形管中的每一者的部分安置于所述冷凝器结构的所述封闭室中,所述第一通道及所述第二通道与所述冷凝器结构的所述封闭室连通,并且所述第二工作流体在所述第一通道、所述封闭室及所述第二通道中流动并且接触所述封闭室中的所述U形管中的每一者的所述部分。
12.根据权利要求9所述的电子装置,其进一步包括:
多个...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈馨恩,胡逸群,蔡荣哲,
申请(专利权)人:日月光半导体制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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