一种具有特殊结构的精密抛光膜制造技术

本实用新型专利技术涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜，该精密抛光膜包括基材层和设置于基材层表面的涂层，涂层中分布有磨料，涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。本实用新型专利技术的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的磨屑又可以通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免打磨工件出现划伤、凹痕等现象，实用性高。

【技术实现步骤摘要】
一种具有特殊结构的精密抛光膜
本技术涉及抛光膜
，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜。
技术介绍
目前的精密抛光产品中，行业内一般的精密抛光膜是平整且磨料是均匀分布的，这种表面纯平的抛光膜虽然抛光Ra值比较小，但是抛光速率较低，不适合对抛光速率要求高的工艺。
技术实现思路
为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本技术的目的在于提供一种具有特殊结构的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，能有效提高抛光膜的抛光效率，实用性高。本技术的目的通过下述技术方案实现：一种具有特殊结构的精密抛光膜，包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。进一步地，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm。进一步地，所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1。进一步地，所述密纹区和疏纹区均呈条纹状。进一步地，所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种。进一步地，所述基材层的厚度为50-200μm。进一步地，所述涂层的密纹区的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍。进一步地，所述涂层的疏纹区的最低处厚度b为磨料粒径的1-1.5倍。本技术的有益效果在于：本技术的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的工件磨屑又可以通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象，实用性高。附图说明图1是本技术所述涂层的结构示意图；图2是本技术的局部截面剖视图。附图标记为：1—基材层、2—涂层、21—密纹区、22—疏纹区。具体实施方式为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1-2对本技术作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本技术的限定。见图1-2，一种具有特殊结构的精密抛光膜，包括基材层1和设置于所述基材层1表面的涂层2，所述涂层2中分布有磨料，所述涂层2包括间隔设置的密纹区21和疏纹区22，所述密纹区21的磨料分布密度大于疏纹区22的磨料分布密度。本实施例的精精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区21和疏纹区22的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的工件磨屑又可以通过疏纹区22导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，实用性高。进一步的，所述涂层远离基材层1的一面(或上表面)呈波浪状，所述密纹区21位于波峰处，所述疏纹区22位于波谷处。本实施例中，相邻的密纹区21与疏纹区22的间隔距离为20-200μm，使得密纹区21与疏纹区22的间隔均匀，从截面呈波浪状，其截面高度相对较高的密纹区21能对工件进行较强的打磨效果，而疏纹区22则对工件进行相对较弱的打磨，通过强弱打磨设置，能对工件均匀打磨，避免工件表面的刮伤现象，打磨效率较高。本实施例中，所述密纹区21的磨料分布密度与疏纹区22的磨料分布密度之比为10-50:1，通过严格控制磨料在密纹区21和疏纹区22的分布密度，密度相对较大的密纹区21能对工件进行较强的打磨效果，而疏纹区22则对工件进行相对较弱的打磨，通过强弱打磨设置，能对工件均匀打磨，避免工件表面的刮伤现象，打磨效率较高。本实施例中，所述密纹区21和疏纹区22均呈条纹状，结构简单，使得抛光膜易于制备成型，磨料的分布密度易于控制，疏密间隔易于控制，打磨效率较高，实用性高。本实施例中，所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种，强度高，分散性好，易于分散在涂料中，易于形成疏密纹结构，能对工件进行均匀的打磨，实用性高。本实施例中，所述基材层1的厚度为50-200μm。本实施例中，所述涂层2的密纹区21的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍。本实施例中，所述涂层2的疏纹区22的最低处厚度为磨料粒径的1-1.5倍。本实施例通过严格控制基材层1、密纹区21和疏纹区22的厚度，使制得的涂层2的截面呈波浪状，厚度较大的密纹区21对工件进行较强的打磨，厚度相对较小的疏纹区22对工件进行较弱的打磨，强弱打磨间隔进行，能提高对工件表面的抛光打磨效果，避免出现划伤、凹痕等现象，且打磨效率高，实用性高。具体地，所述基材层1的厚度为50μm、100μm、120μm、150μm或200μm；所述涂层2的密纹区21的最高处厚度a为磨料粒径的1.5倍、2倍、2.5倍或3倍；所述涂层2的疏纹区22的最低处厚度b为磨料粒径的1倍、1.2倍、1.3倍或1.5倍。而当密纹区21的最高处厚度a为磨料粒径的1.5倍时，疏纹区22的最低处厚度b并不为磨料粒径的1.5倍，即密纹区21的厚度a与疏纹区22的厚度b并不相等，以形成波浪状。上述实施例为本技术较佳的实现方案，除此之外，本技术还可以其它方式实现，在不脱离本技术构思的前提下任何显而易见的替换均在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。


2.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm。


3.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1。


4.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：方红，张航海，卞振伟，
申请(专利权)人：东莞金太阳研磨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44