一种保持环制造技术

本发明专利技术涉及一种保持环，所述保持环包括第一环和第二环；所述第一环和第二环的粘结部进行喷砂处理；喷砂处理后所述第一环粘结部的粗糙度Ra为4‑8μm；喷砂处理后所述第二环粘结部的粗糙度Ra为4‑8μm。本发明专利技术中，通过保持环中粘结部位的喷砂处理，对喷砂后的粘结部的粗糙度进行了严格限制，以解决使用时产生的掉粒和脱胶问题，同时显著的提高了保持环的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种保持环
本专利技术涉及化学机械抛光
，尤其涉及一种保持环。
技术介绍
目前，晶圆在抛光时容纳在抛光头上的保持环之中，保持环起着容纳和定位晶圆的作用。在抛光过程中，抛光液和去离子水不断的与保持环接触，因此保持环需要具有一定的耐腐蚀性。如CN205734411U公开了一种CMP系统和一种用于抛光系统的保持环。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。CN101934495A公开了一种嵌入式化学机械抛光用的保持环，刚性环为轴向截面是矩形或正方形的圆环，弹性环上表面的环形凹槽与刚性环直径相同，轴向截面的形状和大小都相同，采用嵌入式粘接的方式将保持环的刚性环嵌入弹性环的环形凹槽内，并用粘接剂粘接。本专利技术的优点在于不仅增加了粘接面积，提高了粘接强度，而且由于粘接剂填埋在环形凹槽内，粘接缝不在保持环的侧面，使用时避免了与外界的去离子水、抛光液等化学物质直接接触，防止对粘接剂的腐蚀，延长了保持环的使用寿命。本专利技术安装在化学机械抛光设备的抛光头上，起着容纳和定位晶圆的作用，适用于化学机械抛光。CN209425232U公开了一种新型保持环，包括一保持环，保持环的上表面设有至少三个呈倾斜设置的第一条状凹槽，保持环的下表面设有至少三个螺栓孔；保持环包括一不锈钢制成的环状体，环状体的外侧包裹有一塑料层。本技术通过此设计，提供了一种新型保持环，通过不锈钢制成的环状体外包裹塑料层，环状体的表面设有多个条状凹槽，在通过注塑机进行注塑后，塑料层与环状体之间的连接更稳定，加强了结构强度，提高了使用寿命，同时降低了生产成本。然而现有技术中刚性环和弹性环之间因缝较大使用时产生掉粒和脱胶现象，严重影响保持环的使用寿命。
技术实现思路
鉴于现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种保持环，解决了使用时产生的掉粒和脱胶问题，显著的提高了保持环的使用寿命。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：本专利技术提供了一种保持环，所述保持环包括第一环和第二环；所述第一环为粘结部经过喷砂处理的第一环；所述第二环为粘结部经过喷砂处理的第二环；所述第一环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm；所述第二环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm。本专利技术中，通过保持环中粘结部位的喷砂处理，对喷砂后的粘结部的粗糙度进行了严格限制，以解决使用时产生的掉粒和脱胶问题，同时显著的提高了保持环的使用寿命。本专利技术中，喷砂处理后所述第一环粘结部的粗糙度Ra为4-8μm，例如可以是4μm、5μm、6μm、7μm或8μm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。本专利技术中，喷砂处理后所述第二环粘结部的粗糙度Ra为4-8μm，例如可以是4μm、5μm、6μm、7μm或8μm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本专利技术优选的技术方案，所述第一环包括依次设置的第一环形凹台阶和第二环形凹台阶。所述第一环形凹台阶的台阶面和侧面以及第二环形凹台阶的侧面为第一环的粘结部。优选地，所述第一环形凹台阶的侧面深度为0.1-0.15mm，例如可以是0.1mm、0.11mm、0.12mm、0.13mm、0.14mm或0.15mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述第二环形凹台阶的侧面深度为3.5-4mm，例如可以是3.5mm、3.6mm、3.7mm、3.8mm、3.9mm或4mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述第一环的材质包括不锈钢。作为本专利技术优选的技术方案，所述第二环的粘结部为环形凸台阶。优选地，所述第二环的材质包括PPS塑料。本专利技术中，通过对保持环中粘结部的合理设置强化了粘结强度，并提高了保持环的使用寿命。作为本专利技术优选的技术方案，所述环形凸台阶的台阶面上设置有燕尾槽。优选地，所述燕尾槽等间距设置。优选地，所述燕尾槽的最小间距为2-3mm，例如可以是2mm、2.1mm、2.2mm、2.3mm、2.4mm、2.5mm、2.6mm、2.7mm、2.8mm、2.9mm或3mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述燕尾槽至少设置3个，例如可以是3个、4个或5个等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述燕尾槽的深度为0.3-0.5mm，例如可以是0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm或0.5mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述燕尾槽的最大宽度为4-4.5mm，例如可以是4.1mm、4.3mm或4.5mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述燕尾槽的最小宽度为3.6-3.8mm，例如可以是3.6mm、3.65mm、3.7mm、3.75mm或3.8mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。优选地，所述环形凸台阶的侧面高度为所述第一环形凹台阶中侧面深度和所述第二环形凹台阶中侧面深度的和。优选地，所述环形凸台阶和所述第二环形凹台阶相配合。优选地，所述第一环形凹台阶中台阶面的宽度小于所述环形凸台阶中台阶面的宽度。作为本专利技术优选的技术方案，所述喷砂处理中的砂粒为白刚玉。作为本专利技术优选的技术方案，所述喷砂处理中喷枪和样品间的距离为80-100mm，例如可以是80mm、85mm、90mm、95mm或100mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本专利技术优选的技术方案，所述喷砂处理开始时砂的加入量为2.5-3.5kg，例如可以是2.5kg、3kg或3.5kg等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本专利技术优选的技术方案，所述喷砂处理中砂粒的为24#或46#砂粒。作为本专利技术优选的技术方案，所述喷砂处理中的压力为0.35-0.4MPa，例如可以是0.35MPa、0.36MPa、0.37MPa、0.38MPa、0.39MPa或4MPa等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本专利技术优选的技术方案，所述保持环包括第一环和第二环；所述第一环为粘结部经过喷砂处理的第一环；所述第二环为粘结部经过喷砂处理的第二环；所述第一环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm；所述第二环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm；其中，所述第一环包括依次设置的第一环形凹台阶和第二环形凹台阶；所述第一环形凹台阶的台阶面和侧面以及第二环形凹台阶的侧面为第一环的粘结部；所述第一环形凹台阶的侧面深度为0.1-0.15m本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种保持环，其特征在于，所述保持环包括第一环和第二环；/n所述第一环为粘结部经过喷砂处理的第一环；/n所述第二环为粘结部经过喷砂处理的第二环；/n所述第一环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm；/n所述第二环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm。/n

【技术特征摘要】
1.一种保持环，其特征在于，所述保持环包括第一环和第二环；
所述第一环为粘结部经过喷砂处理的第一环；
所述第二环为粘结部经过喷砂处理的第二环；
所述第一环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm；
所述第二环经过喷砂处理的粘结部的粗糙度Ra为4-8μm。


2.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，所述第一环包括依次设置的第一环形凹台阶和第二环形凹台阶；
优选地，所述第一环形凹台阶的台阶面和侧面以及第二环形凹台阶的侧面为第一环的粘结部；
优选地，所述第一环形凹台阶的侧面深度为0.1-0.15mm；
优选地，所述第二环形凹台阶的侧面深度为3.5-4mm；
优选地，所述第一环的材质包括不锈钢。


3.如权利要求1或2所述的保持环，其特征在于，所述第二环的粘结部为环形凸台阶；
优选地，所述第二环的材质包括PPS塑料。


4.如权利要求3所述的保持环，其特征在于，所述环形凸台阶的台阶面上设置有燕尾槽；
优选地，所述燕尾槽等间距设置；
优选地，所述燕尾槽的最小间距为2-3mm；
优选地，所述燕尾槽至少设置3个；
优选地，所述燕尾槽的深度为0.3-0.5mm；
优选地，所述燕尾槽的最大宽度为4-4.5mm；
优选地，所述燕尾槽的最小宽度为3.6-3.8mm；
优选地，所述环形凸台阶的侧面高度为所述第一环形凹台阶中侧面深度和所述第二环形凹台阶中侧面深度的和；
优选地，所述环形凸台阶和所述第二环形凹台阶相配合；
优选地，所述第一环形凹台阶中台阶面的宽度小于所述环形凸台阶中台阶面的宽度。


5.如权利要求1-4任一项所述的保持环，其特征在于，所述喷砂处理中的砂粒为白刚玉。


6.如权利要求1-5任一项所述的保持环，其特征在于，所述喷砂处理中喷枪和样品间的距离为80-100...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，边逸军，王学泽，章丽娜，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33