偏光板及包含其的图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例提供一种偏光板，其包含偏振片以及形成于上述偏振片的至少一面的保护基材，上述保护基材包含保护膜和阻挡层的层叠体，上述阻挡层包含特定重复单元。由此，水分透过度低，并且能够在常温、高湿或高温、高湿条件下显著防止偏光板的弯曲，有效防止漏光发生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏光板及包含其的图像显示装置
本专利技术涉及偏光板及包含其的图像显示装置。
技术介绍
图像显示装置可以包含显示器面板和分别形成于上述显示器面板的两面的偏光板。偏光板可以包含偏振片和分别形成于偏振片的两面的保护膜。偏光板在高温和高湿下随着外部的水分向偏振片内部渗透，偏光板的耐久性可能降低，且偏振片的耐擦伤性可能降低。另一方面，近年来随着显示装置的薄型化趋势加快，为了减小偏光板的厚度，开发了仅在偏振片的一面具备保护膜，在相反面没有保护膜地直接形成粘着层的单面型偏光板。但是，如上所述在偏振片直接形成粘着层的单面型偏光板的情况下，如果使ITO膜等之类的透明导电膜电极等附着于处理后的显示装置面板，则水分透过度高而附着于偏振片的碘等会溶出，从而存在使ITO膜等之类的透明导电膜电极腐蚀的问题，该情况下，存在面板上可见斑纹的问题。韩国公开专利第2010-0018462号公开了偏光板及包含其的光学显示装置，但在解决上述问题方面仍存在局限。
技术实现思路
技术课题本专利技术的实施例的偏光板包含形成于偏振片上的含有具备特定重复单元的阻挡层的保护膜，从而朝向偏振片的水分透过度低，并且能够在常温、高湿或高温、高湿条件下显著防止偏光板的弯曲，防止漏光发生。此外，本专利技术的实施例的偏光板的相位差变化小而能够显著减少莫尔条纹发生。解决课题的方法1.一种偏光板，其包含偏振片以及形成于上述偏振片的至少一面的保护基材，上述保护基材包含保护膜和阻挡层的层叠体，上述阻挡层包含以下化学式1所表示的重复单元，[化学式1](式中，R1和R2各自独立地为氢或碳原子数1至6的烷基，n为10至1,000,000的整数)。2.如上述1所述的偏光板，上述阻挡层在80℃时的储能模量为500至2,000MPa。3.如上述1所述的偏光板，上述保护膜在相对湿度90％和温度40℃下在24小时之后测定的水分透过度为5至50g/m2·天。4.如上述1所述的偏光板，上述阻挡层的厚度为0.05nm至5μm。5.如上述1所述的偏光板，上述保护膜以上述阻挡层与上述偏振片相对的方式配置，且在上述偏振片和上述阻挡层之间进一步插入有粘接剂层。6.一种偏光板，其包含偏振片以及分别形成于上述偏振片的两面的第一保护膜和第二保护膜，上述第一保护膜配置于可见侧且其一面附着有阻挡层，上述阻挡层包含以下化学式1所表示的重复单元，[化学式1](式中，R1和R2各自独立地为氢或碳原子数1至6的烷基，n为10至1,000,000的整数)。7.如上述6所述的偏光板，上述阻挡层在80℃时的储能模量为500至2,000MPa。8.如上述6所述的偏光板，其进一步包含介于上述偏振片和上述第一保护膜之间的第一粘接剂层以及介于上述偏振片和上述第二保护膜之间的第二粘接剂层。9.如上述8所述的偏光板，上述阻挡层以与上述偏振片相对的方式配置，且在上述偏振片和上述阻挡层之间插入有上述第一粘接剂层。10.如上述8所述的偏光板，上述第一粘接剂层由包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇系树脂、乙二醛系交联剂和两种以上的多价金属离子的水溶性盐的第一粘接剂组合物形成，上述第二粘接剂层由包含乙酰乙酰基改性聚乙烯醇系树脂和氮丙啶交联剂的第二粘接剂组合物形成。11.一种图像显示装置，其包含上述1至10中任一项所述的偏光板。专利技术效果本专利技术的实施例的偏光板包含具备特定重复单元的阻挡层，从而朝向偏振片的水分透过度低，并且能够在常温、高湿或高温、高湿条件下显著防止偏光板的弯曲，防止漏光发生。此外，本专利技术的实施例的偏光板的相位差变化小而能够显著减少莫尔条纹发生。附图说明图1是用于说明例示性实施例的偏光板的概略性截面图。图2是用于说明例示性实施例的偏光板的概略性截面图。具体实施方式本专利技术的实施例提供一种偏光板，其包含偏振片以及形成于上述偏振片的至少一面的保护基材，上述保护基材包含保护膜和阻挡层的层叠体，上述阻挡层包含特定重复单元。由此，水分透过度低，并且能够在常温、高湿或高温、高湿条件下显著防止偏光板的弯曲，有效防止漏光发生。以下，参照附图来更加具体说明本专利技术的实施例。但是，本说明书中随附的以下附图例示本专利技术的优选的实施例，起到与前述的
技术实现思路
一起使本专利技术的技术思想得到进一步理解的作用，因此本专利技术不应当仅限定于这样的附图中所记载的事项来解释。另一方面，关于附加于各个附图的构成要素的参考符号，对于实质相同的构成要素，即使表示在不同的附图上，也会使用相同或类似的参考符号。此外，在说明本专利技术时，如果认为对于相关的公知构成或功能的具体说明可能会混淆本专利技术的要旨，则会省略对其详细说明。<偏光板>图1是用于说明例示性实施例的偏光板的概略性截面图。参照图1，实施例的偏光板包含偏振片10和保护基材20。<偏振片>本专利技术的一实施方式中，偏振片10是二向色性色素在聚乙烯醇系膜上吸附取向而成的。构成偏振片10的聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯以外，还可以举出乙酸乙烯酯与能够与其共聚的其他单体的共聚物等。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，可以举出不饱和羧酸系、不饱和磺酸系、烯烃系、乙烯基醚系、具有铵基的丙烯酰胺系单体等。此外，聚乙烯醇系树脂也可以为改性后的树脂，例如，可以使用由醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛或聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85至100摩尔％，优选为98摩尔％以上。此外，聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1,000至10,000，优选为1,500至5,000。将这样的聚乙烯醇系树脂形成为膜后可以作为偏振片的原膜来使用。聚乙烯醇系树脂的膜形成方法没有特别限制，可以利用公知的方法。聚乙烯醇系原膜的膜厚度没有特别限制，例如，可以为10至150μm。偏振片10通常经由如下工序来制造：将如上所述的聚乙烯醇系膜单轴拉伸的工序；利用二向色性色素染色而使其吸附的工序；利用硼酸水溶液处理的工序；以及水洗、干燥的工序。将聚乙烯醇系膜单轴拉伸的工序可以在染色前实施，也可以与染色的同时实施，还可以在染色后实施。在染色后实施单轴拉伸的情况下，可以在硼酸处理前实施，也可以在硼酸处理中实施。当然，也可以以这些多个步骤来实施单轴拉伸。单轴拉伸中，可以利用圆周速度不同的辊或热辊。此外，单轴拉伸可以为在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以为在利用溶剂使其溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。拉伸比通常为3至8倍。将拉伸后的聚乙烯醇系膜利用二向色性色素染色的工序例如可以利用将聚乙烯醇系膜浸渍于含有二向色性色素的水溶液的方法。作为二向色性色素，利用碘或二向色性染料。此外，聚乙烯醇系膜优选在染色前预先浸渍于水中进行溶胀。在利用碘作为二向色性色素的情况下，通常可以利用将聚乙烯醇系膜浸渍于含有碘和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏光板，其包含：/n偏振片；以及/n形成于所述偏振片的至少一面的保护基材，/n所述保护基材包含保护膜和阻挡层的层叠体，/n所述阻挡层包含以下化学式1所表示的重复单元，/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180102 KR 10-2018-00001911.一种偏光板，其包含：
偏振片；以及
形成于所述偏振片的至少一面的保护基材，
所述保护基材包含保护膜和阻挡层的层叠体，
所述阻挡层包含以下化学式1所表示的重复单元，
[化学式1]



式中，R1和R2各自独立地为氢或碳原子数1至6的烷基，n为10至1,000,000的整数。


2.根据权利要求1所述的偏光板，所述阻挡层在80℃时的储能模量为500至2,000MPa。


3.根据权利要求1所述的偏光板，所述保护基材在相对湿度90％和温度40℃下在24小时之后测定的水分透过度为5至50g/m2·天。


4.根据权利要求1所述的偏光板，所述阻挡层的厚度为0.05nm至5μm。


5.根据权利要求1所述的偏光板，所述保护膜以所述阻挡层与所述偏振片相对的方式配置，
在所述偏振片和所述阻挡层之间进一步插入有粘接剂层。


6.一种偏光板，其包含：
偏振片；以及
分别形成于所述偏振片的两面的第一保...

【专利技术属性】
技术研发人员：金孝东，朴旼奎，赵天熙，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR