【技术实现步骤摘要】
一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置
本技术涉及真空镀膜
,尤其涉及一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置,应用于功能性及装饰性材料镀膜等领域的圆柱磁控溅射靶的磁芯装置。
技术介绍
圆柱磁控溅射靶是真空镀膜机的重要组成部件,目前各厂家应用的圆柱磁控溅射靶磁场的两端都是有相同磁钢磁通量的磁钢组成,导致两端端头处刻蚀的其他部位严重,从而影响靶材的利用率偏低,而且单支圆柱溅射靶的辉光跑道为一道闭环光环,使得沉积速率较低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置,具有提高靶材利用率,提升靶材沉积速率,缩短了镀膜时间,从而提升整个真空镀膜过程的生产效率。为实现上述目的,本技术采用以下技术方案:一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置,包括圆柱靶靶材以及磁芯,所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢,其特征在于,所述磁钢座上设置6个垂直平面;进一步地,所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的长条形强磁钢;进一步地,所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形强磁钢为异性极性排列N-S-N或S-N-S;进一步地,所述磁钢座两端横面各安装有3个弱磁的扇形磁钢。进一步地,所述各条长条形强磁钢的两端开头位置分别设置有1条长条形弱磁钢,所述长条形弱磁钢的磁场强度为所述长条形强磁钢磁场强度的40-50%。进一步地,所述弱磁的扇形磁钢与所述长条形弱磁钢的磁场强度相同.进一步地,所述6条长条形强磁钢为3条S极性和3条N极性的长条形强磁钢,进一 ...
【技术保护点】
1.一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置,包括圆柱靶靶材以及磁芯,所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢,其特征在于,所述磁钢座上设置6个垂直平面;/n所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的所述长条形强磁钢;/n所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形磁钢为异性极性排列N-S-N或S-N-S;/n所述磁钢座两端横面各安装有3个弱磁的所述扇形磁钢。/n
【技术特征摘要】
1.一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置,包括圆柱靶靶材以及磁芯,所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢,其特征在于,所述磁钢座上设置6个垂直平面;
所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的所述长条形强磁钢;
所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形磁钢为异性极性排列N-S-N或S-N-S;
所述磁钢座两端横面各安装有3个弱磁的所述扇形磁钢。
2.根据权利要求1所述的一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置,其特征在于,所述各条长条形强磁钢的两端开头位置分别设置有1条长条形弱磁钢,所述长条形弱磁钢的磁场强度为所述长条形强磁钢磁场强度的40-50%。
3.根据权利要求2所述的一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置,其特征在于,所述弱磁的扇形磁钢与所述长条形弱磁钢的磁场强度相同。
4.根据权利要求1所述的一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置,其特征在于,所述6条长条形强磁钢为3条S极性...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:北京实力源表面技术有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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