显示设备制造技术

一种显示设备，其具备：显示部(DA)；第1堤(FB)，设置在比所述显示部更外侧；第2堤(SB)，设置在比所述第1堤更外侧；多个周边配线(TW1至TW3)，形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交；各周边配线包含多个弯曲区域(K1·K2)，所述多个弯曲区域在俯视下设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示设备技术区域本专利技术涉及一种显示设备。
技术介绍
在专利文献1中公开了一种在包含发光元件的基板上，以喷墨法涂布密封材料的技术。现有技术文件专利文献专利文献1：日本国公开专利公报「特开2017-174607号公报(2017年9月28日公开)」
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在使用喷墨法等的涂布法来将密封膜形成到包围显示部的边框区域的规定位置的情况下，液滴沿着由边框区域的周边配线引起的凹凸流向外侧，存在超过规定位置的风险。解决问题的手段本专利技术的一方面所涉及的显示设备，包含：显示部，其包含多个发光元件；第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，各周边配线包含多个弯曲区域，在俯视观察时，所述多个弯曲区域设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。专利技术效果根据本专利技术的一方面，降低形成在周边配线的上层的密封膜超过第2堤的风险。附图说明图1是表示显示设备的制造方法的一个例子的流程图。图2是表示显示设备的显示部的构成例的剖视图。图3是表示显示设备的构成例的平面图。图4的(a)是表示在第一实施方式中的区域XA的构成例的平面图，(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是表示第一实施方式的效果的剖视图。图5是表示第一实施方式的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b剖视图。图6是表示第一实施方式的进一步的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b剖视图。图7是表示第一实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，(c)是(b)的c-c剖视图。图8的(a)是表示在第二实施方式中的区域XA的构成例的平面图，(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是表示第二实施方式的效果的剖视图。图9是表示第二实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，(c)是(b)的c-c剖视图。图10的(a)是表示在第三实施方式中的区域XA的构成例的平面图，(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是(a)的c-c剖视图。图11的(a)是表示参考方式的平面图，(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是(a)的c-c剖视图。图12是表示第三实施方式的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b剖视图。图13是表示第三实施方式的进一步的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b剖视图。图14是表示第三实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，(c)是(b)的c-c剖视图。具体实施方式以下，「同层」指在同一个工序(成膜工序)中形成，「下层」指在比较对象的层之前的工序中形成，「上层」指在比较对象的层之后的工序中形成。图1是表示显示设备的制造方法的一个例子的流程图。图2是表示显示设备的显示部的剖视图。图3是表示显示设备的构成的平面图。在制造柔性显示设备的情况下，如图1～图3所示，首先，在透光性的支撑基板(例如为母玻璃基板)上形成树脂层12(步骤S1)。接下来，形成势垒层3(步骤S2)。接下来，形成TFT层4(步骤S3)。接下来，形成顶部发射型的发光元件层(例如为OLED元件层)5(步骤S4)。接下来，形成密封层6(步骤S5)。接下来，在密封层6上贴附上表面膜(步骤S6)。接下来，隔着支撑基板将激光向树脂层12的下表面照射，使支撑基板以及树脂层12之间的结合力降低，将支撑基板从树脂层12剥离(步骤S7)。接下来，将下表面膜10贴附在树脂层12的下表面(步骤S8)。接下来，分割包含下表面膜10、树脂层12、势垒层3、TFT层4、发光元件层5以及密封层6的层叠体，而获得多个单片(步骤S9)。接下来，将功能膜39贴附在已获得的单片上(步骤S10)。接下来，在设置在比显示部DA(参照图3)更外侧的边框区域NA的端子部44中安装电子电路基板(例如为IC芯片)50(步骤S11)。此外，后述的显示设备制造装置进行所述各步骤。作为树脂层12的材料，例如可以列举聚酰亚胺等，作为下表面膜10的材料，可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。势垒层3是防止水、氧等的异物到达TFT层4、发光元件层5的层，例如，能够由通过CVD法来形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氧氮化硅膜、或这些的层叠膜构成。TFT层4包含半导体膜15、比半导体膜15更上层的无机绝缘膜16(栅极绝缘膜)、比无机绝缘膜16更上层的栅极电极GE、比栅极电极GE更上层的无机绝缘膜18、比无机绝缘膜18更上层的电容配线CE、比电容配线CE更上层的无机绝缘膜20、比无机绝缘膜20更上层的源极配线SH以及比源极配线SH更上层的平坦化膜21(层间绝缘膜)。如图3所示，在包围显示部DA的边框区域NA中配置有驱动电路DRa·DRb以及端子部44，端子部44以及驱动DRa经由包含在区域XA的周边配线连接(在后面详述)，端子部44以及驱动DRb经由包含在区域XB的周边配线连接。驱动电路DRa·DRb可以是嵌入于TFT层4内的单片电路。例如由低温多晶硅(LTPS)或氧化物半导体构成半导体膜15，以包含半导体膜15、无机绝缘膜16、以及栅极电极GE的方式构成薄膜晶体管Tr(TFT)。在图2中，示出顶栅结构的薄膜晶体管Tr，但也可以是底栅结构。栅极电极GE、电容电极CE、源极配线SH、以及周边配线TW例如由包含铝(Al)、钨(W)、钼(Mo)、钽(Ta)、铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)中的至少一个的金属的单层膜或层叠膜构成。无机绝缘膜16·18·20，例如可以由通过CVD法来形成的氧化硅(SiOx)膜或氮化硅(SiNx)膜或这些的层叠膜构成。平坦化膜21可以由例如聚酰亚胺、丙烯酸等的可以涂布的感光性有机材料构成。如图3所示，在边框区域NA中设置有包围显示部DA以及其两侧的驱动电路DRa·DRb的第1堤FB和包围第1堤FB的第2堤SB。第1堤FB以及第2堤SB例如形成在与平坦化膜21同一层(以相同工序)。发光元件层5(例如为有机发光二极层)包含比平坦化膜21更上层的阳极22、覆盖阳极22的边缘的绝缘性的阳极覆盖膜23、比阳极22更上层的EL(电致发光)层24以及比EL层24更上层的阴极25，在每个子像素中设有包含岛状的阳极22、EL层24、以及阴极25的发光元件ED(例如为OLED：有机发光二极管)、和驱动该发光元件ED的子像素电路。阳极覆盖膜23例如可以由聚酰亚胺、丙烯酸等的可以涂布的感光性有机材料构成。EL层24例如通过从下层侧起依次层叠空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子传输层、电子注入层而构成。针对每个子像素，发光层通本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示设备，其具备：/n显示部，其包含多个发光元件；/n第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；/n第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；以及/n多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，/n各周边配线包含多个弯曲区域，所述多个弯曲区域在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示设备，其具备：
显示部，其包含多个发光元件；
第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；
第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；以及
多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，
各周边配线包含多个弯曲区域，所述多个弯曲区域在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。


2.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
各周边配线是在俯视时穿过所述第1堤以及所述第2堤之间的部分为曲柄形状。


3.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
各周边配线包含杆部以及从所述杆部突出的枝部，所述杆部以及所述枝部的交点构成所述弯曲区域，
所述杆部以及所述枝部在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。


4.根据权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
相邻的两个周边配线的一方的枝部和另一方的枝部互相交替地配置。


5.一种显示设备，其具备：
显示部，其包含多个发光元件；
第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；
第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；以及
多个周边配线，形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，
在所述第1堤以及所述第2堤间设有厚度比所述第1堤薄的堤间绝缘膜，所述堤间绝缘膜与所述多个周边配线重叠。


6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：越智久雄，妹尾亨，高桥纯平，园田通，越智贵志，平濑刚，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP