一种450nm的激光打标机制造技术

技术编号:25221602 阅读:61 留言:0更新日期:2020-08-11 23:11
本实用新型专利技术属于激光打标机技术领域,具体涉及一种450nm的激光打标机。其技术方案为:一种450nm的激光打标机,包括依次设置的半导体激光器、扩束镜、激光扫描器、聚焦扫描场镜,扩束镜包括基体,基体内安装有双凹透镜,壳体上连接有丝杠螺母机构,丝杠螺母机构上连接有镜筒,镜筒内安装有弯月透镜和双凸透镜,弯月透镜位于双凸透镜和双凹透镜之间。本实用新型专利技术提供了一种可精确调节激光光斑大小的450nm的激光打标机。

【技术实现步骤摘要】
一种450nm的激光打标机
本技术属于激光打标机
,具体涉及一种450nm的激光打标机。
技术介绍
激光打标机是用激光束在各种不同的物质表面打上永久的标记,打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质,从而刻出精美的图案、商标和文字,激光打标机主要分为,CO2激光打标机,半导体激光打标机、光纤激光打标机和YAG激光打标机,目前激光打标机主要应用于一些要求更精细、精度更高的场合。专利申请号为CN201721524057.7的技术专利公布了一种新型自动激光打标机,包括激光打标机本体、伸缩杆和光纤激光器,所述激光打标机本体的内部靠近转轴外部位置处套接有大齿轮,且激光打标机本体的内部靠近支架一侧位置处设置有伺服电机,所述伸缩杆嵌入安装在支撑杆的内部,所述固定杆的内部设置有电动液压杆。本技术设置伸缩杆,能便于使用者对被打标构件进行固定,使用者将卡位凸起放入相应的通孔内,从而可以便于使用者根据被打标物体的大小来改变伸缩杆的长度,设置电动液压杆,能便于使用者对激光打标机本体进行升高和降低,避免了人力进行调节的繁琐性,设置伺服电机,能便于使用者对工作台进行旋转,便于使用者对物件进行旋转打标。455nm半导体能产生功率比较大的单管的激光能量。455nm的光源介于紫外和106波长的属性,可以应用于学习,包装,木材,喷涂上面的激光标记,因为光源聚焦性能的原因,不可能聚焦的很细,所以仅别适合大字符的激光标记。现有的激光打标机无法精确调节激光光斑的大小,所以无法进行较小字符的激光标记。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的上述问题,本技术目的在于提供一种可精确调节激光光斑大小的450nm的激光打标机。本技术所采用的技术方案为:一种450nm的激光打标机,包括依次设置的半导体激光器、扩束镜、激光扫描器、聚焦扫描场镜,扩束镜包括基体,基体内安装有双凹透镜,壳体上连接有丝杠螺母机构,丝杠螺母机构上连接有镜筒,镜筒内安装有弯月透镜和双凸透镜,弯月透镜位于双凸透镜和双凹透镜之间。优选地,所述丝杠螺母机构包括转动环,转动环与基体可转动连接,转动环与镜筒螺纹连接。优选地,所述半导体激光器包括激光器主体,激光器主体内安装有半导体驱动PCB板和半导体,半导体驱动PCB板和半导体电连接。优选地,所述聚焦扫描场镜包括场镜壳体,场镜壳体内依次设置有第一聚焦弯月透镜、第二聚焦弯月透镜、聚焦双凸透镜。优选地,所述激光扫描器上分别连接有X轴电机和Y轴电机。优选地,本技术还包括驱动系统,驱动系统内设置有X轴驱动单元、Y轴驱动单元和显示系统,X轴驱动单元与X轴电机电连接,Y轴驱动单元与Y轴电机电连接。优选地,本技术还包括电池系统,半导体激光器驱动系统分别与电池系统电连接,电池系统内分别设置有电池保护电路和电压转换电路。本技术的有益效果为:1.本技术的扩束镜可调节发散角,使得激光光斑的大小能够精确调节。半导体激光器发出的激光经过扩束镜后,通过激光扫描器,再经低焦距的扫描场镜后,可以打出各种字符图案。经扩束镜调节后,激光光斑可调到更小,从而本技术可应用于达标更小的字符。调节扩束镜时,转动镜筒,则镜筒相对于丝杠螺母螺旋移动,则弯月透镜和双凸透镜相对于双凹透镜的距离改变,实现发散角的调节,从而调节激光光斑大小,方便操作。2.调节扩束镜时,只需要转动转动环,镜筒能相对于转动环螺旋移动。转动环仅相对于基体转动,不会相对于基体直线移动,则镜筒的移动距离能精确调节。镜筒的位置精确调节后,发散角得到精确调节,则激光光斑的大小得到精确调节。3.半导体驱动PCB板能驱动半导体发出450nm的激光,则光源得到可靠且稳定的输出。半导体发出的激光能进入扩束镜中,并经过扩束镜内的双凹透镜。在调节扩束镜后,激光光束的发散角得到精确调节。4.经过激光扫描器后的激光能准确进入聚焦扫描场镜中,激光在聚焦扫描场镜的场镜壳体内依次经过第一聚焦弯月透镜、第二聚焦弯月透镜、聚焦双凸透镜,使得激光能准确聚焦到焦平面上。激光经过聚焦扫描场镜后,得到准确聚焦,保证经扩束镜调节发散角后的激光能聚焦成确定大小的激光光斑。5.激光扫描器上分别连接X轴电机和Y轴电机,则X轴电机调节激光扫描器X轴方向的角度,Y轴电机调节激光扫描器Y轴方向的角度。经过X轴电机和Y轴电机调节后,激光扫描器能准确地将激光反射到聚焦扫描场镜内,保证光路的准确。6.X轴驱动单元能驱动X轴电机动作,Y轴驱动单元能驱动Y轴电机动作,保证激光扫描器调节到合适。显示系统能实时显示X轴电机和Y轴电机对激光扫描器的调节情况,方便观察并进行准确调节。7.本技术的激光扫描器很小,使得本技术整体体积较小,且可用电池系统供电,方便携带。电池系统能分别为半导体激光器、驱动系统供电,保证本技术可靠运行。电池系统内设置有电压转换电路,保证电池系统输出电压满足要求。电池系统内设置有电池保护电路,保证电池安全。本技术的有益效果不限于此描述,为了更好的便于理解,在具体实施方式部分进行了更加详细的描述。本技术的附加优点、目的,以及特征将在下面的描述中将部分地加以阐述,且将对于本领域普通技术人员在研究下文后部分地变得明显,或者可以根据本技术的实践而获知。本技术的目的和其它优点可以通过在书面说明及其权利要求书以及附图中具体指出的结构实现到并获得。本领域技术人员将会理解的是,能够用本技术实现的目的和优点不限于以上具体所述,并且根据以下详细说明将更清楚地理解本技术能够实现的上述和其他目的。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术的结构示意图;图2是扩束镜的结构示意图;图3是半导体激光器的结构示意图;图4是聚焦扫描场镜的结构示意图。图中:1-半导体激光器;2-扩束镜;3-激光扫描器;4-聚焦扫描场镜;5-X轴电机;6-Y轴电机;8-电池系统;11-激光器主体;12-半导体驱动PCB板;13-半导体;14-风扇;21-基体;22-双凹透镜;23-丝杠螺母机构;24-镜筒;25-弯月透镜;26-双凸透镜;231-转动环;41-场镜壳体;42-第一聚焦弯月透镜;43-第二聚焦弯月透镜;44-聚焦双凸透镜;7-驱动系统;71-X轴驱动单元;72-Y轴驱动单元;73-显示系统。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中,需要理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种450nm的激光打标机,其特征在于:包括依次设置的半导体(13)激光器(1)、扩束镜(2)、激光扫描器(3)、聚焦扫描场镜(4),扩束镜(2)包括基体(21),基体(21)内安装有双凹透镜(22),壳体上连接有丝杠螺母机构(23),丝杠螺母机构(23)上连接有镜筒(24),镜筒(24)内安装有弯月透镜(25)和双凸透镜(26),弯月透镜(25)位于双凸透镜(26)和双凹透镜(22)之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种450nm的激光打标机,其特征在于:包括依次设置的半导体(13)激光器(1)、扩束镜(2)、激光扫描器(3)、聚焦扫描场镜(4),扩束镜(2)包括基体(21),基体(21)内安装有双凹透镜(22),壳体上连接有丝杠螺母机构(23),丝杠螺母机构(23)上连接有镜筒(24),镜筒(24)内安装有弯月透镜(25)和双凸透镜(26),弯月透镜(25)位于双凸透镜(26)和双凹透镜(22)之间。


2.根据权利要求1所述的一种450nm的激光打标机,其特征在于:所述丝杠螺母机构(23)包括转动环(231),转动环(231)与基体(21)可转动连接,转动环(231)与镜筒(24)螺纹连接。


3.根据权利要求1所述的一种450nm的激光打标机,其特征在于:所述半导体(13)激光器(1)包括激光器主体(11),激光器主体(11)内安装有半导体(13)驱动PCB板(12)和半导体(13),半导体(13)驱动PCB板(12)和半导体(13)电连接。

【专利技术属性】
技术研发人员:唐西磊唐东平汪德刚
申请(专利权)人:武汉汉双技术有限公司
类型:新型
国别省市:湖北;42

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