镀膜设备及其进料装置和应用制造方法及图纸

本发明专利技术提供了镀膜设备及其进料装置和应用，所述镀膜设备包括一反应腔体，其具有一反应腔，和至少一进料装置，其中所述进料装置连通所述反应腔体，其中所述进料装置包括至少一储料腔体，其具有用于密封储存反应原料的一储料腔，所述储料腔与所述反应腔相连通；至少一气缸，其具有用于储存工艺气体的一气压腔，其中所述气压腔与所述储料腔相连通；以及至少一控压组件，其中所述控压组件被安装于所述气缸，其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压，以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。

【技术实现步骤摘要】
镀膜设备及其进料装置和应用
本专利技术涉及镀膜领域，进一步涉及一镀膜设备及其进料装置和应用。
技术介绍
镀膜设备，用于在基材表面制备涂层或薄膜，以增强基材的表面性能。一种采用化学气相沉积技术的镀膜设备，包括进料装置和具有反应腔的反应腔体，其中该进料装置用于储存反应原料，该进料装置用于向该反应腔内通入反应原料，该反应腔内产生等离子体环境，使得反应原料在反应腔内进行化学气相沉积反应，从而在基材表面沉积成膜。在现有技术中，该进料装置使得反应原料与空气直接接触，导致反应原料易与空气气体成分发生反应，例如反应原料被氧化，吸水等，使得反应原料变质，反应原料纯度下降，从而影响镀膜效果，导致薄膜质量下降。对于密封储存反应原料的进料装置，随着已储存的反应原料的不断消耗，反应原料的储存量降低，该进料装置内的气压逐渐下降，使得剩余的反应原料难以被输出至反应腔内，从而影响镀膜进程。
技术实现思路
本专利技术的一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其中所述进料装置密封储存反应原料，避免反应原料接触空气而发生变质等，保证了反应原料进入所述镀膜设备的反应腔后的纯度，从而提高镀膜质量。本专利技术的另一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其中所述进料装置在输送反应原料至反应腔的过程中，所述进料装置内储存的反应原料始终隔绝空气，以保证镀膜质量。本专利技术的另一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其中所述进料装置通过可调控的气压压力控制出料。本专利技术的另一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其中所述进料装置的储料腔内的气压能够不低于在预设气压值，以避免因气压过低而难以输送反应原料至反应腔的情况发生。本专利技术的另一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其中所述进料装置的输送管路不易存留空气，以保证镀膜质量。本专利技术的另一个优势在于提供一镀膜设备及其进料装置和应用，其结构简单，实用性强，成本低。依本专利技术的一个方面，本专利技术进一步提供一镀膜设备，适用于在基材表面镀膜，包括：一反应腔体，其具有一反应腔；和至少一进料装置，其中所述进料装置连通于所述反应腔体，其中所述进料装置包括：至少一储料腔体，其具有用于密封储存反应原料的一储料腔，所述储料腔与所述反应腔相连通；至少一气缸，其具有用于储存工艺气体的一气压腔，其中所述气压腔与所述储料腔相连通；以及至少一控压组件，其中所述控压组件被安装于所述气缸，其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压，以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。在一些实施例中，所述控压组件包括一组调压元件，其中所述气缸具有一活塞元件，其中所述调压元件被安装于所述活塞元件，其中所述调压元件通过推动所述活塞元件以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。在一些实施例中，所述调压元件被可拆卸地安装于所述活塞元件的顶部，其中所述调压元件通过自身重力推动所述活塞元件。在一些实施例中，通过增加被安装于所述活塞元件的一组调压元件的重量或数量推动所述活塞元件。在一些实施例中，所述活塞元件包括一塞板和与所述塞板相连接的一塞杆，其中所述气缸具有一连通所述气压腔的通孔，其中所述塞板可活动地设置于所述气压腔，所述塞杆的自由端自所述塞板穿过所述通孔延伸至所述气压腔的外侧，所述调压元件被可拆卸地安装于所述塞杆的自由端。在一些实施例中，所述控压组件进一步包括一限位元件，其中所述限位元件被设置于限制所述调压元件至一限位位置，在所述限位位置，所述调压元件无法继续推动所述活塞元件。在一些实施例中，所述限位元件为行程开关或接近开关。在一些实施例中，所述限位元件为感应开关，其中所述气缸具有用于检测所述气压腔的气压的一气压传感器，其中所述气压传感器被电连接于所述限位元件，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述限位元件被触发以限制所述调压元件继续推动所述活塞元件。在一些实施例中，所述控压组件进一步包括一警报元件，其中所述警报元件被电连接于所述气压传感器，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述警报元件发出警报。在一些实施例中，所述进料装置进一步包括至少一输送管路，其中所述输送管路连通所述气压腔和所述储料腔，其中所述输送管路具有一进气口，其中所述进气口用于向所述气压腔通入工艺气体。在一些实施例中，所述输送管路包括相互连通的第一管路、第二管路和第三管路，其中所述第一管路连通所述气压腔，其中所述第二管路连通所述储料腔，其中所述第三管路具有所述进气口，其中所述输送管路进一步包括设置于所述第三管路的一进气阀。在一些实施例中，所述储料腔体包括连通所述储料腔的一出料管路和设置于所述出料管路的一出料阀。在一些实施例中，所述进气阀为电动阀。在一些实施例中，所述气缸具有用于检测所述气压腔的气压的一气压传感器，其中所述气压传感器被电连接于所述进气阀，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述进气阀开启。在一些实施例中，所述储料腔体具有被设置在其出料口的一出料阀，其中所述出料阀为电动阀，其中所述出料阀被电连接于所述气压传感器，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述出料阀关闭。在一些实施例中，所述镀膜设备进一步包括一抽气装置，其中所述抽气装置连通于所述输送管路，其中所述抽气装置用于抽出所述输送管路中存留的气体。在一些实施例中，所述镀膜设备包括多个互不连通的所述进料装置，其中所述镀膜设备进一步包括一充气管路，其中所述充气管路分别连通于各所述进料装置的所述第三管路的所述进气口，其中所述充气管路具有用于充入所述工艺气体的一充气口。在一些实施例中，其中所述储料腔体与所述气缸被布置在水平基准面上，其中所述气缸垂直安装于所述水平基准面。依本专利技术的另一个方面，本专利技术进一步提供一进料装置，适用于一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括具有一反应腔的一反应腔体，其中所述进料装置连通该反应腔体，其中所述进料装置包括：至少一储料腔体，其具有用于密封储存反应原料的一储料腔，所述储料腔与该反应腔相连通；至少一气缸，其具有用于储存工艺气体的一气压腔，其中所述气压腔与所述储料腔相连通；以及至少一控压组件，其中所述控压组件被安装于所述气缸，其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压，以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至该反应腔。在一些实施例中，所述进料装置进一步包括至少一输送管路，其中所述输送管路连通所述气压腔和所述储料腔，其中所述输送管路具有一进气口，其中所述进气口用于向所述气压腔通入工艺气体。在一些实施例中，其中所述输送管路包括相互连通的第一管路、第二管路和第三管路，其中所述第一管路连通所述气压腔，其中所述第二管路连通所述储料腔，其中所述第三管路具有所述进气口，其中所述输送管路进一步包括设置于所述第三管路的一进气阀。通过对随后的描述和附图的理解，本专利技术进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一镀膜设备，适用于在基材表面镀膜，其特征在于，包括：/n一反应腔体，其具有一反应腔；和/n至少一进料装置，其中所述进料装置连通于所述反应腔体，其中所述进料装置包括：/n至少一储料腔体，其具有用于密封储存反应原料的一储料腔，所述储料腔与所述反应腔相连通；/n至少一气缸，其具有用于储存工艺气体的一气压腔，其中所述气压腔与所述储料腔相连通；以及/n至少一控压组件，其中所述控压组件被安装于所述气缸，其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压，以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。/n

【技术特征摘要】
1.一镀膜设备，适用于在基材表面镀膜，其特征在于，包括：
一反应腔体，其具有一反应腔；和
至少一进料装置，其中所述进料装置连通于所述反应腔体，其中所述进料装置包括：
至少一储料腔体，其具有用于密封储存反应原料的一储料腔，所述储料腔与所述反应腔相连通；
至少一气缸，其具有用于储存工艺气体的一气压腔，其中所述气压腔与所述储料腔相连通；以及
至少一控压组件，其中所述控压组件被安装于所述气缸，其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压，以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。


2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中所述控压组件包括一组调压元件，其中所述气缸具有一活塞元件，其中所述调压元件被安装于所述活塞元件，其中所述调压元件通过推动所述活塞元件以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。


3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其中所述调压元件被可拆卸地安装于所述活塞元件的顶部，其中所述调压元件通过自身重力推动所述活塞元件。


4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其中所述活塞元件包括一塞板和与所述塞板相连接的一塞杆，其中所述气缸具有一连通所述气压腔的通孔，其中所述塞板可活动地设置于所述气压腔，所述塞杆的自由端自所述塞板穿过所述通孔延伸至所述气压腔的外侧，所述调压元件被可拆卸地安装于所述塞杆的自由端。


5.根据权利要求2至4任一所述的镀膜设备，其中所述控压组件进一步包括一限位元件，其中所述限位元件被设置于限制所述调压元件至一限位位置，在所述限位位置，所述调压元件无法继续推动所述活塞元件。


6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其中所述限位元件为行程开关或接近开关。


7.根据权利要求5所述的镀膜设备，其中所述限位元件为感应开关，其中所述气缸具有用于检测所述气压腔的气压的一气压传感器，其中所述气压传感器被电连接于所述限位元件，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述限位元件被触发以限制所述调压元件继续推动所述活塞元件。


8.根据权利要求7所述的镀膜设备，所述控压组件进一步包括一警报元件，其中所述警报元件被电连接于所述气压传感器，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述警报元件发出警报。


9.根据权利要求1至4任一所述的镀膜设备，所述进料装置进一步包括至少一输送管路，其中所述输送管路连通所述气压腔和所述储料腔，其中所述输送管路具有一进气口，其中所述进气口用于向所述气压腔通入工艺气体。


10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其中所述输送管路包括相互连通的第一管路、第二管路和第三管路，其中所述第一管路连通所述气压腔，其中所述第二管路连通所述储料腔，其中所述第三管路具有所述进气口，其中所述输送管路进一步包括设置于所述第三管路的一进气阀。


11.根据权利要求10所述的镀膜设备，其中所述储料腔体包括连通所述储料腔的一出料管路和设置于所述出料管路的一出料阀。


12.根据权利要求10所述的镀膜设备，其中所述进气阀为电动阀。


13.根据权利要求12所述的镀膜设备，其中所述气缸具有用于检测所述气压腔的气压的一气压传感器，其中所述气压传感器被电连接于所述进气阀，当所述气压传感器检测所述气压腔的气压低于预设阈值时，所述进气阀开启。


14.根据权利要求13所述的镀膜设备，其中所述储料腔体具有被设置在其出料口的一出料阀，其中所述出料阀为电动阀，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，陈大文，
申请(专利权)人：无锡荣坚五金工具有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32