用于处理基板的装置和方法制造方法及图纸

公开了一种基板处理装置，该基板处理装置包括：壳体，在所述壳体内具有处理空间；板，其在壳体中支撑基板；加热构件，其设置在板中并加热基板；电源，其向加热构件供应交流电力；和控制器，其使用从电源输出的交流电力来控制加热构件，其中，控制器通过交替地接通和断开用于控制加热构件的控制输入来控制基板的加热温度。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置和方法
本文描述的专利技术构思的实施方式涉及用于处理基板的装置和方法，并且更具体地，涉及用于通过调节用于控制加热构件的控制输入来稳定地控制基板的温度的基板处理装置和方法。
技术介绍
执行各种工艺，例如光刻、蚀刻、沉积、离子注入、清洁等，以制造半导体元件。在这些工艺之中，用于形成图案的光刻工艺在实现半导体元件的高密度集成方面起重要作用。光刻工艺包括涂布工艺、曝光工艺和显影工艺，并且在曝光工艺之前和之后执行烘焙工艺。烘焙工艺是对基板进行热处理的工艺。当将基板放置在加热板上时，通过设置在加热板中的加热器对基板进行热处理。通常，过零输出用于控制加热器，并且在控制输入接通的时间期间产生加热器的控制输出。现有技术中的加热器控制方法具有以下问题：接通或断开控制输出需要花费较多时间，因此在加热器中发生温度振动。另外，该加热器控制方法具有以下问题：通过控制输出使加热器集中到设定温度所花费的时间增加，并且加热器的温度控制性能劣化。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方式提供用于通过调节用于控制加热构件的控制输入来防止温度振动并改善加热器的温度控制性能的基板处理装置和方法。本专利技术构思要解决的技术问题不限于前述问题，并且本专利技术构思所属领域的技术人员由以下描述将清楚地理解本文中未提及的任何其他技术问题。根据示例性实施方式，一种基板处理装置包括：壳体，在所述壳体内具有处理空间；板，其在壳体中支撑基板；加热构件，其设置在板中并加热基板；电源，其向加热构件供应AC(交流)电力；和控制器，其使用从电源输出的AC电力来控制加热构件，其中，控制器通过交替地接通和断开用于控制加热构件的控制输入来控制基板的加热温度。控制器可以基于AC电力的频率来确定供应至加热构件的控制输入的接通时间。控制器可以根据AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间来确定控制输入的接通定时。控制器可以基于AC电力的频率来计算AC电力的单位脉冲时间。控制器可以使用AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间来计算AC电力的单位输出，并且当单位输出的总和大于或等于单位脉冲时间时，控制器可以将相应的时间点确定为控制输入的接通定时。控制器可以重复执行确定控制输入的接通定时的过程。控制器可以考虑采样时间来确定控制输入的接通定时。根据示例性实施方式，一种烘焙装置包括：壳体，在壳体内具有处理空间；板，其在壳体中支撑基板；加热构件，其设置在板中并加热基板；电源，其向加热构件供应AC电力；以及控制器，其使用从电源输出的AC电力控制加热构件，其中该控制器通过交替地接通和断开用于控制加热构件的控制输入并根据AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间确定控制输入的接通定时来控制基板的加热温度。控制器可以基于AC电力的频率来计算AC电力的单位脉冲时间。控制器可以使用AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间来计算AC电力的单位输出，并且当单位输出的总和大于或等于单位脉冲时间时，控制器可以将相应的时间点确定为控制输入的接通定时。控制器可以重复执行确定接通定时的过程。控制器可以考虑采样时间来确定控制输入的接通定时。根据示例性实施方式，一种通过控制设置在用于在室中支撑基板的板中的加热构件来处理基板的方法包括：通过交替地接通和断开用于控制加热构件的控制输入来控制基板的加热温度。可以将AC电力供应至加热构件，并且可以基于AC电力的频率来确定控制输入的接通时间。可以根据AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间来确定控制输入的接通定时。可以基于AC电力的频率来计算AC电力的单位脉冲时间。可以通过使用AC电力的输出比和AC电力的单位脉冲时间来计算AC电力的单位输出，并且当单位输出的总和大于或等于单位脉冲时间时，可以将对应的时间点确定为控制输入的接通定时。可以重复执行确定控制输入的接通定时的过程。可以考虑采样时间来确定控制输入的接通定时。附图说明通过以下参考以下附图的描述，上述及其他目的和特征将变得显而易见，其中，除非另外指明，否则贯穿各个附图，相同的附图标记指代相同的部分，并且其中：图1是当俯视时基板处理装置的视图；图2图示出当沿A-A方向观察时图1的基板处理装置；图3图示出当沿B-B方向观察时图1的基板处理装置；图4是图示出当沿C-C方向观察时图1的基板处理装置；图5是示出根据本专利技术构思的实施方式的烘焙单元的平面图；图6是示出根据本专利技术构思的实施方式的用于执行加热工艺的加热单元的截面图；图7和图8图示出根据本专利技术构思的实施方式的控制输入和控制输出的波形；和图9和图10是示出根据本专利技术构思的实施方式的基板处理方法的流程图。具体实施方式在下文中，将参考附图更详细地描述本专利技术构思的实施方式。可以对本专利技术构思的实施方式进行各种修改和变型，并且本专利技术构思的范围不应解释为限于这里阐述的实施方式。提供这些实施方式使得本公开将是透彻和完整的，并将向本领域技术人员充分传达本专利技术构思的范围。因此，在附图中，为了图示清楚起见，夸大了部件的形状。根据该实施方式的装置可以用于对诸如半导体晶片或平板显示面板的基板执行光刻工艺。特别地，根据该实施方式的装置可以连接至步进机，并且可以用于对基板执行涂布工艺和显影工艺。在下面的描述中，将例示将晶片用作基板。图1至图4是示出根据本专利技术构思的实施方式的基板处理装置的示意图。参考图1至图4，基板处理装置1包括装载端口100、转位模块200、第一缓冲模块300、涂布和显影模块400、第二缓冲模块500、曝光前/曝光后处理模块600和接口模块700。装载端口100、转位模块200、第一缓冲模块300、涂布及显影模块400、第二缓冲模块500、曝光前/曝光后处理模块600和接口模块700沿一个方向依次布置成行。在下文中，将装载端口100、转位模块200、第一缓冲模块300、涂布及显影模块400、第二缓冲模块500、曝光前/曝光后处理模块600和接口模块700布置的方向称为第一方向12。当俯视时垂直于第一方向12的方向被称为第二方向14，并且垂直于第一方向12和第二方向14的方向被称为第三方向16。基板W在被容纳在盒20中的状态下移动。盒20具有能够与外界隔绝的结构。例如，每个前部具有门的正面开口标准箱(FOUP)可以用作盒20。在下文中，将详细描述装载端口100、转位模块200、第一缓冲模块300、涂布及显影模块400、第二缓冲模块500、曝光前/曝光后处理模块600和接口模块700。装载端口100包括载置台120，在载置台120上放置各自在其中容纳有基板W的盒20。载置台120沿第二方向14布置成行。在图1中，设置了四个载置台120。转位模块200在放置在装载端口100的载置台120上的盒20和第一缓冲模块300之间传送基板W。转位模块200包括框架210、转位机械手本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：/n壳体，在所述壳体内具有处理空间；/n板，所述板被配置为在所述壳体中支撑所述基板；/n加热构件，所述加热构件设置在所述板中并被配置为加热所述基板；/n电源，所述电源被配置为向所述加热构件供应交流电力；和/n控制器，所述控制器被配置为使用从所述电源输出的所述交流电力来控制所述加热构件，其中，所述控制器通过交替地接通和断开用于控制所述加热构件的控制输入来控制所述基板的加热温度。/n

【技术特征摘要】
20181221 KR 10-2018-01677161.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：
壳体，在所述壳体内具有处理空间；
板，所述板被配置为在所述壳体中支撑所述基板；
加热构件，所述加热构件设置在所述板中并被配置为加热所述基板；
电源，所述电源被配置为向所述加热构件供应交流电力；和
控制器，所述控制器被配置为使用从所述电源输出的所述交流电力来控制所述加热构件，其中，所述控制器通过交替地接通和断开用于控制所述加热构件的控制输入来控制所述基板的加热温度。


2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述控制器基于所述交流电力的频率来确定供应至所述加热构件的所述控制输入的接通时间。


3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述控制器根据所述交流电力的输出比和所述交流电力的单位脉冲时间来确定所述控制输入的接通定时。


4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述控制器基于所述交流电力的所述频率来计算所述交流电力的所述单位脉冲时间。


5.根据权利要求3所述的装置，其中，所述控制器使用所述交流电力的所述输出比和所述交流电力的所述单位脉冲时间来计算所述交流电力的单位输出，并且当所述单位输出的总和大于或等于所述单位脉冲时间时，所述控制器将相应的时间点确定为所述控制输入的所述接通定时。


6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述控制器重复执行确定所述控制输入的所述接通定时的过程。


7.根据权利要求3至6中的任一项所述的装置，其中，所述控制器考虑到采样时间来确定所述控制输入的所述接通定时。


8.一种烘焙装置，包括：
壳体，在所述壳体中具有处理空间；
板，所述板被配置为在所述壳体中支撑所述基板；
加热构件，所述加热构件设置在所述板中并被配置为加热所述基板；
电源，所述电源被配置为向所述加热构件供应交流电力；和
控制器，所述控制器被配置为使用从所述电源输出的所述交流电力来控制所述加热构件，其中，所述控制器通过交替地接通和断开用于控制所述加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：李成龙，徐同赫，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR