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超精表面形貌测量仪制造技术

技术编号:2513225 阅读:175 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种新型的超精表面形貌测量仪,属长度计量技术领域。本测量仪由工作台、光源、反光棱镜、显微镜、光探测器、计算机和图象监测器组成。被测样品置于工作台上,并与测量棱镜的底面相接触。光源发出的入射光通过反光棱镜和测量棱镜后,进入显微镜,光探测器将显微镜的光强信号传递到计算机和图象监视器,即可算出被测样品表面的形貌分布。本仪器具有快速精确,抗干扰能力强等优点。(*该技术在2002年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种新型的超精表面形貌测量仪,属长度计量
表面形貌的测量对研究表面几何特性与使用性能的关系,以及提高加工表面的质量和产品的性能有着十分重要的意义。用光学方法测量表面形貌,由于可实现无损测量和评定,并且具有精度高速度快等优点,因此受到人们的广泛重视和普遍应用。目前应用最多的是Mirau分光路干涉显微镜。Mirau干涉显微镜的光路原理如图1所示,从光源发出的光束经显微物镜1后透过参考板2,被分光板3上的半透半反膜分成两路。一路透过分光板后由被测面4反射,经分光板和参考板后回到显微镜视场中,另一路被分光板反射到镀在参考板表面的小镜面5上,从小镜面上反射回的光束再次被分光板反射,然后穿过参考板到达显微镜视场,与第一路光束会合而发生干涉。利用干涉显微镜测量表面形貌,通常是通过测量干涉条纹的变形来间接确定表面粗糙度参数,这种分析方法的测量精度很低,一般在λ~λ/20之间(λ为光波波长)。Koliopoulos对Miran干涉显微镜进行了改进,将显微镜中的参考板固定在一块筒状压电陶瓷5上(如图2),图中4是被测表面,5是压电陶瓷,6是目镜,7是CCD面阵探测器,8是光源,9是物镜,通过计算机控制压电陶瓷驱动参考板沿光轴方向匀速移动,使参考光与测量光之间的相位差随时间作线性变化,因此干涉场上各点的干涉光强就在亮与暗之间作正弦变化,由于被测表面上各点的微观高度差异,使干涉场上相应点的干涉相位也有所不同。利用CCD面阵探测干涉场上各点的光强,用计算机将各点的光强测量数据拟合为正弦函数,通过比较各点正弦函数间的相位关系,就可获得被测表面形貌的高度分布数据。改进后的干涉显微镜是目前使用最广泛的一种用光学方法测量表面-->形貌的仪器,但是它还有以下不足之处:(1)对机械振动、大气扰动及温度变化的影响十分敏感,需配备气浮精密隔振平台,严格限定测量环境的工作条件。(2)光学系统复杂,成本高,(3)调整困难。本技术的目的是设计一种快速精确、抗干扰能力很强的表面形貌测量仪。本技术的内容是表面形貌测量仪,由工作台、光源、反光棱镜、测量棱镜、显微镜、光探测器、计算机和图象监视器组成。被测样品置于工作台上,测量棱镜的底面是测量基准面,与被测样品的表面相接触。光源发出的入射光通过所述的反光棱镜和测量棱镜后,进入显微镜,光探测器探测到显微镜中的光强信号,并依次将信号传递到计算机和图像监视器,经过计算机对所得信号的处理,就可以算出被测样品表面的形貌分布数据。附图说明:图1和图2是已有技术测试原理示意图。图3是本技术的结构示意图。图4是hm标定方法示意图下面结合附图,详细介绍本技术的工作原理和测试过程。图3中,10是工作台,11是被测表面,12是测量基准面,13是测量棱镜,14是反光棱镜,15是光源,16是显微镜,17是光探测器,18是计算机,19是图象监视器。本技术的工作原理是:在全反射条件下,光波不是绝对地在界面上被全部反射回第一介质。当被测表面与基准面发生接触或距离非常小时,被测表面将吸收一部分光波的能量,使反射光变弱。对于视场中任一位置的点或微小区域,两表面间距越小,则反射光强度越弱,即反射光强与表面间距有确定的单调的函数关系。在仪器的结构确定后,反射光强度与表面间距的函数关系可以用下面的简化式子表示:-->h=(R-R0)h2m1-R0---(1)]]>其中:R为反射率,即反射光强与入射光强之比h为表面间距Ro为表面间距为零时反射光强与入射光强之比hm为一常数,通过标定确定hm的标定方法如图4所示。图中20是棱镜,21是量规。经过适当装卡,使量规与棱镜表面之间形成一个很小的楔角α,用光干涉方法确定楔角。将仪器调整到正常测量状态,从接触点(表面间距为零)开始沿楔角方向搜索,当反射率增大到1时,所对应的表面间距即为hm。使用本测量仪测量表面形貌的步骤如下:(1)打开电源,调整工作台使被测表面远离测量基准面,这时光全反射没有遭到破坏,光探测器所探测的光强度与入射光相同,将探测结果输入计算机并存储。(2)调节工作台,使被测表面靠上测量基准面,探测反射光强度并将数据存入计算机。(3)计算机搜索反射光强数据,找出最小反射光强度值,将该值与入射光强度相比,则得到标定常数Ro。(4)hm与光波波长,入射角,棱镜折射率等因素有关,而与被测表面无关,仪器调整完毕后,hm即确定,通过标定即得到hm的具体数值。(5)计算机将步骤(2)的结果与(1)的结果相比即得到视场内各点的反射率R,再根据公式①即算出被测表面的形貌分布数据。本测量仪的垂直分辨率优于1纳米,其最大特点是抗干扰能力很强,同时具有测量迅速,操作简便,成本低和可靠性好等优点。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超精表面形貌测量仪,其特征在于所述的测量仪由工作台、光源、反光棱镜、测量棱镜、显微镜、光控测器、计算机和图象监测器组成;被测样品置于所述的工作台上;所述的测量棱镜的底面是测量基准面,与被测样品的表面相接触;所述的光源发出的入射光通过所述的反光棱镜和测量棱镜后,进入所述的显微镜,所述的光探测器探测到显微镜中的光强信号,并依次将信号传递到计算机和图象监视器。

【技术特征摘要】
1、一种超精表面形貌测量仪,其特征在于所述的测量仪由工作台、光源、反光棱镜、测量棱镜、显微镜、光控测器、计算机和图象监测器组成;被测样品置于所述的工作台上;所述的测量棱镜的底面是测量...

【专利技术属性】
技术研发人员:冼亮郭炎陈大融
申请(专利权)人:清华大学
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

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