【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学叠堆和偏振分束器
技术介绍
偏振分束器可以包括设置在相邻棱镜的斜边之间的反射偏振器。反射偏振器可为多层聚合物膜。
技术实现思路
在本说明书的一些方面,提供了一种光学叠堆,该光学叠堆包括粘附到第二反射偏振器的第一反射偏振器。针对垂直入射光和在至少从400nm延伸至600nm的相同预定波长范围内的每个波长,每个反射偏振器透射沿所述反射偏振器的透光轴偏振的光的至少80%并且反射沿所述反射偏振器的正交的阻光轴偏振的光的至少90%。该第一反射偏振器的所述透光轴和该第二反射偏振器的所述透光轴之间的角度小于约10度。每个反射偏振器包括主要通过所述预定波长范围内的光学干涉来反射和透射光的多个聚合物干涉层。针对相应的第一反射偏振器和第二反射偏振器,该多个聚合物干涉层中的最远离彼此的两个聚合物干涉层之间的间距为d1和d2,d1比d2小至少20%。在本说明书的一些方面,提供了一种偏振分束器(PBS),该偏振分束器包括:具有第一斜边的第一棱镜;具有面对该第一斜边的第二斜边的第二棱镜;以及光学叠堆,该光学叠堆设置在该第一斜边和该第二斜边之间并粘附到该第一斜边和该第二斜边。该光学叠堆包括粘附到第二反射偏振器的第一反射偏振器。针对垂直入射光和在相同预定波长范围内的每个波长,每个反射偏振器透射沿所述反射偏振器的透光轴偏振的光的至少80%并且反射沿所述反射偏振器的正交的阻光轴偏振的光的至少90%。该第一反射偏振器的透光轴和该第二反射偏振器的透光轴之间的角度小于约10度。每个反射偏振器包括主要通过该预定波长范围内的光学干涉来反射和透射光的多个聚合物干 ...
【技术保护点】
1.一种光学叠堆,所述光学叠堆包括:第一反射偏振器,所述第一反射偏振器粘附到第二反射偏振器,对于垂直入射光和在至少从400nm延伸至600nm的相同预定波长范围内的每个波长,每个反射偏振器透射沿所述反射偏振器的透光轴偏振的光的至少80%并且反射沿所述反射偏振器的正交的阻光轴偏振的光的至少90%,所述第一反射偏振器的所述透光轴和所述第二反射偏振器的所述透光轴之间的角度小于约10度,每个反射偏振器包括多个聚合物干涉层,所述多个聚合物干涉层主要通过所述预定波长范围内的光学干涉来反射和透射光,对于相应的所述第一反射偏振器和所述第二反射偏振器,所述多个聚合物干涉层中的最远离彼此的两个聚合物干涉层之间的间距为d1和d2,d1比d2小至少20%。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171220 US 62/608,1941.一种光学叠堆,所述光学叠堆包括:第一反射偏振器,所述第一反射偏振器粘附到第二反射偏振器,对于垂直入射光和在至少从400nm延伸至600nm的相同预定波长范围内的每个波长,每个反射偏振器透射沿所述反射偏振器的透光轴偏振的光的至少80%并且反射沿所述反射偏振器的正交的阻光轴偏振的光的至少90%,所述第一反射偏振器的所述透光轴和所述第二反射偏振器的所述透光轴之间的角度小于约10度,每个反射偏振器包括多个聚合物干涉层,所述多个聚合物干涉层主要通过所述预定波长范围内的光学干涉来反射和透射光,对于相应的所述第一反射偏振器和所述第二反射偏振器,所述多个聚合物干涉层中的最远离彼此的两个聚合物干涉层之间的间距为d1和d2,d1比d2小至少20%。
2.根据权利要求1所述的光学叠堆,其中d1为至少1微米。
3.根据权利要求1所述的光学叠堆,其中每个聚合物干涉层具有在45纳米至200纳米的范围内的平均厚度。
4.根据权利要求1所述的光学叠堆,具有:相反的最外面的第一主表面和第二主表面,所述第一反射偏振器被设置成更靠近所述第一主表面并更远离所述第二主表面,所述第二反射偏振器被设置成更靠近所述第二主表面并更远离所述第一主表面,其中对于每个反射偏振器和最靠近所述反射偏振器的所述主表面,更靠近所述主表面的每个聚合物干涉层具有较小光学厚度并且更远离所述主表面的每个聚合物干涉层具有较大光学厚度。
5.一种偏振分束器(PBS),包括:
第一棱镜,所述第一棱镜包括第一斜边;
第二棱镜,所述第二棱镜包括面对所述第一斜边的第二斜边;和
根据权利要求1至4中任一项所述的光学叠堆,所述光学叠堆设置在所述第一斜边和所述第二斜边之间并粘附到所述第一斜边和所述第二斜边。
6.根据权利要求5所述的PBS,其中所述预定波长从较短的第一波长延伸至较长的第二波长,其中具有相应的所述第一波长和所述第二波长并从面对所述反射偏振器的所述棱镜的内部以45度入射在每个反射偏振器上的重合的第一光线和第二光线被所述反射偏振器反射为在面对所述反射偏振器的所述棱镜内部彼此间隔开分隔距离的相应的反射的第一光线和第二光线,所述分隔距离针对所述第一反射偏振器为s1,并且针对所述第二反射偏振器为s2,0<s1≤s2。
7.一种光学系统,包括:
根据权利要求5或6所述的PBS;
光源,所述光源面对所述第一反射偏振器;和
成像器,所述成像器用于调制面对所述第二反射偏振器的光。
8.根据权利要求7所述的光学系统,所述光学系统被配置为使得:由所述光源发射并具有相应的400nm和650nm波长的第一光线和第二光线在由所述第二反射偏振器反射至少一次并透射至少一次、由所述成像...
【专利技术属性】
技术研发人员:貟智省,约翰·D·李,蒂莫西·J·内维特,苏珊·L·肯特,
申请(专利权)人:三M创新有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。