本发明专利技术提供一种三价铬镀液、三价铬镀敷方法,所述三价铬镀液的特征在于,是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液,还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸,(其中,式(1)中,R
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】三价铬镀液以及使用其的三价铬镀敷方法
本专利技术涉及三价铬镀液以及使用其的三价铬镀敷方法。
技术介绍
镀铬层具有银白色的外观,因此被用作装饰用的涂膜。在该镀铬层中使用了六价铬,但是,近年来,由于该六价铬对环境带来影响,所以其使用受到了限制,正在向使用三价铬的技术转移。由各种制造商报告了许多如上所述的使用三价铬的技术(例如参照专利文献1)。但是,在三价铬镀液的情况下,由于混入源自随附于作为基底的镀层和其他镀层的药品等中的金属杂质,所以存在未析出镀层和在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2009-74170号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的课题在于,提供即使在镀液中混入了金属杂质也不会产生未析出镀层和在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题的三价铬镀液。用于解决课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题进行了深入研究,结果发现,通过使含有氯化物作为导电盐的三价铬镀液中含有特定结构的不饱和磺酸化合物,从而即使在镀液中混入了金属杂质,也不会产生未析出镀层和在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题,从而完成了本专利技术。另外还发现,通过使三价铬镀液中积极地含有镍作为金属杂质,从而不仅能够防止上述问题,还能够防止进行镀敷时的高电流密度下的烧焦,从而完成了本专利技术。即,本专利技术涉及一种三价铬镀液,其特征在于,是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液,还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物,R1-CH=CH-R2-SO3X(1)(其中,式(1)中,R1表示碳数1~10的烃基、氢或卤素,没有R2或者R2表示碳数1~10的烃基,X表示氢或碱金属。)。另外,本专利技术涉及一种向被镀物镀敷三价铬的方法,其特征在于,利用上述三价铬镀液对被镀物进行电镀。此外,本专利技术涉及一种提高三价铬镀液在含有金属杂质时的耐性的方法,其中,在含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液中还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物,R1-CH=CH-R2-SO3X(1)(其中,式(1)中,R1表示碳数1~10的烃基、氢或卤素,没有R2或者R2表示碳数1~10的烃基,X表示氢或碱金属。)。此外,本专利技术涉及一种防止使用三价铬镀液进行镀敷时的高电流密度下的烧焦的方法,其中,在使含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液中还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物和镍,R1-CH=CH-R2-SO3X(1)(其中,式(1)中,R1表示碳数1~10的烃基、氢或卤素,没有R2或者R2表示碳数1~10的烃基,X表示氢或碱金属。)。此外,本专利技术涉及一种镀铬制品,其利用上述三价铬镀液对被镀物进行电镀而得到。专利技术效果本专利技术的三价铬镀液是即使混入了金属杂质也不会产生未析出镀层和在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题的优异的镀液。另外,通过使本专利技术的三价铬镀液中积极地含有镍作为金属杂质,从而不仅能够防止上述问题,还能够防止进行镀敷时的高电流密度下的烧焦。附图说明图1是示出在实施例1的赫尔槽试验中测定布散能力的距离的位置的图。图2是示出在实施例4中利用未添加镍的镀液镀敷后的实施了镀镍的黄铜板(有烧焦)的赫尔槽外观的图。图3是示出在实施例4中利用添加有10ppm镍的镀液镀敷后的实施了镀镍的黄铜板(无烧焦)的赫尔槽外观的图。具体实施方式本专利技术的三价铬镀液(以下也称作“本专利技术镀液”)是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液,所述三价铬镀液还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物,R1-CH=CH-R2-SO3X(1)。上述式(1)中,R1表示碳数1~10的烃基、氢或卤素,没有R2或者R2表示碳数1~10的烃基,X表示氢或碱金属,优选的是,R1表示碳数1~6的烃基或氢,没有R2或者R2表示碳数1~6的烃基,X表示氢、钠或钾。作为上述式(1)所示的具体的不饱和磺酸化合物,可列举乙烯基磺酸钠、烯丙基磺酸钠以及对苯乙烯磺酸钠、β-苯乙烯磺酸钠等。这些不饱和磺酸化合物可以使用1种,或者组合使用2种以上。本专利技术镀液中的不饱和磺酸化合物的含量没有特别限定,例如为0.01~20g/L,优选为0.1~5g/L。本专利技术镀液中使用的三价铬化合物没有特别限定,例如为碱式硫酸铬、硫酸铬、氯化铬、氨基磺酸铬、乙酸铬,优选为碱式硫酸铬、硫酸铬、氯化铬。这些三价铬化合物可以使用1种,或者组合使用2种以上。本专利技术镀液中的三价铬化合物的含量没有特别限定,例如,作为金属铬来说,为1~20g/L,优选为5~15g/L。本专利技术镀液中使用的导电盐为氯化物。氯化物的种类没有特别限定,可列举例如氯化钾、氯化铵、氯化钠等。这些氯化物可以使用1种,或者组合使用2种以上。本专利技术镀液中的氯化物的含量没有特别限定,例如为150~400g/L,优选为200~350g/L。本专利技术镀液中使用的pH缓冲剂没有特别限定,例如为硼酸、硼酸钠、硼酸钾、磷酸、磷酸氢二钾等,优选硼酸、硼酸钠。这些pH缓冲剂可以使用1种,或者组合使用2种以上。本专利技术镀液中的pH缓冲剂的含量没有特别限定,例如为10~150g/L,优选为50~100g/L。本专利技术镀液中使用的络合剂没有特别限定,可列举例如甲酸、甲酸铵、甲酸钾、柠檬酸、柠檬酸三铵等。这些之中,优选甲酸铵、柠檬酸三铵。这些络合剂可以使用1种,或者组合使用2种以上。本专利技术镀液中的络合剂的含量没有特别限定,例如,相对于金属铬浓度来说为0.3~2倍摩尔浓度,优选为0.8~1.5倍摩尔浓度。可以使本专利技术镀液还含有溴化铵、溴化钾等。本专利技术镀液的pH只要为酸性,就没有特别限定,例如,优选为2~4,更优选为2.5~3.5。本专利技术镀液的制备法没有特别限定,例如可以通过在40~50℃的水中添加三价铬化合物、氯化物盐、pH缓冲剂、络合剂、不饱和磺酸化合物并进行混合,或者根据需要添加其他成分并进行混合,或者调节pH,从而进行制备。需要说明的是,本专利技术镀液即使含有金属杂质,也没有未析出镀层或者在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题(也就是说,具有对金属杂质的耐性)。特别地,对于本专利技术镀液来说,即使在长期使用中或者突发地以数百ppm左右的浓度大量地含有金属杂质,也不存在上述问题。在此,金属杂质是源自随附于作为基底的镀层和其他镀层的药品等中的金属。作为具体的金属,可列举例如镍、锌、铜、六价铬等,优选为多用于基底镀层的镍或铜。另外,在本专利技术镀液的情况下,在使其积极地含有镍作为金属杂质时,能够防止进行镀敷时的高电流密度下的烧焦。在此,高电流密度是指,物品的角部、前端部等电流易于集中的部位。能够用于本专利技术镀液中的镍没有特别限定,可列举例如氯化镍、硫酸镍等镍本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种三价铬镀液,其特征在于,是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液,还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物,/nR
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171214 JP 2017-239216;20180626 JP 2018-1211961.一种三价铬镀液,其特征在于,是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液,还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸化合物,
R1-CH=CH-R2-SO3X(1)
其中,式(1)中,R1表示碳数1~10的烃基、氢或卤素,没有R2或者R2表示碳数1~10的烃基,X表示氢或碱金属。
2.根据权利要求1所述的三价铬镀液,其中,不饱和磺酸化合物为选自由乙烯基磺酸钠、烯丙基磺酸钠和对苯乙烯磺酸钠、β-苯乙烯磺酸钠组成的组中的1种或2种以上。
3.根据权利要求1所述的三价铬镀液,其中,氯化物为选自由氯化钾、氯化铵、氯化钠组成的组中的1种或2种以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的三价铬镀液,其还含有金属杂质。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的三价铬镀液,其还含有镍。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的三价铬镀液,其实质上不含有铁和/或钴。
【专利技术属性】
技术研发人员:森川雄斗,堀真雄,中上圆,
申请(专利权)人:株式会社杰希优,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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