显示方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示方法及装置，包括：在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。本发明专利技术所述显示方法在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。

【技术实现步骤摘要】
显示方法及装置
本专利技术涉及显示领域，具体涉及了一种显示方法及显示装置、书写装置及热成像。
技术介绍
目前，在完全无光的情况下，人员之间的交流有时需要用书写来传达信息，以避免暴露自身。一般的显示装置通过人眼直接观察，必须依赖于可见光，需要自身发光或依赖照明。自身发光的显示方式如液晶屏不能在上述场合使用，而本身不发光的显示方式如电子墨水或传统的纸笔在无光条件下无法看见。由于近红外光能被硅基图像传感器探测到，利用近红外光来照明或显示的方法也会暴露自身目标，因此也不可行。因此，需要设计一种可以在无光环境下，自身并不发出可见光或近红外光的显示方法及装置。
技术实现思路
本专利技术提供了一种显示方法，能够在无光环境下显示信息，并且自身并不发出可见光或近红外光。本专利技术提供了一种显示方法，所述方法包括：在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。本专利技术所述显示方法的有益效果在于：在书写时能够产生热辐射差异，从而用红外热像仪来进行观察，不需要环境光或自身发光来进行显示。进一步，所述表面被书写部分热辐射高于未被书写部分；或者，所述表面被书写部分热辐射低于未被书写部分。进一步，在所述表面被书写部分与未被书写部分形成的热辐射差异存在设定的时间后，消除该热辐射差异；或者热辐射差异自行消失。热辐射差异消失后，书写的信息被擦除。本专利技术还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括至少一个显示表面；进行所述书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。优选的，在进行所述书写时，有液体留存在所述显示表面被书写的区域，当液体挥发时，所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。优选的，所述显示表面包括多孔材料和/或液体吸附材料，使得所述液体留存在所述显示表面设定的时间。优选的，所述显示表面被加热装置加热，所述液体被加热挥发完，所述显示表面恢复至同一温度，消除热辐射差异。优选的，每个显示单元包括正负电极和电阻，进行所述书写时，被书写部分正负电极导通，使得对应电阻升温，所述被书写部分电阻与未被书写部分存在热辐射差异。例如，可以通过导电的书写工具将正负电极导通，或通过产生变形使得正负电极发生物理接触。优选的，使电阻断电，消除所述热辐射差异，即使正负电极已断开。优选的，所述电阻位于绝热材料中，所述绝热材料可以是空气或陶瓷等。优选的，所述正负电极导通后，所述电阻一直保持在导通状态。优选的，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、光耦器件U1、光耦器件U2、电阻；当书写时，被书写部分正负电极SW1导通，光耦器件U1导通，驱动光耦器件U2内部的发光二极管；光耦器件U2管脚导通，从而实现光耦器件U2的自驱动；即使开关SW2断开，电阻一直处于通电状态而发热；当开关SW1短接，打破光耦器件U2的平衡，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。优选的，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、比较器U1、电阻；当书写时，书写工具使得开关SW1短接，比较器U1的正反相端有电压差，比较器输出高电平，驱动电阻持续发热；即使开关SW1断开，电阻一直处于通电状态而发热；当开关SW2短接，比较器U1的正反相端的压差为0伏，比较器输出低电平，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。优选的，每一个显示单元包括：PMOSQP1、三极管QP2、开关SW1、电阻；当书写时，书写根据使得开关SW1短接，使得三极管QP2导通，三极管QP2集电极电压拉底，PMOSQP1导通，提供三极管QP2基极的电压，让三极管QP2和PMOSQP1一直处于导通状态，从而驱动电阻持续发热；当开关SW1再次短接时，三极管QP2基极向集电极放电，三极管QP2变成截止状态，PMOSQP1不通电，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除；所述PMOSQP1为P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。本专利技术还提供了一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括背景辐射源；所述背景辐射源上方设置有用于遮挡背景辐射源热辐射的书写层。优选的，所述书写层与背景辐射源之间具有设定的距离；书写时，所述书写层被书写部分与背景辐射源之间的距离发生改变，被书写部分书写层温度与背景辐射源温度之间的差值发生改变；所述被书写部分书写层与所述书写层未被书写部分存在热辐射差异。优选的，恢复所述书写层与背景辐射源之间的距离，消除所述热辐射差异。优选的，所述书写层为可部分被擦除或涂覆的结构；所述背景辐射源与书写层之间设置有热辐射可透过的支撑层，用于支撑书写层；书写时，所述书写层的被书写部分被擦除或涂覆，被擦除或涂覆部分的背景辐射源的热辐射被暴露或遮挡；热辐射暴露部分的背景辐射源与被遮挡部分的书写层之间存在热辐射差异。优选的，在擦除或涂覆所述部分书写层后，经过设定的时间，重新涂覆或擦除所述书写层，所述书写层重新遮挡或暴露所述背景辐射源的热辐射，消除所述热辐射差异。本专利技术还提供一种显示装置，应用于前述的显示方法；所述显示装置包括具有一定温度的背景辐射源；所述背景辐射源表面被书写部分涂覆有书写层，所述书写层与所述背景辐射源的热辐射发射率不同。优选的，所述背景辐射源和书写层的热辐射发射率差异大于0.2。优选的，所述背景辐射源被加热或冷却。优选的，所述背景辐射源和书写层其中之一由金属制成。优选的，擦除或重新涂覆所述书写层，消除所述热辐射差异。本专利技术还提供了一种书写装置，应用于前述的显示方法；所述书写装置具有设定温度；所述书写装置的温度与被书写表面温度不同；书写时，所述书写装置与被书写表面进行热传导，改变被书写部分的温度，被书写部分与未被书写部分存在所述热辐射差异；或者所述热辐射差异存在一定时间后自行消失。本专利技术还提供了一种热成像装置，应用于前述的显示方法；所述热成像装置读取该热辐射差异形成的热图像。优选的，所述热成像装置通过显示装置贴住人眼显示图像。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例三所述装置的示意图；图2为本专利技术实施例三所述装置每一个显示单元的第一种电路图；图3为本专利技术实施例三所述装置每一个显示单元的第二种电路图；图4为本专利技术实施例三所述装置每一个显示单元的第三种电路图图5为本专利技术实施例三所述装置正负电极各自按线列排列的示意图；图6为本专利技术实施例四所述装置的示意图；图7为本专利技术实施例五所述装置的示意图；图8为本专利技术实施例六所述装置的示意图。图中各附图标记说明：1、书本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示方法，其特征在于，所述方法包括：/n在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；/n通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示方法，其特征在于，所述方法包括：
在表面进行书写，所述表面被书写部分与未被书写部分产生不同强度的热辐射；
通过热成像装置，读取该热辐射强度不同导致的热图像，进而得到所述热图像表征的信息。


2.根据权利要求1所的显示方法，其特征在于，
所述表面被书写部分热辐射高于未被书写部分；
或者，所述表面被书写部分热辐射低于未被书写部分。


3.根据权利要求2所述的显示方法，其特征在于，在所述表面被书写部分与未被书写部分形成的热辐射差异存在设定的时间后，消除该热辐射差异；
或者热辐射差异自行消失。


4.一种显示装置，其特征在于，应用于权利要求1-3中任何一项所述的显示方法；
所述显示装置包括至少一个显示表面；
进行所述书写时，显示表面被书写部分与未被书写部分形成热辐射差异，在显示表面形成存在热辐射差异的热图像。


5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，
在进行所述书写时，有液体留存在所述显示表面被书写的区域，当液体挥发时，所述显示表面被书写部分与未被书写部分存在热辐射差异。


6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示表面包括多孔材料和/或液体吸附材料，使得所述液体留存在所述显示表面设定的时间。


7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示表面被加热装置加热，所述液体被加热挥发完，所述显示表面恢复至同一温度，消除热辐射差异。


8.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，每个显示单元包括正负电极和电阻，
进行所述书写时，被书写部分正负电极导通，使得对应电阻升温，所述被书写部分电阻与未被书写部分存在热辐射差异。


9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，使电阻断电，消除所述热辐射差异。


10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述电阻位于绝热材料中。


11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述正负电极导通后，所述电阻一直保持在导通状态。


12.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、光耦器件U1、光耦器件U2、电阻；
当书写时，被书写部分正负电极SW1导通，光耦器件U1导通，驱动光耦器件U2内部的发光二极管；光耦器件U2管脚导通，从而实现光耦器件U2的自驱动；
即使开关SW2断开，电阻一直处于通电状态而发热；
当开关SW1短接，打破光耦器件U2的平衡，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。


13.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：开关SW1、开关SW2、比较器U1、电阻；
当书写时，书写工具使得开关SW1短接，比较器U1的正反相端有电压差，比较器输出高电平，驱动电阻持续发热；
即使开关SW1断开，电阻一直处于通电状态而发热；
当开关SW2短接，比较器U1的正反相端的压差为0伏，比较器输出低电平，电阻断电，消除所述热辐射差异，实现擦除。


14.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，每一个显示单元包括：PMOSQP1、三极管QP2、开关SW1、电阻；
当书写时，书写根据使得开关...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈憧棐，赵高飞，吴慧文，
申请(专利权)人：上海巨哥电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31