二光源合一的三维成像投射装置制造方法及图纸

一种二光源合一的三维成像投射装置包含支撑件、第一发光源、承载结构、第二发光源与光学透镜。支撑件具有底板与在底板上的侧壁，侧壁围绕出容置空间。第一发光源设置于支撑件的底板上。承载结构设置于支撑件的底板上。第二发光源设置于承载结构上，使第二发光源的位置高于第一发光源的位置。光学透镜设置于侧壁的顶面上，且覆盖第一发光源与第二发光源。第二发光源的垂直位置只会与承载结构的高度有关，不会受限于支撑件高度，可作为补光的光源，并用于3D辅助功能。此外，第二发光源与承载结构的配置并不影响二光源合一的三维成像投射装置的主光源(即第一发光源)的焦距。

【技术实现步骤摘要】
二光源合一的三维成像投射装置
本揭露是有关于一种二光源合一的三维成像投射装置。
技术介绍
随着光学技术的蓬勃发展，结构光(structuredlight)进而被应用于许多领域，例如：3D轮廓重现、距离量测、防伪辨识等领域。然而，现有的技术中，结构光的产生方式可由激光通过绕射光学元件(Diffractiveopticalelement；DOE)产生。然而，若三维成像投射装置只有单一光源，由于光源与绕射光学元件之间的距离与焦距有关，且此距离会受限于光学透镜其下方的支撑件高度，因此容易产生光不足的问题，且不利3D辅助功能。
技术实现思路
本技术的一技术态样为一种二光源合一的三维成像投射装置。根据本技术一实施方式，一种二光源合一的三维成像投射装置包含支撑件、第一发光源、承载结构、第二发光源与光学透镜。支撑件具有底板与在底板上的侧壁，侧壁围绕出容置空间。第一发光源设置于支撑件的底板上。承载结构设置于支撑件的底板上。第二发光源设置于承载结构上，使第二发光源的位置高于第一发光源的位置。光学透镜设置于侧壁的顶面上，且覆盖第一发光源与第二发光源。在本技术一实施方式中，上述光学透镜的底面具有第一绕射微结构与第二绕射微结构，第一绕射微结构与第一发光源重叠，第二绕射微结构与第二发光源重叠。在本技术一实施方式中，上述第二发光源与第二绕射微结构之间的距离小于第一发光源与第一绕射微结构之间的距离。在本技术一实施方式中，上述第二发光源的底面高于第一发光源的顶面。在本技术一实施方式中，上述第二发光源较第一发光源接近光学透镜。在本技术一实施方式中，上述承载结构包含第一导体与第二导体。第一导体位于支撑件的底板上与第二发光源下方，且电性连接第二发光源。第二导体与第一导体分开且电性连接第二发光源。第二导体位于第一导体与第一发光源之间。在本技术一实施方式中，上述承载结构还包含绝缘体。绝缘体位于第一导体与第二导体之间。在本技术一实施方式中，上述第一发光源与第二发光源为垂直腔表面发射激光(VCSEL)。在本技术一实施方式中，上述光学透镜的底面具有透明导电层，二光源合一的三维成像投射装置还包含多个导电路径。导电路径位于支撑件中，每一导电路径具有顶端与底端，顶端延伸至侧壁的顶面，底端延伸至底板的底面，其中导电路径的顶端电性连接透明导电层。在本技术一实施方式中，上述二光源合一的三维成像投射装置还包含多个绝缘层。绝缘层分别围绕导电路径的顶端。在本技术上述实施方式中，由于二光源合一的三维成像投射装置具有第二发光源及设置于底板上的承载结构，且第二发光源设置于承载结构上，因此第二发光源的位置会高于第一发光源的位置。如此一来，第二发光源较第一发光源接近光学透镜，且第二发光源的垂直位置只会与承载结构的高度有关，不会受限于光学透镜其下方的支撑件高度，可作为补光的光源，并用于3D辅助功能。此外，第二发光源与承载结构的配置并不会影响第一发光源与光学透镜之间的距离，因此不影响二光源合一的三维成像投射装置的主光源(即第一发光源)的焦距。附图说明图1绘示根据本技术一实施方式的二光源合一的三维成像投射装置的上视图；图2绘示图1的二光源合一的三维成像投射装置沿线段2-2的剖面图；图3绘示根据本技术一实施方式的二光源合一的三维成像投射装置的剖面图，其剖面位置与图2相同；图4绘示根据本技术一实施方式的二光源合一的三维成像投射装置的剖面图，其剖面位置与图2相同。【符号说明】100、100a、100b：二光源合一的三维成像投射装置110：支撑件112：底板113：底面114：侧壁115：顶面120：第一发光源121：顶面123：导线130：第二发光源132：底面133：导线140：承载结构142：第一导体144：第二导体146：绝缘体150：光学透镜151：底面152：第一绕射微结构154：第二绕射微结构156：透明导电层160：导电路径162：顶端164：底端170：绝缘层2-2：线段d：间隙H1、H2：距离S：容置空间具体实施方式以下将以附图揭露本技术的多个实施方式，为明确说明，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本技术。也就是说，在本技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化附图起见，一些已知惯用的结构与元件在附图中将以简单示意的方式绘示。图1绘示根据本技术一实施方式的二光源合一的三维成像投射装置100的上视图。图2绘示图1的二光源合一的三维成像投射装置100沿线段2-2的剖面图。同时参阅图1与图2，二光源合一的三维成像投射装置100包含支撑件110、第一发光源120、承载结构140、第二发光源130与光学透镜150。支撑件110具有底板112与在底板112上的侧壁114。支撑件110的侧壁114围绕出容置空间S。第一发光源120设置于支撑件110的底板112上。承载结构140设置于支撑件110的底板112上，且第二发光源130设置于承载结构140上。由于承载结构140具有高度，因此第二发光源130的位置会高于第一发光源120的位置。换句话说，第二发光源130较第一发光源120接近光学透镜150。在本实施方式中，第二发光源130的底面132高于第一发光源120的顶面121。此外，光学透镜150设置于支撑件110的侧壁114的顶面115上，且光学透镜150覆盖第一发光源120与第二发光源130。在本实施方式中，支撑件110可以为陶瓷杯体，使得支撑件110具有导热性佳、绝缘、高硬度、高熔点等优点。第一发光源120与第二发光源130可以为垂直腔表面发射激光(VCSEL)，但并不用以限制本技术。第一发光源120与第二发光源130可分别做为二光源合一的三维成像投射装置100的主光源与辅助光源。举例来说，第二发光源130可用于补光与3D辅助等功能。由于二光源合一的三维成像投射装置100具有第二发光源130及设置于底板112上的承载结构140，且第二发光源130设置于承载结构140上，因此第二发光源130的位置会高于第一发光源120的位置。如此一来，第二发光源130较第一发光源120接近光学透镜150，且第二发光源130的垂直位置只会与承载结构140的高度有关，不会受限于光学透镜150其下方支撑件110的高度，可作为补光的光源，并用于3D辅助功能。此外，第二发光源130与承载结构140的配置并不会影响第一发光源120与光学透镜150之间的距离，因此不影响二光源合一的三维成像投射装置100的主光源(即第一发光源120)的焦距。在本实施方式中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，包含：/n一支撑件，具有一底板与在该底板上的一侧壁，该侧壁围绕出一容置空间；/n一第一发光源，设置于该支撑件的该底板上；/n一承载结构，设置于该支撑件的该底板上；/n一第二发光源，设置于该承载结构上，使该第二发光源的位置高于该第一发光源的位置；以及/n一光学透镜，设置于该侧壁的一顶面上，且覆盖该第一发光源与该第二发光源。/n

【技术特征摘要】
1.一种二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，包含：
一支撑件，具有一底板与在该底板上的一侧壁，该侧壁围绕出一容置空间；
一第一发光源，设置于该支撑件的该底板上；
一承载结构，设置于该支撑件的该底板上；
一第二发光源，设置于该承载结构上，使该第二发光源的位置高于该第一发光源的位置；以及
一光学透镜，设置于该侧壁的一顶面上，且覆盖该第一发光源与该第二发光源。


2.根据权利要求1所述的二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，该光学透镜的底面具有一第一绕射微结构与一第二绕射微结构，该第一绕射微结构与该第一发光源重叠，该第二绕射微结构与该第二发光源重叠。


3.根据权利要求2所述的二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，该第二发光源与该第二绕射微结构之间的距离小于该第一发光源与该第一绕射微结构之间的距离。


4.根据权利要求1所述的二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，该第二发光源的底面高于该第一发光源的顶面。


5.根据权利要求1所述的二光源合一的三维成像投射装置，其特征在于，该第二发光源较该第一发光源接近该光学透镜。


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【专利技术属性】
技术研发人员：陈宗庆，
申请(专利权)人：艾笛森光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71