薄片类介质处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种薄片类介质处理装置，涉及介质处理设备技术领域，包括机柜、机盖、进出机构、处理机构及限位组件，机盖与机柜活动连接，机盖设有第一出入口；进出机构固设于机盖，进出机构设有进出通道，且进出通道第一端与第一出入口连通；处理机构位于机柜内且与机柜活动连接，处理机构设有第二出入口；机盖打开时，限位组件被配置为使处理机构位于设定位置；机盖闭合时，机盖带动处理机构偏离设定位置，进出机构与处理机构卡接，且进出通道第二端与第二出入口连通。该处理装置的处理机构活动设置于机柜，机盖闭合时，限位组件使得进出机构能与处理机构可靠卡接，使进出通道能与第二出入口可靠地连通，保证薄片类介质能正常输入输出。

【技术实现步骤摘要】
薄片类介质处理装置
本技术涉及介质处理设备
，尤其是涉及一种薄片类介质处理装置。
技术介绍
薄片类介质处理装置能够提高薄片类介质的处理效率。相关技术的薄片类介质处理装置包括机柜和机盖，机盖设置有第一出入口，机柜内设置有机芯，机芯包括处理机构，处理机构设置有第二出入口，机盖与机柜活动连接，机盖能相对机柜打开或闭合，机盖打开时，可对处理机构进行维护等操作；机盖闭合时，第一出入口与第二出入口连通。相关技术的薄片类介质处理装置在机盖内侧设置进出机构，薄片类介质可通过进出机构进入第二出入口，或者处理机构输出的薄片类介质可通过进出机构到达第一出入口，因此进出机构需要与处理机构可靠地连接，以保证薄片类介质的顺利输入或输出，然而相关技术的薄片类介质处理装置存在机盖闭合时，进出机构无法与处理机构可靠地连接，进而造成薄片类介质无法正常输入或输出的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种薄片类介质处理装置，以缓解相关技术中存在的机盖闭合时，进出机构无法与处理机构可靠地连接，进而造成薄片类介质无法正常输入或输出的问题。本技术提供的薄片类介质处理装置，包括机柜、与所述机柜活动连接的机盖、固定设置于所述机盖的进出机构、位于所述机柜内且与所述机柜活动连接的处理机构，以及限位组件；所述机盖可相对所述机柜打开或闭合，所述机盖设有第一出入口；所述进出机构设有进出通道，且所述进出通道的第一端与所述第一出入口连通；所述处理机构设有第二出入口；所述机盖打开时，所述限位组件被配置为使所述处理机构位于设定位置；所述机盖闭合时，所述机盖带动所述处理机构偏离所述设定位置，所述进出机构与所述处理机构卡接，且所述进出通道的第二端与所述第二出入口连通。进一步地，所述处理机构通过枢接轴枢接于所述机柜，所述限位组件邻近所述枢接轴设置。进一步地，所述限位组件包括限位件，所述限位件设置于所述处理机构和所述机柜中的一者，且所述限位件被配置为抵接于所述处理机构和所述机柜中的另一者，以使所述处理机构始终具有向所述设定位置运动的趋势。进一步地，所述限位组件还包括弹性件，所述弹性件与所述限位件连接，所述弹性件作用于所述限位件，以使所述限位件具有抵接于所述机柜或所述处理机构的运动趋势。进一步地，所述处理机构和所述柜体中的一者上设置有一端开口的套筒，所述弹性件和所述限位件均设置于所述套筒，所述弹性件的一端抵接于所述套筒，另一端抵接于所述限位件，且所述限位件的端部伸出所述套筒的开口，并抵接于所述处理机构和所述机柜中的另一者上。进一步地，所述限位组件的数量为两个，两个所述限位组件沿平行于所述枢接轴的方向间隔设置。进一步地，所述限位组件包括限位槽和限位轴，所述限位槽设置于所述机柜和所述处理机构中的一者，所述限位轴设置于所述机柜和所述处理机构中的另一者，所述限位轴与所述限位槽插接。进一步地，所述进出机构和所述处理机构中的一者设置有卡槽，所述进出机构和所述处理机构中的另一者设置有卡接部，所述机盖闭合时，所述卡接部与所述卡槽卡接。进一步地，所述卡槽设置于所述进出机构，且所述进出通道的第二端的两侧均设置有所述卡槽，所述卡槽为开口槽，且槽口朝向远离所述机盖的一侧；所述卡接部设置于所述处理机构，且所述第二出入口的两侧均设置有所述卡接部，所述卡接部与所述卡槽一一对应设置。进一步地，所述处理机构包括纠偏机构、第一扫描机构、打印机构和第二扫描机构中的至少一个，所述机柜内还设有输送通道和存储箱，所述输送通道连接所述处理机构与所述存储箱。本技术提供的薄片类介质处理装置能够产生以下有益效果：本技术提供的薄片类介质处理装置中，处理机构活动设置于机柜，且机盖打开时，限位组件被配置为使处理机构位于设定位置，在机盖闭合时，机盖带动处理机构偏离设定位置，即处理机构可以相对机柜小幅度运动，从而进出机构能够与处理机构顺利卡接，实现进出机构与处理机构的可靠连接，以及使进出机构的进出通道的第二端与处理机构的第二出入口可靠地连通，进而能够保证薄片类介质的正常输入输出。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例一提供的薄片类介质处理装置的局部结构示意图之一；图2为图1中A处的局部放大图；图3为本技术实施例一提供的薄片类介质处理装置的局部剖视示意图；图4为图3中B处的局部放大图；图5为本技术实施例一提供的薄片类介质处理装置的局部结构示意图之二；图6为本技术实施例一提供的薄片类介质处理装置的局部结构示意图之三；图7为本技术实施例一提供的薄片类介质处理装置的局部结构示意图之四；图8为本技术实施例二提供的薄片类介质处理装置的局部结构示意图。图标：100-机柜；110-连接部；120-抵接部；130-限位槽；200-机盖；210-第一出入口；300-进出机构；310-卡槽；311-第一侧壁；312-第二侧壁；320-容纳仓；330-闸门；340-驱动机构；400-纠偏机构；410-卡接部；421-限位件；422-弹性件；423-套筒；424-导向件；430-第二出入口；440-枢接轴；450-限位轴；460-挡圈；500-第一扫描机构；600-打印机构；700-第二扫描机构；800-存储箱。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄片类介质处理装置，其特征在于，包括：/n机柜(100)；/n与所述机柜(100)活动连接的机盖(200)，所述机盖(200)可相对所述机柜(100)打开或闭合，所述机盖(200)设有第一出入口(210)；/n固定设置于所述机盖(200)的进出机构(300)，所述进出机构(300)设有进出通道，且所述进出通道的第一端与所述第一出入口(210)连通；/n位于所述机柜(100)内且与所述机柜(100)活动连接的处理机构，所述处理机构设有第二出入口(430)；以及/n限位组件，所述机盖(200)打开时，所述限位组件被配置为使所述处理机构位于设定位置；所述机盖(200)闭合时，所述机盖(200)带动所述处理机构偏离所述设定位置，所述进出机构(300)与所述处理机构卡接，且所述进出通道的第二端与所述第二出入口(430)连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种薄片类介质处理装置，其特征在于，包括：
机柜(100)；
与所述机柜(100)活动连接的机盖(200)，所述机盖(200)可相对所述机柜(100)打开或闭合，所述机盖(200)设有第一出入口(210)；
固定设置于所述机盖(200)的进出机构(300)，所述进出机构(300)设有进出通道，且所述进出通道的第一端与所述第一出入口(210)连通；
位于所述机柜(100)内且与所述机柜(100)活动连接的处理机构，所述处理机构设有第二出入口(430)；以及
限位组件，所述机盖(200)打开时，所述限位组件被配置为使所述处理机构位于设定位置；所述机盖(200)闭合时，所述机盖(200)带动所述处理机构偏离所述设定位置，所述进出机构(300)与所述处理机构卡接，且所述进出通道的第二端与所述第二出入口(430)连通。


2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述处理机构通过枢接轴(440)枢接于所述机柜(100)，所述限位组件邻近所述枢接轴(440)设置。


3.根据权利要求1或2所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述限位组件包括限位件(421)，所述限位件(421)设置于所述处理机构和所述机柜(100)中的一者，且所述限位件(421)被配置为抵接于所述处理机构和所述机柜(100)中的另一者，以使所述处理机构始终具有向所述设定位置运动的趋势。


4.根据权利要求3所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述限位组件还包括弹性件(422)，所述弹性件(422)与所述限位件(421)连接，所述弹性件(422)作用于所述限位件(421)，以使所述限位件(421)具有抵接于所述机柜(100)或所述处理机构的运动趋势。


5.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述处理机构和所述机柜(100)中的一者上设置有一端开口的套筒(423)，所述弹性件(422)和所述限位件(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永广，高明，行博宇，刘波波，孙建宇，
申请(专利权)人：山东新北洋信息技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37