一种无蜡吸附垫制造技术

技术编号:24896969 阅读:95 留言:0更新日期:2020-07-14 18:21
本实用新型专利技术公开了一种无蜡吸附垫,包括吸附垫主体,吸附垫主体的顶面上沿吸附垫主体的宽度方向等距成型有多个放置槽,放置槽的底面两侧沿吸附垫主体的长度方向成型有凹槽,所述吸附垫主体在放置槽的两侧均成型有与放置槽连通的卡槽,卡槽内安装有沿吸附垫主体的宽度方向设置的转轴,所述凹槽内设有L形活动板,L形活动板的水平端放置在凹槽内,L形活动板的垂直端竖直设置在卡槽内,所述转轴贯穿L形活动板水平端和垂直端的连接处且与之转动配合。

【技术实现步骤摘要】
一种无蜡吸附垫
本技术涉及吸附垫领域,尤其是涉及一种无蜡吸附垫。
技术介绍
随着半导体技术的发展,人类对衬底表面质量要求会越来越高。对衬底抛光来说,人员操作与自动化操作均会涉及到2个动作,即衬底片的取和放。目前常用的吸附垫结构的型腔口尺寸大于晶片尺寸0.5mm左右,太大易于造成晶片的破损,考虑到型腔口与晶片尺寸均存在有公差,当晶片的最大尺寸遇到最小的型腔口尺寸时,两者的间隙可能只有0.1mm甚至更小,这对于放片是比较困难的,特别是在自动化放片时,对自动化的精度要求就非常高,难以将晶片准确放入型腔口。当衬底抛光完成后,需要将晶片从吸附垫型腔口取出来,而衬底的正面(抛光面)在抛光后是不能进行触碰的,衬底背面与吸附垫接触在一起,存在一定的张力,目前常用的是采用取片器从型腔口和晶片的间隙伸入到衬底背面将衬底翘出来,这种未先破坏张力直接取片的方式,容易造成衬底破损。
技术实现思路
本技术为克服上述情况不足,旨在提供一种能解决上述问题的技术方案。一种无蜡吸附垫,包括吸附垫主体,吸附垫主体的顶面上沿吸附垫主体的宽度方向等距成型有多个放置槽,放置槽的底面两侧沿吸附垫主体的长度方向成型有凹槽,所述吸附垫主体在放置槽的两侧均成型有与放置槽连通的卡槽,卡槽内安装有沿吸附垫主体的宽度方向设置的转轴,所述凹槽内设有L形活动板,L形活动板的水平端放置在凹槽内,L形活动板的垂直端竖直设置在卡槽内,所述转轴贯穿L形活动板水平端和垂直端的连接处且与之转动配合。进一步的,所述吸附垫主体采用半导体硅晶体材料制成。>进一步的,所述L形活动板的垂直端的外侧面上连接有沿吸附垫主体的长度方向设置的拉杆,拉杆贯穿吸附垫主体延伸吸附垫主体的外侧,拉杆与吸附垫主体滑动配合。进一步的,所述L形活动板水平端的顶面和垂直端的内侧面上均安装有软质橡胶层。进一步的,所述软质橡胶层的顶面与放置槽的底面在同一水平面上。与现有技术相比,本技术的有益效果是:本技术结构新颖,缓慢拉动拉杆时会破坏晶片衬底背面与吸附垫之间的张力,L形板会将晶片托出,不会造成损坏。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术的结构示意图;图2是本技术的另一种结构示意图。具体实施方式下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。请参阅图1和图2,本技术实施例中,一种无蜡吸附垫,包括吸附垫主体1,吸附垫主体1的顶面上沿吸附垫主体1的宽度方向等距成型有多个放置槽,放置槽的底面两侧沿吸附垫主体1的长度方向成型有凹槽,所述吸附垫主体1在放置槽的两侧均成型有与放置槽连通的卡槽,卡槽内安装有沿吸附垫主体1的宽度方向设置的转轴3,所述凹槽内设有L形活动板2,L形活动板2的水平端放置在凹槽内,L形活动板2的垂直端竖直设置在卡槽内,所述转轴3贯穿L形活动板2水平端和垂直端的连接处且与之转动配合。进一步的,所述吸附垫主体1采用半导体硅晶体材料制成。进一步的,所述L形活动板2的垂直端的外侧面上连接有沿吸附垫主体1的长度方向设置的拉杆5,拉杆5贯穿吸附垫主体1延伸吸附垫主体1的外侧,拉杆5与吸附垫主体1滑动配合。进一步的,所述L形活动板2水平端的顶面和垂直端的内侧面上均安装有软质橡胶层4。进一步的,所述软质橡胶层4的顶面与放置槽的底面在同一水平面上。对于本领域技术人员而言,显然本技术不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本技术。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无蜡吸附垫,包括吸附垫主体,其特征在于:吸附垫主体的顶面上沿吸附垫主体的宽度方向等距成型有多个放置槽,放置槽的底面两侧沿吸附垫主体的长度方向成型有凹槽,所述吸附垫主体在放置槽的两侧均成型有与放置槽连通的卡槽,卡槽内安装有沿吸附垫主体的宽度方向设置的转轴,所述凹槽内设有L形活动板,L形活动板的水平端放置在凹槽内,L形活动板的垂直端竖直设置在卡槽内,所述转轴贯穿L形活动板水平端和垂直端的连接处且与之转动配合。/n

【技术特征摘要】
1.一种无蜡吸附垫,包括吸附垫主体,其特征在于:吸附垫主体的顶面上沿吸附垫主体的宽度方向等距成型有多个放置槽,放置槽的底面两侧沿吸附垫主体的长度方向成型有凹槽,所述吸附垫主体在放置槽的两侧均成型有与放置槽连通的卡槽,卡槽内安装有沿吸附垫主体的宽度方向设置的转轴,所述凹槽内设有L形活动板,L形活动板的水平端放置在凹槽内,L形活动板的垂直端竖直设置在卡槽内,所述转轴贯穿L形活动板水平端和垂直端的连接处且与之转动配合。


2.根据权利要求1所述的一种无蜡吸附垫,其特征在于:所述吸附垫主体...

【专利技术属性】
技术研发人员:雷龙金
申请(专利权)人:东莞市华创研磨材料有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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