触控面板及其制备方法、电子设备技术

本发明专利技术涉及一种触控面板及其制备方法、电子设备。触控面板包括：基材；透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。上述触控面板，基材上贴附有光学调整层和应力调整层，光学调整层即为消影膜(index matching，也称作IM膜)，应力调整层能够限定光学调整层在压膜制程以及透明导电层蚀刻过程中的形变量，避免光学调整层的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。

【技术实现步骤摘要】
触控面板及其制备方法、电子设备
本专利技术涉及触控显示
，特别是涉及一种触控面板及其制备方法、电子设备。
技术介绍
触控面板制备过程中，首先在基材表面形成ITO(IndiumTinOxides，氧化铟锡)膜，而后对ITO膜进行蚀刻以形成触控电极图案。其中，基材设有ITO膜的一侧通常设置有消影膜(indexmatching，简称IM膜)。IM膜在压膜制程中受热延展，随后对ITO膜进行蚀刻时，部分覆盖于IM膜上的ITO被去除，IM膜上的应力发生变化而引起IM膜回缩，使得IM膜表面不平整，导致触控电极图案可见。
技术实现思路
基于此，有必要针对IM膜在压膜制程以及蚀刻过程中发生形变的问题，提供一种触控面板及其制备方法、电子设备。一种触控面板，包括：基材；透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。上述触控面板，基材上贴附有光学调整层和应力调整层，光学调整层即为消影膜(indexmatching，也称作IM膜)，应力调整层能够限定光学调整层在压膜制程以及透明导电层蚀刻过程中的形变量，避免光学调整层的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。在其中一个实施例中，所述应力调整层包括层叠设置的第二光学调整层和光阻层。在其中一个实施例中，所述光阻层的材质为透明感光膜或负型绝缘光阻，和/或，所述第二光学调整层的厚度小于1μm。在其中一个实施例中，所述应力调整层的厚度为1μm～10μm。一种所述触控面板的制备方法，包括以下步骤：提供基材和复合膜材，将所述复合膜材贴合于所述基材上，所述复合膜材包括层叠设置的第一光学调整层和应力调整层；在所述复合膜材背向所述基材的表面形成透明导电层；对所述透明导电层进行蚀刻形成触控电极图案。在其中一个实施例中，所述将复合膜材贴合于所述基材上的步骤包括：所述复合膜材设有所述应力调整层的一侧与所述基材相贴合；或者，所述复合膜材设有所述第一光学调整层的一侧与所述基材相贴合。在其中一个实施例中，所述应力调整层包括层叠设置的第二光学调整层和光阻层。在其中一个实施例中，所述将复合膜材贴合于所述基材上的步骤包括：采用压膜方式对所述复合膜材与所述基材进行贴合。在其中一个实施例中，压膜的温度为80℃～120℃，压膜的速度为0.5m/s～5.0m/s，压膜的压力为0.1MPa～0.5MPa。一种电子设备，包括所述的触控面板。附图说明图1为现有技术中的触控面板结构示意图；图2为一实施例中触控面板的结构示意图；图3为另一实施例中触控面板的结构示意图；图4为一实施例中触控面板的制备方法流程图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施方式。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1，触控面板的基材220和ITO膜之间设置有消影膜210(indexmatching，简称IM膜)。IM膜210在压膜制程中受热延展，对ITO膜进行蚀刻后，部分覆盖于IM膜210上的ITO被去除，IM膜210上的应力发生变化而引起IM膜210回缩，使得IM膜210表面不平整，ITO区域A和非ITO区域B(即ITO膜被蚀刻去除的区域)存在反射率差，导致触控电极图案可见。为解决上述问题，请参阅图2，本专利技术提出一种触控面板。在一实施例中，该触控面板包括依次层叠设置的基材10、第一光学调整层20、应力调整层30及透明导电层40。具体的，以透明导电层40为ITO膜为例进行说明。基材10上设有第一光学调整层20和应力调整层30，第一光学调整层20即为消影膜，通过在ITO膜和基材10之间设置第一光学调整层20，ITO膜被蚀刻形成触控电极图案后，在可见光波长范围内，ITO区域和非ITO区域的反射率差值较小，确保用户从触控面板外侧无法观察到触控电极图案，达到消影的目的。在第一光学调整层20和透明导电层40之间设置应力调整层30，应力调整层30能够限定第一光学调整层20在压膜制程以及ITO膜蚀刻过程中的形变量，避免第一光学调整层20的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。在其他实施例中，请参阅图3，可改变第一光学调整层20和应力调整层30的次序，即应力调整层30位于第一光学调整层20和基材10之间。应力调整层30包括层叠设置的第二光学调整层31和光阻层32，第二光学调整层31或光阻层32贴附于第一光学调整层20。光阻层32能够稳定第一光学调整层20所受应力，避免第一光学调整层20在压膜制程以及ITO膜蚀刻过程中产生较大的形变，造成第一光学调整层20的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。第二光学调整层31与第一光学调整层20共同起到调节基材10折射率的作用，改善触控面板的整体视效，确保触控电极图案不可见。应力调整层30的厚度为1μm～10μm。第二光学调整层31的厚度小于1μm，第二光学调整层31的厚度应不超过1μm，避免产生干涉。光阻层32的材质为透明感光膜(TransparentPhotosensitiveFilm，TPF)或负型绝缘光阻。需要说明的是，透明导电层40的材质还可以是氧化锑锡、氧化锌铝、金属薄膜、碳纳米管、银纳米线、石墨烯或导电聚合物(聚3，4-亚乙二氧基噻吩，PEDOT)等。可采用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式工艺形成透明导电层40。透明导电层40可以根据需要实施加热退火处理而使之结晶化，通过使透明导电层40结晶化，不仅降低透明导电层40的电阻，而且透明导电层40的透明性和耐久性得到提升。透明导电层40可以为1层或2层。在一实施例中，透明导电层40的层数为1，透明导电层40经蚀刻制程后形成若干沿X方向排列的第一电极块、若干第一桥接部、以及沿Y方向排列的第二电极块，相邻设置的第一电极块之间通过第一桥接部导通。此外，通过镀膜和蚀刻工艺，形成若干第二桥接部，第二桥接部的两端分别搭接于相邻两个第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板，其特征在于，包括：/n基材；/n透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；/n第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及/n应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控面板，其特征在于，包括：
基材；
透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；
第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及
应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。


2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述应力调整层包括层叠设置的第二光学调整层和光阻层。


3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述光阻层的材质为透明感光膜或负型绝缘光阻，和/或，所述第二光学调整层的厚度小于1μm。


4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述应力调整层的厚度为1μm～10μm。


5.一种如权利要求1-4任一项所述触控面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基材和复合膜材，将所述复合膜材贴合于所述基材上，所述复合膜材包括层叠设置的第一光学调整层和应力调整层；
...

【专利技术属性】
技术研发人员：温玮姿，张志鹏，
申请(专利权)人：业成科技成都有限公司，业成光电深圳有限公司，英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51