一种金属掩膜板清洗设备制造技术

本发明专利技术提供了一种金属掩膜板清洗设备，包括依次设置的上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域，以及用于在各区域之间传输金属掩膜板的传输机构，上料区域中设置有上料卡夹、上料机械手、第一姿态转换装置，清洗区域中设置有清洗槽，置换区域中设置有置换槽，干燥区域中设置有干燥槽，下料区域中设置有下料卡夹、下料机械手、第二姿态转换装置；其中，清洗区域和置换区域中均设置有监测装置，监测装置用于检测清洗槽中溶剂和置换槽中溶剂的颗粒物浓度，当监测到颗粒物浓度超过第一阈值时，发出报警。本发明专利技术通过精密的机械传动设计，实现了连续高效清洗，且有效避免了溶剂颗粒物超标导致的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种金属掩膜板清洗设备
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种金属掩膜板清洗设备。
技术介绍
在AMOLED显示器的制程中，蒸镀工艺是最为关键的核心工艺，精密金属掩膜板是用来蒸镀有机材料RGB三基色的像素阵列涂布的关键部件，在蒸镀工程后精细金属掩膜板表面会附着上一层有机材，为了使精细金属掩膜板恢复到洁净状态，可以再次在真空蒸镀中使用，必须对精细金属掩膜板进行清洗，掩膜板表面的有机物颗粒和其它颗粒物超标将会严重影响蒸镀的良率。精细金属掩膜板主要由框架(frame)、遮挡条(cover)、支撑条(support)、对准条(alignstick)、掩膜条(finestick)等构成，遮挡条、支撑条、对准条、掩膜条依次分别焊接在框架上，通常框架的厚度在30mm左右，而最为重要的掩膜条厚度只有25um，有的厂商甚至可以做到10um，精细金属掩膜板在搬送过程及清洗过程中稍有不慎，就会导致昂贵的掩膜条变形甚至损坏，给厂商带来重大损失。现有的掩膜板清洗设备，多采用有机溶剂溶解掩膜板上的有机材料，再用去离子水漂洗，然后通过IPA脱水干燥的工艺流程，或者采用氢氟醚等进行置换有机溶剂再加以干燥的工艺流程，清洗流程过于简单，搬送设备不安全，清洗效率比较低。有的掩膜板在清洗完成后还存在有机物残留或者灰尘残留等缺陷，在清洗过程中采用了水溶剂，或者清洗液的吸水性原因，在进行干燥处理后，掩膜板表面会存有水渍，这些缺陷都会严重影响蒸镀过程的精度。目前主流的掩膜板清洗设备自动化程度比较低，清洗过程中得不到及时反馈，存在清洗不干净就直接送到蒸镀段的风险，或者发现缺陷后，已经批量清洗完成，需再全部返回清洗设备重新清洗，造成了不必要的浪费。
技术实现思路
为至少解决上述问题之一，本专利技术实施例提供一种金属掩膜板清洗设备，包括依次设置的上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域，以及用于在上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域之间传输金属掩膜板的传输机构，其中，上料区域中设置有上料卡夹、上料机械手、第一姿态转换装置，上料卡夹用于承载金属掩膜板，上料机械手用于将金属掩膜板从上料卡夹上移动至第一姿态转换装置上，第一姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至清洗姿态；清洗区域中设置有清洗槽，清洗槽用于去除金属掩膜板表面附着的有机材料；置换区域中设置有置换槽，置换槽用于置换金属掩膜板表面的附着物；干燥区域中设置有干燥槽，干燥槽用于对金属掩膜板表面进行干燥；下料区域中设置有下料卡夹、下料机械手、第二姿态转换装置，下料卡夹用于承载金属掩膜板，下料机械手用于将金属掩膜板从第二姿态转换装置上移动至下料卡夹上，第二姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至传输姿态；其中，清洗区域和置换区域中均设置有监测装置，监测装置用于检测清洗槽中溶剂和置换槽中溶剂的颗粒物浓度，当监测到颗粒物浓度超过第一阈值时，发出报警。优选地，在下料区域一侧还设置有检查区域，检查区域中设置有检查平台，用于检查金属掩膜板表面的有机物残留量和金属掩膜板损伤程度。优选地，下料区域中还设置有处理卡夹，处理卡夹用于承载有机物残留量超过第二阈值和/或金属掩膜板损伤程度超过第三阈值的金属掩膜板。优选地，传输机构包括沿上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域排列方向设置的导轨，以及设置在导轨上的可沿导轨移动的多个提升机构，其中，提升机构包括：立柱、横梁和提取支架，其中，立柱设置在导轨上，且能沿导轨移动；横梁设置在立柱上，且沿与导轨垂直的方向延伸；提取支架用于放置或提取金属掩膜板。优选地，提取支架包括：支架本体、夹紧气缸、夹紧滚轮、支撑件，其中，支撑件设置在支架本体底端，其上开设有用于容纳并固定金属掩膜板边缘的凹槽；夹紧气缸设置在支架本体上部，夹紧滚轮与夹紧气缸连接，夹紧滚轮在夹紧气缸的驱动下与凹槽配合共同夹紧金属掩膜板。优选地，支架本体上还设置有风刀和/或除静电装置。优选地，清洗槽、置换槽中均设置有支撑结构，清洗槽、置换槽的开口处均设置有自动盖，其中，支撑结构包括：底座、框架、支撑凹槽、支撑滚轮，底座与清洗槽或置换槽的槽体固定连接，框架设置在底座上，支撑滚轮设置在框架的上部，用于滑动导向并支撑金属掩膜板，支撑凹槽，支撑凹槽设置在框架的底端，用于支撑并固定金属掩膜板；自动盖用于在金属掩膜板取出或放入清洗槽或置换槽时打开，在其他时间保持关闭。优选地，还包括溶剂再生区域，溶剂再生区域中设置有蒸馏塔，蒸馏塔用于采用油浴的方式对从清洗槽排出的清洗溶剂进行再生处理。优选地，还包括置换溶剂区域，置换溶剂区域中设置有多级除水装置，用于对从置换槽排出的置换溶剂进行再生处理，其中，多级除水装置中至少包括一个离心除水装置。优选地，上料区域中还设置有上料槽，上料槽为空槽；和/或，清洗区域和置换区域之间还设置有第一转移槽，第一转移槽为空槽，且能够在清洗区域和置换区域之间移动；和/或，置换区域和干燥区域之间还设置有第二转移槽，第二转移槽为空槽，且能够在置换区域和干燥区域之间移动。从而，本专利技术通过提供一种掩膜板清洗装备，可以有效去除金属掩膜板附着的有机物颗粒和其它颗粒污染物，通过精密的机械传动设计，实现了连续高效清洗。监测装置的设计可以及时发现清洗过程中发现的问题，可以避免出现批量不合格产品，极大的提高了生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其它的实施附图。本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本专利技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。图1为本专利技术的精细金属掩膜板示意图；图2为本专利技术的一种金属掩膜板清洗设备整体布局图；图3为本专利技术的一种金属掩膜板清洗设备中提升机构示意图；图4为本专利技术的一种金属掩膜板清洗设备中夹紧装置示意图；图5为本专利技术的一种金属掩膜板清洗设备中清洗槽结构示意图。附图标记：111-上料卡夹，112-下料卡夹，113-处理卡夹，211-上料槽，221-第一清洗槽，222-第二清洗槽，223-第三清洗槽，224-第四清洗槽，231-第一转移槽，232-第二转移槽，241-第一置换槽，242-第二置换槽，251-干燥槽，31-掩膜板框架，32-掩膜条，41-上料区域，411-上料机械手，412-第一姿态转换装置，42-清洗区域，421-第一提升机构，422-第二提升机构，423-第三提升机构，424-第一溶剂实时监测装置，425-第二溶剂实时监测装置，43-置换区域，431-第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属掩膜板清洗设备，其特征在于，包括依次设置的上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域，以及用于在所述上料区域、所述清洗区域、所述置换区域、所述干燥区域、所述下料区域之间传输金属掩膜板的传输机构，其中，/n所述上料区域中设置有上料卡夹、上料机械手、第一姿态转换装置，所述上料卡夹用于承载金属掩膜板，所述上料机械手用于将金属掩膜板从所述上料卡夹上移动至所述第一姿态转换装置上，所述第一姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至清洗姿态；/n所述清洗区域中设置有清洗槽，所述清洗槽用于去除金属掩膜板表面附着的有机材料；/n所述置换区域中设置有置换槽，所述置换槽用于置换金属掩膜板表面的附着物；/n所述干燥区域中设置有干燥槽，所述干燥槽用于对金属掩膜板表面进行干燥；/n所述下料区域中设置有下料卡夹、下料机械手、第二姿态转换装置，所述下料卡夹用于承载金属掩膜板，所述下料机械手用于将金属掩膜板从所述第二姿态转换装置上移动至所述下料卡夹上，所述第二姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至传输姿态；/n其中，所述清洗区域和置换区域中均设置有监测装置，所述监测装置用于检测所述清洗槽中溶剂和所述置换槽中溶剂的颗粒物浓度，当监测到所述颗粒物浓度超过第一阈值时，发出报警。/n...

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜板清洗设备，其特征在于，包括依次设置的上料区域、清洗区域、置换区域、干燥区域、下料区域，以及用于在所述上料区域、所述清洗区域、所述置换区域、所述干燥区域、所述下料区域之间传输金属掩膜板的传输机构，其中，
所述上料区域中设置有上料卡夹、上料机械手、第一姿态转换装置，所述上料卡夹用于承载金属掩膜板，所述上料机械手用于将金属掩膜板从所述上料卡夹上移动至所述第一姿态转换装置上，所述第一姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至清洗姿态；
所述清洗区域中设置有清洗槽，所述清洗槽用于去除金属掩膜板表面附着的有机材料；
所述置换区域中设置有置换槽，所述置换槽用于置换金属掩膜板表面的附着物；
所述干燥区域中设置有干燥槽，所述干燥槽用于对金属掩膜板表面进行干燥；
所述下料区域中设置有下料卡夹、下料机械手、第二姿态转换装置，所述下料卡夹用于承载金属掩膜板，所述下料机械手用于将金属掩膜板从所述第二姿态转换装置上移动至所述下料卡夹上，所述第二姿态转换装置用于将金属掩膜板调整至传输姿态；
其中，所述清洗区域和置换区域中均设置有监测装置，所述监测装置用于检测所述清洗槽中溶剂和所述置换槽中溶剂的颗粒物浓度，当监测到所述颗粒物浓度超过第一阈值时，发出报警。


2.如权利要求1所述的金属掩膜板清洗设备，其特征在于，在所述下料区域一侧还设置有检查区域，所述检查区域中设置有检查平台，用于检查金属掩膜板表面的有机物残留量和金属掩膜板损伤程度。


3.如权利要求2所述的金属掩膜板清洗设备，其特征在于，所述下料区域中还设置有处理卡夹，所述处理卡夹用于承载有机物残留量超过第二阈值和/或金属掩膜板损伤程度超过第三阈值的金属掩膜板。


4.如权利要求1所述的金属掩膜板清洗设备，其特征在于，所述传输机构包括沿所述上料区域、所述清洗区域、所述置换区域、所述干燥区域、所述下料区域排列方向设置的导轨，以及设置在所述导轨上的可沿所述导轨移动的多个提升机构，其中，
所述提升机构包括：立柱、横梁和提取支架，其中，
所述立柱设置在所述导轨上，且能沿所述导轨移动；
所述横梁设置在所述立柱上，且沿与所述导轨垂直的方向延伸。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨卓，
申请(专利权)人：北京七星华创集成电路装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11